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line-widthの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3396



例文

In the ranging method and the laser ranging apparatus of the invention, ranging is performed by a laser irradiation means which causes multi-longitudinal mode oscillation with a relatively wide spectrum line width, instead of a plurality of laser irradiation means having different wavelengths.例文帳に追加

本発明に係る測距方法及びレーザ測距装置は、波長の異なる複数のレーザ照射手段を用いるのではなく、スペクトル線幅が比較的広く多縦モード発振するレーザ照射手段を利用して測距を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a gasket for a hard disc drive by which the gasket with a narrow line width and a large height can be formed on a cover, and a small gasket for the hard disc drive manufactured by this method.例文帳に追加

線幅が狭く、かつ高さが高いガスケットをカバー体上に形成することができるハードディスク装置用ガスケットの製造方法と、この製造方法により製造された小型のハードディスク装置用ガスケットを提供する。 - 特許庁

This method controls set pulse width by monitoring the status of a memory component with a method for comparing a bit line voltage with a reference voltage during a programming action and the method for comparing the cell resistance with the cell resistance of the set status.例文帳に追加

本発明は、プログラミング動作の間、ビットライン電圧を基準電圧と比較する方法や、セル抵抗をセット状態のセル抵抗と比較する方法によってメモリ素子の状態をモニタリングすることにより、セットパルス幅を制御する。 - 特許庁

To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

A continuously moving sample 1 is imaged by using the linear line sensor 4 of the extremely narrow width of an imaging range and the long length thereof, by which the imaging of the prescribed measuring region 11 can be rapidly performed.例文帳に追加

撮像範囲の幅が極めて狭く長さが長い直線状のラインセンサ4を使用して、連続的に移動する試料1を撮像することによって、所定の測定領域11の撮像を迅速に行なうことができる。 - 特許庁


例文

In the manufacturing of a semiconductor device, a groove 18 with prescribed width is formed from the lower surface 132 of a frame part 13 of a lead frame 11 sealed with seal resin 15 along a dicing line 16 by a dicing saw 17.例文帳に追加

半導体装置の製造において、ダイシングライン16に沿って、封止樹脂15によって封止されたリードフレーム11のフレーム部13に対し、フレーム部13の下面132側から、ダイシングソー17により所定幅の溝18を形成する。 - 特許庁

To provide a method for exposing registration of a photomask substrate, especially a method for correcting line width variation occurring during a development process in fabricating a photomask and a computer readable recording medium in which pologoram for the purpose is recorded.例文帳に追加

フォトマスク基板のレジストを露光する方法、特にフォトマスク製造時に現像段階で生じる線幅変化を補正して露光する方法及びそのためのポログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

When the patterns for correction are formed, by increasing a laser intensity more than a normal intensity, the patterns for correction having a wider line width are formed, and accurate patterns can be formed without placing a gap even by writing with one laser.例文帳に追加

補正用パターンを形成する際、レーザ光量を通常より大きくする事により、線幅の太い補正用パターンが形成され、1つのレーザによる書き込みでも間隔を空けることなく正確なパターン形成が可能となる。 - 特許庁

When the user instructs one point on a picture with a display/ digitizer 101, the presence/absence of a pixel having data in a prescribed direction from this point and having the prescribed line width over 8 pixels around the pixel having these data is retrieved.例文帳に追加

ユーザが表示/デジタイザ101により画面上の1点を指示すると、この点から所定の方向にデータを有し、かつ、このデータを有する画素の周囲8画素に所定の線幅を有する画素が存在するか検索する。 - 特許庁

例文

The shape of a siping 5 formed in the tire width direction of a block 4 is formed by combining straight cut parts 5a extended from a block surface 4a in the normal line direction, and trapezoidal cut parts 5b.例文帳に追加

ブロック4のタイヤ幅方向に形成するサイプ5の形状を、ブロック表面4aからブロックの法線方向に延長する直線状切り込み部分5aと台形状切り込み部分5bとの組み合わせにより構成する。 - 特許庁

例文

A photosensitive film pattern 24 is formed on a semiconductor substrate 21 on which a prescribed electrically conductive layer 22 has been formed and the line width of the pattern 24 is reduced using oxygen radicals generated by the thermal decomposition reaction of gaseous ozone.例文帳に追加

所定の電導層22が形成された半導体基板21上に感光膜パターン24を形成し、オゾンガスの熱分解反応により発生される酸素ラジカル成分を用いて上記感光膜パターン24の線幅を微細化させる。 - 特許庁

In non-image formation, test electrostatic images 1s in a main scanning directional line of the four-pixel width in which VL exposing quantity and less-than-VL exposing quantity are combined is written to the photosensitive drum 1, and the potential distribution thereof is measured by the potential sensor 30.例文帳に追加

非画像形成時にVL露光量とVL未満露光量とを組み合わせた4画素幅の主走査方向ラインの試験静電像1sを感光ドラム1に書き込んで電位センサ30により電位分布を測定する。 - 特許庁

When photographing the overall width of the hot-rolled metallic band 8 by using the near infrared ray camera 25A which is installed on the inlet side of a coiler 24 of a hot-rolling line 100, a shutter speed is adjusted in accordance with the temperature of the hot-rolled metallic band 8.例文帳に追加

熱間圧延ライン100のコイラー24入側に設置した近赤外線カメラ25Aを用いて熱延金属帯8の全幅を撮影するに際し、熱延金属帯8の温度に応じて、シャッタースピードを調整する。 - 特許庁

Stress from a squeegee of a seal plate is relaxed and physical twisting of meshes constituting the seal plate becomes extremely small to suppress the variation in print precision, especially the line width of the seal pattern 2, in the liquid crystal panel to an extremely small value.例文帳に追加

シール版のスキージからの応力を緩和でき、シール版を構成するメッシュの物理的なねじれが極力少なくなり、液晶パネル内のシールパターン2の印刷精度、特に線幅のばらつきが非常に小さく抑えられる。 - 特許庁

To prevent empty bobbins from falling in a bobbin holder even if the continuous movement amount of peg tray is increased equal to or more than the number of bobbins corresponding to the limit width of a space behind an empty bobbin line in a bobbin holder in which empty bobbin falls occur.例文帳に追加

ペッグトレイの連続した移動量を空ボビンの倒れが発生するボビンホルダ内の空ボビン列の後方の空間の限界広さに相当するボビン本数以上に増大させても、ボビンホルダ内における空ボビンの倒れを防止する。 - 特許庁

The control system also can be operated so as to measure width of the liquid spray pattern and deviation of the liquid spray pattern from a nozzle center line of the liquid distribution system and when measured value is not within a tolerance range, alarm is given.例文帳に追加

制御システムは、また、液体スプレーパターンの幅と、液体分配システムのノズル中心線に対しての液体スプレーパターンの偏りとを測定すべく作動可能であり、それらの測定値が許容範囲外にあるならば、警告を与える。 - 特許庁

In this toilet paper roll 1 with the perforated line, the sheet 1a, in which the perforated lines 1b from one end to the other in a width direction are formed at longitudinal appropriate intervals, is taken up in a roll shape; and the percentage of longitudinal extension of the sheet is 20-35%.例文帳に追加

幅方向に亘るミシン目1bが長手方向の適宜間隔おきに形成されたシート1aを、ロール状に巻き取ってなるミシン目付きトイレットペーパーロール1であって、該シートの長手方向の伸び率が20〜35%である。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material capable of forming an image in which jamming of image line width is little and occurrence of density unevenness is few, which has high contrast and which has high maximum density by heat developing processing under high humidity.例文帳に追加

高湿度環境下での熱現像処理によって、画像線幅の詰まりが少なく、かつ濃度ムラの発生が少なく硬調で、かつ最高濃度が高い画像を形成可能な熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

Projecting parts 13 are formed at regular intervals along a reference line A passing the center O of the cutter body 12, extending outward, and the width of each projecting part 13 becomes narrower toward the front in the radial direction of the cutter body 12.例文帳に追加

突出部13の各々は、カッタ本体12の中心Oを通る基準線Aに沿い等間隔で外方に延在して形成され、カッタ本体12の径方向の前方に向かうに従い次第に幅が拡がるように形成される。 - 特許庁

Projecting parts 13 are formed at regular intervals along a reference line A passing the center O of the cutter body 12, extending outward, and the width of each projecting part 13 becomes narrower toward the front in the radial direction of the cutter body 12.例文帳に追加

突出部13の各々は、カッタ本体12の中心Oを通る基準線Aに沿い等間隔で外方に延在して形成され、カッタ本体12の径方向の前方に向かうに従い次第に幅が狭まるように形成される。 - 特許庁

To bring an image reading speed to a high speed by switching the resolution into a low resolution for pixel intervals at the outside of an original in one line when a close image sensor reads the original whose width is narrower than that of an original with a maximum readable size.例文帳に追加

密着型イメージセンサで最大読取可能サイズの原稿より幅狭の原稿を読み取る際に、1ライン中の原稿外画素区間において解像度を低解像度に切り替えることにより画像読取を高速化する。 - 特許庁

A handle 10 which extends and contracts to the front in the longitudinal direction, or the direction to transfer the main body 2, and rotate around an axial line extending in the width direction of the main body 2 at the extended position is provided on the main body 2.例文帳に追加

ケース本体2には、ケース本体2の搬送方向となる長手方向前方に対して伸縮可能とされ、かつ、伸びた位置でケース本体2の幅方向に延びる軸線回りに回動可能な取っ手10が配されている。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for forming an electrophotographic image which has no jitter caused by vibration of a photoreceptor drum, etc., and the ruled line of which has not the width and density unevenly fluctuated and to provide a process cartridge and an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

感光体ドラムや画像形成装置内の振動等によるジッターがなく、罫線幅の変動や濃度変動といったムラのない画像形成装置、画像形成方法、プロセスカートリッジ及び感光体を提供すること。 - 特許庁

In a case where a blur exists, a gray level picture obtained by contracting the line width by filter processing part 5 is given to a contrast processing part 7 as it is but in a case where a blur does not exist, gray level data of the part 3 is given to the part 7 as it is.例文帳に追加

ぼけがある場合には、フィルタ処理部5で線幅を収縮されて得られた濃淡画像イメージが、ぼけのない場合には、画像分割部3の濃淡画素データがそのままコントラスト処理部7へ与えられる。 - 特許庁

Then candidates having an enough width D for the dimension measurement are selected from the candidates [1] to [5], and further, a candidate closest as possible to the dimension measurement part (center line) designated in the pattern before the OPC process is selected.例文帳に追加

次いで、候補[1]〜[5]の中から寸法測定を行うのに十分な幅Dを備えた候補を選別し、更にOPC処理前のパターンで指定した寸法測定箇所(中心線)からなるべく近い位置の候補を選別する。 - 特許庁

With this, since the effective light-emitting region of the light source 26 exists only at one side of a vehicle width direction Ay to a back side focal point F, a region of the other side from a vertical line of the vehicle front center is not irradiated.例文帳に追加

これにより、光源26の有効な発光領域が後側焦点Fに対して車幅方向Ayの片側にしか存在しないため、車両前方中央の鉛直線より片側の領域が照射されないことになる。 - 特許庁

In this feeder wherein one side part in an orthogonal direction to a document conveying direction is set as the reference line S for the alignment of a document D, a pickup roller 26 is arranged in the minimum document width out of a plurality of conveyable document sizes.例文帳に追加

原稿搬送方向と直交する方向の一側部を原稿Dの位置合わせの基準線Sとする給紙装置において、ピックアップローラ26を、搬送可能な複数の原稿サイズのうちの最小原稿幅内に配置した。 - 特許庁

The third conductive pattern has a small line width that can be removed by etching, and can be disposed in a region where the conductive pattern is not formed, and thereby, the third conductive pattern can prevent dielectric breakdown caused by discharge between figure patterns when the mask pattern is charged.例文帳に追加

第3導電性パターンはエッチングで除去可能な細い線幅を有し、導体パターンが形成されない領域に配置できるため、マスクパターンの帯電時に図形パターン間の放電による静電破壊を防止可能となる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつLWR性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

It is supposed that the width of a glass substrate G is 2200 mm, the size of a polishing tool 14 is ϕ1290 mm, a revolution radius is 75 mm, and the center of revolution is located right and left 600 mm from the moving center line L in the orthogonal direction.例文帳に追加

ガラス基板Gの幅を2200mm、研磨具14のサイズをφ1290mm、公転半径を75mm、公転中心は、移動中心線Lから直交方向に左右に600mm離れた位置とする。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

The length of the index part is gradually different so that the overlap width of the indicating part 11a and index part is almost constant regardless of the rotating position of the pointer 11, and an imaginary line connecting the outside of a virtual image of the index part is approximately a circular arc.例文帳に追加

指示部11aと指標部の重なり幅は指針11の回動位置に因らず略一定であるように、指標部の長さは漸次異なり、指標部の虚像28の外側を結んだ仮想線は略円弧になる。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系(PL)の物体面に設置されたマスク(M)のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板(W)上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.例文帳に追加

微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter that prevents the occurrence of unevenness in line width and thickness between colored layers having different colors from each other and to provide an ink for the color filter being suitable for use in this method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

互いに色が異なる着色層間での線幅や厚みのばらつきを抑制することのできるカラーフィルタの製造方法と、このカラーフィルタの製造方法での使用に適したカラーフィルタ用インキとを提供すること。 - 特許庁

The image data in the print area is enlarged by specified printing magnification to conform the major side line of the small-size print with the width of a color paper based on the image data and the information designating small-size print, and each small-size print is exposured.例文帳に追加

画像データと小型サイズプリント指定情報に基づいて、小型サイズプリントの長辺がカラーペーパーの幅と一致するように、プリントエリア内の画像データが所定のプリント倍率で拡大され、各小型サイズプリントが焼付露光される。 - 特許庁

To provide an overwrapping packaging machine and a method for setting a guide width of a transverse folding guide which can package beautifully even a product being longitudinally long in the up and down direction on a packaging line under a double-point end fold packaging form.例文帳に追加

包装ライン上にて上下方向に縦長の製品であっても、ダブルポイントエンドフォールドの包装形態で綺麗に包装することができる上包み包装機及びその横折りガイドのガイド幅設定方法を提供する。 - 特許庁

To obtain control characteristics independent of a polarization direction in an optical pulse controller for applying a time delay to a transmitted optical signal pulse in an optical pulse transmission line, compressing the width of the optical signal pulse and compensating dispersion.例文帳に追加

光パルス伝送路において、伝送光信号パルスに時間遅延を与えたり、光信号パルス幅を圧縮したり、分散補償を行う光パルス制御装置であって、偏波方向に依存しない制御特性が得られるようにする。 - 特許庁

The housing of the male connector is furnished with a regular lock projection (23) to lock a housing lock 47 of a lock arm 46 and a provisional lock projection 41 having a smaller locking force for the housing lock 47 than the projection (23) in such an arrangement that they (23) and 41 are in line in the housing width direction.例文帳に追加

雄コネクタのハウジングには、ロックアーム46のハウジングロック47を係止する本係止突起23と、該本係止突起23よりハウジングロック47に対する係止力が小さい仮係止突起41とがハウジング幅方向に併設される。 - 特許庁

To properly support the traveling of a traveling object for making it attainable for the traveling object to travel on a traveling face for a relatively long period, the traveling face being formed as a line as a whole, whose upper face has narrower width than the size of the traveling object.例文帳に追加

移動体のサイズに比べて上面の幅が狭く、全体としてライン状を成した移動面上において、移動体の移動を適度にサポートして、当該移動面上での移動を比較的長期間可能にすること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

There are no chances that the photo resist 3 expands by gases and gases enter a masked photo resist, thus preventing a change in shape of the photo resist 3 that causes a decline in line width accuracy of the object to be etched.例文帳に追加

従って、ガスによりフォトレジスト3が膨張したり、ガスが、マスクされたフォトレジスト中に侵入したりすることがなくなるので、フォトレジスト3の形状が変化してしまい、被エッチング物の線幅性が低下してしまうおそれがない。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

The welding part of welding equipment 5, which joins both ends of the metal sheet 9 forming the O-shape cross section by welding, is arranged on a virtual vertical plane including the center line α in the width direction of the metal sheet 9.例文帳に追加

断面をO字形に形成した金属薄板9の両端縁同士を溶接により接合する溶接装置5の溶接部分は、上記金属薄板の幅方向の中心線αを含む仮想垂直平面上に設けている。 - 特許庁

This fishing sinker comprises an elastic substance having an elasticity in curing and tungsten powder and is obtained by compounding the substance with the tungsten powder before curing, then curing and molding and forming a slit narrower than the width of a fishing line.例文帳に追加

硬化時に弾力性を有する弾性物質と、タングステン粉末とからなり、硬化前の物質にタングステン粉末を混合した後に硬化成形するとともに、釣り糸の径よりも幅狭状のスリットを形成した釣り用錘。 - 特許庁

To provide a coloring ink composition capable of achieving a visibility improving sheet excellent in contrast while maintaining a right and left viewing angle, as for the visibility improving sheet having a nearly rectangular cross-section and having a photoabsorption part with a narrow line width.例文帳に追加

略矩形断面を有するような、線幅の狭い光吸収部を備えた視認性向上シートにおいて、左右視野角を維持しつつコントラストにも優れる視認性向上シートを実現できる着色インキ組成物を提供する。 - 特許庁

The insert members 21, 22 are positioned across a center line L of a cylinder and on both sides in a width direction (a crosswise direction in the figure) of the cylinder block main body 12, and are extended in a cylinder arrangement direction (a direction orthogonal to a sheet of paper in the figure).例文帳に追加

両インサート部材21,22は、シリンダの中心線Lを挟んでシリンダブロック本体12の幅方向(図1の左右方向)両側に位置し、シリンダの配列方向(図1において紙面と直交する方向)に延びる。 - 特許庁

The direction of the rotating axial line is set to descend rightward in a plan view seen from the upper direction of the vehicle body 11 and to ascend rightward in a front view seen from the rear direction of the vehicle body 11, with respect to the vehicle width direction of the vehicle body 11.例文帳に追加

そして、回動軸線の方向を、車体11の車幅方向に対し、車体上方から平面視したときに右下がりで、かつ、車体後方から正面視したときに右上がりとなるように設定する。 - 特許庁

A mask pattern having a line width below a stipulated value is selected from mask patterns each projecting from an element region, the distance from the selected mask pattern to an adjacent pattern is calculated and the mask pattern is corrected corresponding to the distance.例文帳に追加

素子領域から突き出すマスクパターンのうち規定値以下になる線幅を有するマスクパターンが選択された後、このマスクパターンに隣り合うパターンまでの距離が算出され、この距離に応じてマスクパターンに補正が施される。 - 特許庁

例文

In particular, since a line width at the tip part 25a of the heating part 25 is set larger than that at the base end part 25b, a resistance value at the tip part 25a of the heating part 25 is set smaller than that at the base end part 25b.例文帳に追加

特に、発熱部25の先端部25aの線幅が基端部25bの線幅より大きくなる様に設定されることによって、発熱部25の先端部25aの抵抗値が基端部25bの抵抗値より小さく設定されている。 - 特許庁




  
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