line-widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3395件
Namely, the edge position of the device pattern 1 is changed so as to eliminate the step 1a, and the line width of the assist pattern 2 is changed so as to adjust a change in transfer shape resulting from the elimination of the step 1a from the device pattern 1.例文帳に追加
デバイスパターン1は、段差1aを消失させるように、そのエッジ位置を移動させ、アシストパターン2は、デバイスパターン1から段差1aを消失させたことによるその転写形状の変化を調整するように、線幅を変化させる。 - 特許庁
To achieve an adjustment of a highly precise joint by changing the width of a toner image line and uniquely relating a signal of a detecting means to a light beam when a position or a gap is detected by dividing the light beam and using it for scanning to form an image.例文帳に追加
光ビームを分割走査して画像を形成する際位置又は間隔を検知するにあたりトナー像ラインの幅を変えて、検知手段の信号とビームを一義的に対応づけて、高精度の繋ぎ目調整を達成すること。 - 特許庁
The width of the first cell power supply line 104 is determined in accordance with the power consumption in the first standard cell 108 and the number of standard cells which can be arranged between the first power supply strap 101 and a third power supply strap 103.例文帳に追加
第1のセル電源線104の幅は、第1のスタンダードセル108の消費電力と、第1の電源ストラップ101と第3の電源ストラップ103の間に配置できるスタンダードセルの個数に応じて決定する。 - 特許庁
The conducting film pattern formed in the scribe line region is made smaller than a pad pitch of an external terminal pad and greater than a lead wire width, thereby making it possible to prevent the occurrence of the short circuit between lead wires, when the conducting film is rolled up by dicing.例文帳に追加
このスクライブライン領域に形成する導電膜パターンを、外部端子パッドのパッドピッチより小さく且つリード線幅より広くする事により導電膜がダイシングにより捲れ上がってもリード線間ショートの発生を防止できる。 - 特許庁
The plurality of the holes 6a are arrayed on a substantially straight line along the tape width, and are disposed downward under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at the copper wiring pattern layer forming time from the copper layer 1 or are disposed in the lower vicinity region.例文帳に追加
穴6aは、テープ幅に沿った略直線上に複数配列し、銅層1からの銅配線パターン層形成時のパターンニングにより銅層1の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition having an improving effect on a margin for exposure (particularly through isolated lines) in the production of a semiconductor device, that is, less liable to a change of the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、露光マージン(特に孤立ラインの露光マージン)に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
An input signal, which is sent from the VINPUT of the input signal source in a character impedance, to the positive input terminal of an amplifier A1 in the range of the prescribed band width through the transmission line T1 and signal limiting diode bridges D1-D4.例文帳に追加
ある特性インピーダンスの入力信号源VINPUTからの入力信号を、伝送線T1、信号制限用ダイオード・ブリッジD1〜D4を介して、所定帯域幅範囲の増幅器A1の正入力端に供給する。 - 特許庁
The width of the groove 3 is the value expressed by l×ΔT×η (l represents the length of the chip region, ΔT represents a temperature difference of the front surface and the rear surface of the substrate at the time of laser annealing, and η represents a line coefficient of thermal expansion of the substrate.).例文帳に追加
溝3の幅は、l×ΔT×η(lは、チップ領域の長さを示し、ΔTは、レーザーアニール時の基板表面と裏面の温度差を示し、ηは、基板の線熱膨張率を示す。)で表される値とする。 - 特許庁
To provide a mask, a manufacturing method thereof, and further, an exposure apparatus and a method using the mask wherein an exposure pattern having a small line-width is formed without increasing the aspect ratio of the opening pattern of the mask, and the mask is durable.例文帳に追加
開口パターンのアスペクト比を大きくすることなく線幅の小さい露光パターンが形成され、かつ耐久性のあるマスクおよびその製造方法、さらには、このマスクを用いた露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁
The fluorescent lamp 4 and the incandescent lamps 5A, 5B are arranged in a straight line in the front view, and a part of the fluorescent lamp 4 exists within the front and rear width of the left and right incandescent lamps 5A, 5B seen from the upper face.例文帳に追加
前記蛍光灯4と白熱灯5A,5Bとは、正面から見たときに直線状に並んでおり、上面から見たときに左右の白熱灯5A,5Bの前後幅内に蛍光灯4の一部が存在するようにしている。 - 特許庁
The boarder line 11 of the view field adjusting portion 10 provided on a lower end portion of a front window glass 1 is configured so as to uniformly descend and tilt from an apex T located at a position offset from the driver toward both sides of the car width.例文帳に追加
フロントウインドガラス1の下端部に設けた視界調整部分10の見切り線11が、運転者からオフセットした位置に配置した頂点Tから車幅方向両側に向けて一様に下降傾斜するように構成する。 - 特許庁
A stepped surface being the bottom surface of a flow channel of a separator is provided with protrudes of a plural number of rectangle bodies in the shape of lattice and ribs 96, 97 in the shape of a thin and long straight line to trisect the width on the stepped surface.例文帳に追加
セパレータの流路底面である段差面には、格子状に複数の直方体の凸部が形成されており、さらに、段差面上の幅を3等分するように本の直線状のリブ片96,97が配列されている。 - 特許庁
A line object 01 having a prescribed width is moved on a pattern on a special pattern display device 6 in a special pattern game while hiding a part of a displaying pattern 02(a), and is renewed to a new pattern 02(b).例文帳に追加
特図ゲームにおける特別図柄表示装置6上の図柄の上に、所定の幅を有するラインオブジェクト01を、表示されている図柄02(a)の一部を隠しつつ移動させることにより、新たな図柄02(b)への更新を行う。 - 特許庁
The invention concerns an electronic circuit module for a motor vehicle, in particular a fan regulator (4") with a control input (S) for a signal, in particular with a pulse width modulated signal, transmitted via a signal line (3).例文帳に追加
本発明は、自動車両用の電子回路モジュールであって、特にファンレギュレータ(4”)であり、信号線(3)を通じて伝送される信号、特にパルス幅変調信号のための制御入力(S)を有する電子回路モジュールに関する。 - 特許庁
For example, the next positional members facing the longitudinal wall positioned at the opposite side to the present joining line of the present positional member are subjected to tack welding each other at a prescribed interval in parallel with the friction-stirring joining, to function as the width directional deformation preventive means.例文帳に追加
例えば、現位の部材の現接合線の対側に位置する長手壁と対面する次位の部材同士を、摩擦攪拌接合と並行して所定間隔での仮付け溶接して、幅方向変形阻止手段とする。 - 特許庁
This clip is characterized by providing a clip body having linear parallel side faces, and projecting a plate body having linear parallel side faces having the same width as the clip body on the clip body so as to have each side face to be on the same line.例文帳に追加
直線状平行側面を有するクリップ本体を設け、クリップ本体と等幅の直線状平行側面を有する板体を、各々の側面が同一線上となるようクリップ本体に突設したことを特徴とする。 - 特許庁
After this, a groove part 12 is formed between adjacent chips by applying dicing cut to the glass wafer until the depth position in the adhesive resin layer 9 from the glass wafer 11 side on a scribe line 10 by a first dicing blade having a coarse grain size and a wide blade width.例文帳に追加
その後、粒度が粗くブレード幅の広い第1ダイシングブレードにより、スクライブライン10上をガラスウェハ11側から接着樹脂層9内の深さ位置までダイシングカットして、隣接チップ間に溝部12を形成する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加
有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁
Center positions of the plurality of projective beads 44 are alternately arranged at both sides in the vehicle width direction of the edge 40A of the belt line reinforcement 40, and a part of the outer rim 44B of the adjacent projective beads 44 contacts with the other.例文帳に追加
複数の凸状ビード44の中心位置は、ベルトラインリインフォース40のエッジ部40Aの車両幅方向両側に交互にずれて配置されており、隣り合う凸状ビード44の外縁部44Bの一部が接触している。 - 特許庁
Also, a shape in a plan view of the front end edge 18B of an inner rear 18, which constitutes the rear end edge 30A of the opening 30, is a bow-shaped line form of which the central part in the vehicle width direction protrudes to the front side of the vehicle body.例文帳に追加
また、開口部30の後端縁部30Aを構成するインナリヤ18の前端縁部18Bの平面視における形状は、車幅方向中央部が車体前方へ凸となった弓形線状となっている。 - 特許庁
The center peak of a diffracted beam pattern being detected is removed by a shield plate disposed in front of the line sensor or by applying an image processing thereto, thereby measuring the width to be measured of the micro tool based on the detected diffracted beam pattern.例文帳に追加
この検出される回折光パターンの中心ピークを、ラインセンサの前に設けた遮蔽板または画像処理によって取り除くことにより、検出された回折光パターンからマイクロ工具の被測定幅を測定する。 - 特許庁
In the high image quality mode, a recording width in at least one nozzle line is made to be an integral number of conveyance amount of a recording medium at a high-speed recording mode in which recording is performed by at least two times of scan to the same recording area.例文帳に追加
高画質記録モードにおける、少なくとも1つのノズル列での記録幅を、同じ記録領域に対して少なくとも2回の走査で記録を行う高速記録モードにおける、記録媒体の搬送量の整数倍とする。 - 特許庁
In the journaling portion 101, a notch 105 with a width N smaller than an outside diameter M of a pole swing shaft 12s is formed in the range of not crossing a straight line L1 connecting the fixing portion 103 and an axial center 104x of the through-hole 104.例文帳に追加
軸支部101には、固定部103と貫通穴104の軸心104xとを結ぶ直線L1と交差しない範囲においてポール揺動軸12sの外径Mよりも狭い幅Nの切欠105が形成されている。 - 特許庁
To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラインウィズスラフネス(LWR)性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a severing method enabling breaking by a three-point bending moment without damaging an electronic circuited part even if the width of depressible buffer zone is 250 μm or less in the vicinity of each scribe line.例文帳に追加
各スクライブライン近傍で押圧可能な緩衝領域の幅が片側250μm以下であっても、電子回路形成部分に損傷を与えることなく、3点曲げモーメントによってブレイクすることのできる分断方法を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
LWR、現像欠陥及びDOFが改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.例文帳に追加
高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁
Rotating the wafer 180° and performing the next etching treatment can roughly offset the influence (the difference of etching rate within the chamber, or the difference in the line width by micro-loading effect) specific to the chamber being etched immediately prior.例文帳に追加
ウェハーを180°回転させて次のエッチング処理を行うと、直前にエッチング処理したチャンバーにおける固有の影響(チャンバー内におけるエッチング速度の違いや、マイクロローディング効果による線幅の差異)をほぼ相殺することができる。 - 特許庁
To improve the contllability of the line width of a resist pattern, to suppress occurrence of microbubbles on the interface between the resist and developer, and to decrease developing defects.例文帳に追加
レジストパターニングの線幅制御性が高く、かつ、レジストと現像液の界面におけるマイクロバブルの発生を抑制し、現像欠陥の低減が可能である露光塗布現像装置、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an applicator capable of accurately and easily drawing the line of a fixed width on a nail regardless of a dominant hand especially in the case of french nails when enjoying a nail art, that is drawing pictures on the nails.例文帳に追加
ネイルアート、すなわち、爪に絵を画いて楽しむ際に、特にフレンチネイルの場合におけるように、爪に一定幅のラインを、正確に、かつ簡単に、しかも利き手か否かに関係なく、描ける塗布具を提供することを目的とする。 - 特許庁
Once the image data correcting processing to be performed is determined, bit image data generated at S110 are divided into bit image data with specific line width based upon the processing coentents of the image data correcting processing (S130).例文帳に追加
これにより、ユーザは、フォトレタッチのようなアプリケーションによる画像データの修整に加えて、プリンタドライバのRGBデータに対して画像データ修整処理を実施することが可能になり、より高速な修整処理を実現することが可能なる。 - 特許庁
A servo pattern is constituted of plural patterns arranged on both sides of a track central line while shifting in the track direction, and respective patterns A, B are constituted so that respectively two kinds of phase state patterns 11, 12, 13, 14 are arranged in the track width direction.例文帳に追加
サーボパターンをトラック中心線の両側にトラック方向にずらして配置した複数のパターンで構成し、各パターンA,Bはそれぞれ2種類の位相状態のパターン11,12;13,14をトラック幅方向に並べて構成する。 - 特許庁
The opening of the via-hole on the front side of the substrate 109 is formed to be rectangular, and the long side of the rectangular opening is selected nearly the same as the width of the transmission line 103 to be capable of effectively reducing the earthing inductance.例文帳に追加
基板109の表面におけるバイアホールの開口を長方形に形成し、この長方形の開口の長辺を、伝送線路103の幅と略同じ長さにすることにより、接地インダクタンスを効果的に低減できる。 - 特許庁
If the groove 12 has a width two times as large as the thickness of the back electrode to be formed afterward, the position of the groove can be measured with a CCD camera after the back electrode is formed, thereby determining the dicing line.例文帳に追加
溝12が後に形成する裏面側電極の厚みの二倍以上の幅を持っていると、裏面側電極形成後もCCDカメラによる溝位置の計測が可能で、これをもとにダイシングラインを決定することができる。 - 特許庁
To provide a heat developable photosensitive material having high image density (Dmax) and nearly free of the increase of line width in development at high temperature and high humidity as a heat developable photosensitive material particularly for a photoengraving and particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加
特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、高い画像濃度(Dmax)を有し、高温高湿下の現像時の線幅の太りが小さい熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁
A titanium silicide layer 18 can increase margin to fine line effect by more than the actual wiring width by the increase amount of the surface area of a silicon region of a foundation, due to irregularities of the polysilicon surface 16a and the silicon surface 16b.例文帳に追加
ポリシリコン面16a、及びシリコン面16bの凹凸により下地のシリコン領域の表面積が増加した分だけ、チタンシリサイド層18は、実際の配線幅よりも細線効果に対するマージンを増やすことができる。 - 特許庁
In the target for magnetron sputtering, both the end parts of the short side in the target 11 are provided with magnetic materials 12 for reducing magnetic force, which is rectangular, wherein the short side length of the target is the width, and the range from the short side edge to the straight line position of erosion is almost the length.例文帳に追加
ターゲット11の短辺両端部に、巾をターゲットの短辺長とし、長さを短辺端からエロージョンの直線となる位置までを略その長さとする矩形状の、磁力低減用の磁性材12を設けたこと。 - 特許庁
This electron beam transfer and exposure method is a method wherein the worst value of the beam edge resolution 61 of an electron optical system for projecting a pattern on a reticle on a responsive substrate is 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width of an electron beam in the pattern.例文帳に追加
本発明の電子ビーム転写露光方法は、レチクル上のパターンを感応基板上に投影する電子光学系のビームエッジ分解能61の最悪値がパターン中の最小線幅の0.9〜1.0倍である。 - 特許庁
The lug channel 5 is the gradually reduced channel in which a channel width is enlarged on a tire center line CL side, and main channel parts 3a, 4a on the right and left sides between the lug channels 5 are inclined so that they are enlarged and opened toward the reverse direction to the direction T of rotation of the tire.例文帳に追加
ラグ溝5はタイヤセンターラインCL側で溝幅を広くした漸減溝で、ラグ溝5間の左右の主溝部分3a,4aはタイヤ回転方向Tとは逆方向に向けて拡開するように傾斜している。 - 特許庁
Printing is made on a recording sheet by using a print head 50 in which a plurality of nozzles to discharge ink are arranged according to an entire width of a printing medium along a main scanning direction, and a thus printed image is read by a line sensor 120.例文帳に追加
インクを吐出する複数のノズルが主走査方向に沿う印字媒体の全幅に対応して配列された印字ヘッド50を用いて記録紙に印字を行い、その印字された画像をラインセンサ120によって読み取る。 - 特許庁
When the output signal difference is smaller than the predetermined value in the entire area, a boundary line in which the output signal difference (light intensity difference) from the information of the document area at the first detection is the threshold or less is determined so as to determine the width size of the document.例文帳に追加
出力信号差が全領域に亘って所定値よりも小さい場合は、第1検知の原稿領域情報から出力信号差(光量差)が閾値以下の境界ラインを判定し、原稿の幅サイズを決定する。 - 特許庁
Through-holes 1a are installed formed in a line in the length and width directions in an insulation sheet 1 serving as a base material for the electrical connector 10, and a through-hole electrode 1b, on which a gold plated layer 4 is formed, is formed on the surface the inside which a conductive paste 3 is filled.例文帳に追加
電気コネクタ10の基材としての絶縁シート1には、スルーホール1a縦横に整列して形成され、導電ペースト3を充填し表面に金メッキ層4を施したスルーホール電極1bが形成されている。 - 特許庁
To provide a negative type resist composition capable of achieving both desired high sensitivity and high resolution, giving rectangular profile and ensuring a reduced change of line width when allowed to stand after irradiation with ionizing radiation under reduced pressure.例文帳に追加
所望の高感度及び高解像度の両立を達成することのでき、矩形プロファイルが得られ且つ減圧条件下における電離放射線照射後引き置き時の線幅変化が低減されたネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a silver halide photographic sensitive material which is hardly affected by a change in the line width of a mask pattern and ensures good smoothness of the edges of a formed pattern when an original pattern is formed with a photo-plotter using laser light or light of a light emitting diode.例文帳に追加
レーザー光または発光ダイオード光を用いたフォトプロッターで原画パターンを描画する際に、マスクパターンの線巾変動を受けにく、描画パターンエッジのスムースネスが良いハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁
As an assist for parking a vehicle 1 in a parking position 40 by backward drive, guide lines 5b showing the vehicle width which are extended in parallel are displayed together, as shown in (a), together with an approach predicted curve line 5a over a backward image.例文帳に追加
(a)に示すように、車両1が後進して駐車位置40に駐車する際の支援として、後方の映像に重ねて、進行予測曲線5aとともに、車幅を平行に延長したガイドライン5bを表示する。 - 特許庁
To provide a scanning electron microscope apparatus which enables to get always a high accuracy SEM image and line width measurement value without giving damage or the like to an object of measurement (observation) even under a high magnification, and a method of a length measurement with the microscope apparatus.例文帳に追加
高倍率下においても測定(観察)対象物にダメージ等を与えず、常に高精度なSEMイメージと線幅測定値とを得ることができる走査型電子顕微鏡装置と該装置による測長方法を提供する。 - 特許庁
A plate right end (indicated by a broken line) to be delivered by the width t same as the thickness t from a base end 50b is cut by pressing down a cutting unit 60 having a blade part 60a for shearing in the direction of an arrow (α).例文帳に追加
ベース端50bから厚みtと同じである幅tだけ繰り出されているプレート右端部(破線で示す)は、シェアリング(せん断)用の刃部60aを有する切断部60を矢視(イ)の方向に押し下げることにより切断される。 - 特許庁
To provide a method of forming a relief pattern in which a relief pattern having a fine line width and a large film thickness is efficiently, easily and securely formed with high precision, and to provide a relief pattern stuck base.例文帳に追加
線幅が微細であるとともに、膜厚が大きなレリーフパターンを高い精度で効率よく、簡便かつ確実に形成することができるレリーフパターンの形成方法及びレリーフパターン付着基材を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus for preventing an output of a pattern image which does not faithfully reproduce the width of a line composing the pattern image when the pattern image expressing information such as a bar code is outputted.例文帳に追加
バーコードなどの情報を表すパターン画像を出力する際に、該パターン画像を構成する線の幅を忠実に再現していないパターン画像の出力を未然に防止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
In the ranging method and the laser ranging apparatus of the invention, ranging is performed by a laser irradiation means which causes multi-longitudinal mode oscillation with a relatively wide spectrum line width, instead of a plurality of laser irradiation means having different wavelengths.例文帳に追加
本発明に係る測距方法及びレーザ測距装置は、波長の異なる複数のレーザ照射手段を用いるのではなく、スペクトル線幅が比較的広く多縦モード発振するレーザ照射手段を利用して測距を行う。 - 特許庁
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