「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a multilayer wiring board which minimizes the variation of the conductor wiring layer line width, has a high adhesion strength to an insulation resin layer enough to avoid locally stripping the conductor wiring layer and has a high heat resistance and a high reliability.例文帳に追加

導体配線層線幅のばらつきを最小限にし、かつ、絶縁樹脂層との高い接着強度を有し、局所的に導体配線層の剥離の起こらず、かつ、耐熱性が高く、信頼性の高い多層配線基板を提供する。 - 特許庁

The electrode fingers of the comb-line electrodes constituting the IDTs (11-13 or 21-23) are arranged with the width and interval of about 1/4 wavelength of surface acoustic waves excited by the IDTs (11-13 or 21-23).例文帳に追加

これらのＩＤＴ（１１〜１３または２１〜２３）を構成する前記櫛歯状電極の電極指は、前記ＩＤＴ（１１〜１３または２１〜２３）により励振される弾性表面波のほぼ１／４波長の幅と間隔で配置されている。 - 特許庁

To provide a positive-radiation-sensitive resin composition containing an anthracene-based carboxylic acid component and capable of effectively controlling line width variation in resist patterns due to fluctuation in the resist film thickness on a highly reflective substrate as a composition for deep ultraviolet rays.例文帳に追加

アントラセン系カルボン酸成分を含有し、遠紫外線用として、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

One of edges of the A electrode 2 and B electrode 3 is linear and the other is in a mountain shape such that the electrode width smoothly varies according to a curve or straight line, a fixed spacing being provided between the A electrode 2 and B electrode 3.例文帳に追加

Ａ電極２及びＢ電極３の縁部の一方は直線状、他方は曲線又は直線により電極幅が滑らかに変化するような山形の形状とし、Ａ電極２とＢ電極３との間には一定の間隔を設ける。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method that can suppress the formation of abnormal shapes of an object to be etched by gases and can ensure the line width controllability in a PEB process by degassing a photo resist before conducting the PEB process.例文帳に追加

ＰＥＢ工程を行う前にフォトレジスト内のガスを抜くことにより、ガスによる被エッチング物の形状異常の発生を抑制し、かつ、ＰＥＢ工程による線幅制御性を確保することができる半導体装置の製造方法を実現する。 - 特許庁

To provide a multi-scanning type exposure device capable of carrying out satisfactory projection exposure using a plurality of projection optical units while suppressing difference in the line width of a pattern image formed in a superposed exposure region via two projection optical units adjacent to each other.例文帳に追加

互いに隣接する２つの投影光学ユニットを介して重複露光領域に形成されるパターン像の線幅差を小さく抑え、複数の投影光学ユニットを用いて良好な投影露光を行うことのできるマルチ走査型の露光装置。 - 特許庁

A carcass line of a portion 5a of the carcass layer 5 positioned in a region K corresponding to an edge 8e of the belt layer 8 having the maximum belt width BW among the plurality of belt layers 8, 9 is formed into such a shape as to be recessed to the tire outside at a tire meridian cross section.例文帳に追加

複数のベルト層８，９の内、最大ベルト幅ＢＷを有するベルト層８のエッジ８ｅに対応する領域Ｋに位置するカーカス層５の部分５ａのカーカスラインが、タイヤ子午線断面でタイヤ外側に窪む形状になっている。 - 特許庁

An in-plane trend component that can be improved by setting the temperature correction value is extracted from a plurality of calculated in-plane trend components Zn and are added to calculate an improvable in-plane trend Za in the measured line width (S3).例文帳に追加

次に，その算出された複数の面内傾向成分Ｚｎから，温度補正値の設定により改善可能な面内傾向成分を抜き出し，それらを足し合わせて，測定線幅における改善可能な面内傾向Ｚａを算出するＳ３。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which realizes both of desired high sensitivity and high resolution, which can form a rectangular profile and which decreases changes in the line width during post exposure after irradiation of ionization radiation under reduced pressure.例文帳に追加

所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To expose a high-quality image of high picture quality which is less in fluctuation of areas of rectangles caused by fluctuation of line width upon forming an image of repeated rectangular patterns in image drawing by digital scanning exposure using a spatial modulation element such as a DMD (Digital Micromirror Device).例文帳に追加

ＤＭＤなどの空間変調素子を用いたデジタルの走査露光による描画において、長方形パターンを繰り返す画像を形成する際に、線幅の変動に起因する長方形の面積変動の少ない高画質な画像を露光する。 - 特許庁

To easily perform marking or the like for a cutting surface lowered from a finishing surface by a prescribed width in a ruler externally fitted to a raising pipe to be used when providing a cutting line in the pipe to provide a manhole.例文帳に追加

マンホールを設けるために嵩上げパイプに切断線を設ける際に使用するパイプに外嵌する定規において、仕上げ面から所定幅下がった切断面に容易に罫書き等のマーキングをすることができるようにすることを課題とする。 - 特許庁

Owing to in-wafer hardened parts 10b corresponding to the cutting lines 1b in the wafer, the line width of the wafer-outside hardened parts 10c corresponding to the extensions of the cutting lines 1b is increased to cope with the deviation of cuts of the dicing blade, if any.例文帳に追加

ウエハ内の切断ライン１ｂに対応して硬化されるウエハ内硬化部１０ｂより、切断ライン１ｂの延長部に対応するウエハ外硬化部１０ｃのライン幅を大きくすることで、ダイシングブレードの切り込みがずれた場合に対処する。 - 特許庁

The connection lines S3a, S3b are formed smoothly so as to have no angle while gradually increasing the line width and, by using such connection lines S3a, S3b, the characteristic impedances between the signal transmission lines P3a, P3b and the loads are smoothly reduced.例文帳に追加

接続線路Ｓ３ａ，Ｓ３ｂは、線路幅を漸次増加させつつ角を持たないように滑らかに形成され、この接続線路Ｓ３ａ，Ｓ３ｂにより信号伝送線路Ｐ３ａ，Ｐ３ｂと負荷の間の特性インピーダンスが滑らかに減少する。 - 特許庁

To provide a compound machine tool, reduced in tool width to achieve size reduction, so that the whole installation space is reduced in the case of application to a production machining line in which a single-spindle machine tool and a compound machine tool are intermingled.例文帳に追加

機械幅を小さくして小型化を図ることができ、単軸工作機械及び複合工作機械が混在する生産加工ラインに適用した場合に全体の設置スペースを縮小することができる複合工作機械を提供する。 - 特許庁

In a two dimensional coordinate system including the work area M, intersection points c of a work line group including work lines Lvtc extended along the set work angle θ and set for each work width W respectively, and an outer periphery of the work area M are detected.例文帳に追加

作業エリアＭを含む二次元座標系において、設定された作業角度θ方向に延在する作業ラインＬvtcが作業幅Ｗ毎に設定された作業ライン群と、作業エリアＭの外周との交点ｃが検出される。 - 特許庁

This manufacturing device of foursquare line 1 comprises a cutting device 4 adapted to cut thin-film sheet material 2 having a fixed thickness and front/back sides in parallel with each other in a feeding direction of the sheet material 2 by a fixed width orthogonally with the front/back sides.例文帳に追加

所定の厚みを有し表裏面が互いに平行な薄板状のシート材２を、そのシート材２の送り方向に所定幅で且つ表裏面に直交して切断する切断装置４を備えて真四角線の製造装置１を構成する。 - 特許庁

Thus, stress from squeeze of a seal plate is mitigated, the physical torsion of a mesh constituting the seal plate is reduced as much as possible and the dispersion of the printing accuracy, especially the line width, of the main seal pattern 2 inside the liquid crystal panel is suppressed to be extremely small.例文帳に追加

これにより、シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内の本シールパターン２の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

The set temperature of a heater 62 being built in a heating plate 61 is adjusted from the correlation between the previously found step and the final line width of a pattern consisting of a coating film on the substrate in after continuous treatments on the substrate so that the step is confined within the prescribed extent.例文帳に追加

予め求められている前記段差と一連の基板処理後の最終線幅との相関関係から，前記段差が所定の範囲内に納まるように，熱板６１に内蔵されているヒータ６２の設定温度を調節する。 - 特許庁

After a working work (A01) in each process, intermediate product quality management items (for example, the line width, film thickness, and brightness level of each circuit element) are measured (A02), and the measured result is transmitted through a network LAN (A03) to a production management system (A04).例文帳に追加

各工程の加工作業（Ａ０１）後に、中間製品の品質管理項目（例えば、各回路素子の線幅、膜厚、光沢度等）の測定を行い（Ａ０２）、測定結果がネットワークＬＡＮ（Ａ０３）を通じて生産管理システム（Ａ０４）へ送られる。 - 特許庁

Cushion rubber 52 is arranged above the spot welding 44B of the lower part in the rear of a line L of connecting a position of the spot welding 44B and 44C of the upper part and the lower part of the impact beam 28 on the inside in the vehicle width direction of the door inner panel 42.例文帳に追加

ドアインナパネル４２の車両幅方向内側には、インパクトビーム２８の上部と下部のスポット溶接４４Ｂ、４４Ｃの位置を結んだ線Ｌの後方であって、下部のスポット溶接４４Ｂより上方にクッションゴム５２が設けられている。 - 特許庁

Cutouts lining generally central part in a width direction W perpendicular to the lining direction L and extending along in the line direction L are formed or cutting accelerating machining (hereinafter both of them are referred to as "cutouts or others 12") are carried out in the adhesive label 10.例文帳に追加

粘着ラベル１０が、並び方向Ｌに直交する幅方向Ｗのほぼ中央部に並び方向Ｌにほぼ沿って切り込みを形成し又は切断促進加工（以下、これら双方を「切り込み等１２」という。）を施されている。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which produces an effect of improving a margin for exposure (in particular, a margin for the exposure of isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, ensures a small change in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Additionally, plate width around the hole 10a for the cylinder of the inside part 10A is made narrow at a position near a straight line passing a center O of the hole 10a for the cylinder and a center of a bolt hole 10c and wider as it parts from there in the peripheral direction.例文帳に追加

そして、内側部分１０Ａのシリンダ用孔１０ａ周りの板幅は、シリンダ用孔１０ａの中心Ｏとボルト孔１０ｃの中心とを通る直線に近い位置では狭く、そこから周方向に離れるに従って広くする。 - 特許庁

Further, the abutment part is in a groove 41b formed in a bus line direction around the outside of a friction ring 41 annularly mounted on the outside of the lock ring, and is formed as an opposed side part having predetermined width on the revolving direction side of the lock ring during separation operation.例文帳に追加

また、当接部は、ロックリングの外側に環装した摩擦リング４１の外側周囲の母線方向に形成した溝４１ｂあって、分離操作時のロックリングの周回方向側に所定幅をもった対向辺部として形成する。 - 特許庁

To provide a method of exposing which can control a pattern line width by correcting a proximity effect by making a dose in a small region on a substrate to be transferred uniform even when a pattern array on a master and a pattern array on the substrate to be transferred are different.例文帳に追加

原版上のパターン配列と被転写基板上のパターン配列が異なる場合にも、被転写基板上小領域内のドーズ量を一様にして近接効果を補正し、パターン線幅制御を行うことのできる露光方法等を提供する。 - 特許庁

At this time, the operating angles of the inboard joint and outboard joint can be made small by inclining output shafts of the driving units to form prescribed inclined angles in relation to a vertical surface perpendicular to a center line in a vehicle width direction of a vehicle.例文帳に追加

このとき、駆動ユニットの出力軸が、車両の車幅方向の中心線に直角な鉛直面に対して所定の傾斜角をなすように傾斜させることにより、インボードジョイント及びアウトボードジョイントの作動角を小さくすることができる。 - 特許庁

Since the surface energy of the base film is smaller than that of the object to be printed with a printed matter, the printed matter is less pulled outwards and the width of a line part of even a fine pattern can be maintained, preventing the generation of bleeding.例文帳に追加

このため、印刷用下地膜の表面エネルギが被印刷物の表面エネルギに比べて小さいため、印刷物が外側に引っ張られる量も小さくなり、ファインパターンであってもライン部分の幅を保持して滲みの発生を抑制することができる。 - 特許庁

To provide equipment and a method for cooling a steel sheet by which cooling water is supplied uniformly in the width direction even when the thickness of the steel sheet is varied and the whole steel sheet is uniformly cooled in a hot-rolling line of the steel sheet.例文帳に追加

鋼板の熱間圧延ラインにおいて、鋼板の板厚が変わっても冷却水を鋼板幅方向に均一に供給でき、鋼板全体を均一に冷却することができる鋼板の冷却設備および冷却設備方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem of a shrinking wire, a short circuit, or line width failure due to variation of micro gap immersion property of an etching solution occurred while forming a micro wiring, without using a high-precision etching mask forming facility.例文帳に追加

高精度なエッチングマスク形成設備を使用せずに微細配線形成で発生するエッチング液の微細間隙侵入性のばらつきによる配線の細りや短絡不良やエッチング時の基板の面内で発生するライン幅精度不良を解決する。 - 特許庁

The modified region 7 to be a cut start point is formed on a GaAs substrate 12 along a planned cut line 5 by irradiating the processing object with a laser beam L, i.e., a pulsed laser beam with a pulse width of 31-54 ns and a pulse pitch of 7.5-10 μm.例文帳に追加

３１ｎｓ〜５４ｎｓのパルス幅で且つ７．５μｍ〜１０μｍのパルスピッチで、パルスレーザ光であるレーザ光Ｌを照射することにより、切断の起点となる改質領域７を切断予定ライン５に沿ってＧａＡｓ基板１２に形成する。 - 特許庁

A belt-like material 4 is configured so that many steel cords 2 laid in line transversely are passed between rolls 33 of a calendar device, covered with rubber 3 rigidly, and embedded in the condition that they are laid at a certain spacing in the width direction.例文帳に追加

横一列に並ぶ多数のスチールコード２をカレンダ装置のロール３３間に通過させて当該スチールコード２にゴム３を一体に被覆し、当該スチールコード２が幅方向に所定間隔おきに並んだ状態で埋設された帯状素材４を得る。 - 特許庁

Loading effect and/or fogging effect for changing a CD are calculated, mask CD data are corrected in advance by the calculation, and exposure is made by correction pattern data, thus correcting line width in a pattern, without generating process loss due to additional exposures.例文帳に追加

ＣＤを変化させるローディング効果及び／またはフォギング効果を計算し、これによりマスクＣＤデータをあらかじめ補正し、補正されたパターンデータにより露光することにより、追加露光による工程損失の発生なしにパターンの線幅を補正できる。 - 特許庁

The surface antenna element 14 is formed of copper foil in a meander line shape having a width W (e.g. 0.5 mm) and a size L1 (e.g. 100 mm)×L2 (e.g. 20 mm), and connected to a feeder through the feed portion 16.例文帳に追加

表面アンテナ素子１４は、銅箔により幅がＷ（例えば０．５ｍｍ）、かつサイズがＬ１（例えば１００ｍｍ）×Ｌ２（例えば２０ｍｍ）のメアンダライン形状に形成されており、給電部１６を介して給電線に接続されている。 - 特許庁

The CPU 300 includes a line-width definition section 323, a control section 304 which gives a focus condition multiplied an amount of focus deviation by the focus scaling to the simulator 325, a correction section 305 adding the correcting dimension bias value to the result calculated by the simulator 325, and a lithography equipment controlling section 326.例文帳に追加

さらにCPU300は、線幅定義部323、焦点ズレ量にフォーカススケーリングを乗じた焦点条件をシミュレータ325に与える制御部304、シミュレータ325の算出結果に補正用寸法バイアス値を加える補正部305及びリソグラフィー装置制御部326を備える。 - 特許庁

The supporting shaft 3 is offset on one side face side of the seat board to the width center line of the seat board, and the seat board and the latch 11 are turned relatively at approximately 180° and the engaging plate 21 for the latch 11 is positioned in the cross direction of the seat board 2.例文帳に追加

前記支持軸３を座板の幅中心線に対して座板の一側面側にオフセットし、座板と掛け金具１１を相対的にほぼ１８０°回転させて掛け金具１１の係合板２１を座板２の幅方向に位置調整する。 - 特許庁

The center of an open surface of each dimple is located on the outer side in the tire axial direction from a pinch cut area Qb between the positions separate by 8 mm and by 13 mm, respectively, outward of the tire axial direction from the tire radial line passing through the rim width position.例文帳に追加

リム巾位置を通るタイヤ半径方向線からタイヤ軸方向外側に８ｍｍ隔たる位置と１３ｍｍ隔たる位置との間のピンチカット領域Ｑｂよりもタイヤ軸方向外側に、前記ディンプルの開口面の中心が位置する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which has an improved effect on a margin for exposure (particularly a margin for the exposure of isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, which is less liable to cause a change of the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

This transplanter has a wiredrawing marker 29 to draw a running mark line on a farm field, and an auxiliary marker 29a capable of setting a transplanting width between the levee by running its top end along the levee and the auxiliary marker 29a is installed on the marker 29.例文帳に追加

圃場面に走行指標線を描く線引きマーカ２９、及び先端が畦に沿うように走行させることにより畦との間に植え付け幅を得ることができる補助マーカ２９ａを備えて、補助マーカ２９ａを線引きマーカ２９に備える。 - 特許庁

A color identification marking is continuously arranged roughly over the longitudinal direction of at least one side face 15 of a square steel tube 10 and at a position set apart from a center section (chain line L section) of its width direction W by using an anticorrosive paint.例文帳に追加

角型鋼管１０の少なくとも一側面１５の長手方向のほぼ全体に渡り、且つ、その幅方向Ｗの中央部位（鎖線Ｌの部位）から外れた位置に、錆止め塗料を用いて、連続的に色彩による識別表示を設ける。 - 特許庁

On the assumption that the cross section of the rack-forming portion is a circle with the same diameter as the supported portion, a given distance from the center of the circular cross section to the reference pitch line of the rack is decisive of the face width of the rack.例文帳に追加

ラック形成部の軸直角断面を支承部と同径の円形断面と仮定し、この円形断面の中心からラックの基準ピッチ線までの距離を所定寸法に設定したときに、この所定寸法によってラックの歯幅が定まる。 - 特許庁

To stably conduct trimming of a running steel strip for changing the width of a welding part between a preceding strip and a following strip even if a narrow part exists greatly at each of the tail end of a preceding strip and the leading edge of a following strip, which are supplied to a continuous treatment line.例文帳に追加

連続処理ラインに供される先行材の尾端および後行材の先端それぞれに大きな幅狭部分が存在する場合であっても、先行材と後行材との溶接部の走間幅変更トリミングを安定して実現する。 - 特許庁

The width of the meander lines of the fold-back dipole antennas 11, 12 is stepwise narrowed in the vicinity of the feeding ends 13, 14 and the feeding ends 15, 16 to configure the meander line so as not to be overlapped on lead conductors connected to the feeding ends 13, 14 and the feeding ends 15, 16.例文帳に追加

給電端１３、１４および１５、１６の近傍で折り返しダイポールアンテナ１１と１２のメアンダラインの幅を段階的に狭くして、給電端１３、１４と給電端１５、１６に接続する引き出し導体と重ならない構成にする。 - 特許庁

This method of the present invention determines a line-directional width of a table defined using a tag <table> in a content, according to a prescribed criterion, and selects and executes proper table layout processing out of the plurality of table layout processing, according to a determination result therein.例文帳に追加

コンテンツ内の、タグ<table>を用いて定義されたテーブルの行方向の幅に関し所定の判定基準にしたがって判定を行い、該判定の結果にしたがって、複数のテーブルレイアウト処理の中から適切なテーブルレイアウト処理を選択して実行する。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation apparatus using an ink jet method which can easily manage the width of a resist line and can respond to fine pattern formation and can prevent the generation of a satellite (mist) and makes double-sided image formation possible.例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

Upon combining alternately various sizes of rolling bodies 2 and 3 by means of connecting metal fixtures 4, both edges of a rolling body 3 are passed through a groove which is arranged on an inner part of the bearing and also whose width includes the loci of central points of the rolling bodies 2 and 3 on its center line.例文帳に追加

違う大きさの回転体２と３を、連結金具４によって交互に連結してベアリング内側面に設けられた、回転体２と３の中心点の軌跡を中心線にもつ幅の溝に、回転体３の両端が通るようにする。 - 特許庁