「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

When two wooden members are fast fastened by this pulling force, as the anchor members are placed on the center line of wood members, a strong fastening force is maintained without being affected by a wood contraction in the width direction.例文帳に追加

この引張力によって、二つの木部材が固く締結されると、定着部材が木部材の中心線上にあるため、木材の幅方向の収縮による影響を受けず、強い締結力が維持される。 - 特許庁

To provide a method of measuring optical characteristic capable of measuring the optical characteristic related to pitch-dependence of the line width of a projected image within a substantially wide pitch range near a required pitch without the need for increasing kinds of a measurement pattern.例文帳に追加

投影像の線幅のピッチ依存性に関する光学特性を、計測用のパターンの種類を多くすることなく、実質的に広いピッチ範囲で、かつ必要とするピッチの近くで計測できるようにする。 - 特許庁

To provide a packet multiplexer capable of inserting an appropriate inter-packet gap between packets even if the transmission speed of a communication line is accelerated, and packets having a wider data width are multiplexed due to multiple bit expansion.例文帳に追加

回線速度が高速化され、多ビット展開によってより大きなデータ幅のパケットを多重化する場合であっても、パケット間に適切なインターパケットギャップを挿入することができるパケット多重化装置を提供する。 - 特許庁

To obtain the resolution sufficiently coping with the fining tendency in the case of exposing a pattern by using extreme ultraviolet light, and to avoid defects such as a difference from line width and positional deviation of the pattern.例文帳に追加

極短紫外光を用いて露光を行う場合に、微細化の進展に十分に対応可能な解像性を得られるようにし、さらには線幅の相違やパターンの位置ずれ等といった不具合を招かないようにする。 - 特許庁

A light shielding part 17X is provided between the fellow pixels adjacent each other, out of the plurality of color pixels 17R, 17G, 17B, and a line-directional width of the light shielding part 17X is set to any of three kinds.例文帳に追加

複数の色画素１７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂのうち互いに隣接する色画素同士の間には、遮光部１７Ｘが設けられ、この遮光部１７Ｘの行方向の幅は、３種類のいずれかに設定される。 - 特許庁

To provide a resist pattern improving material, a formation method of a resist pattern and a manufacturing method of a semiconductor device which can improve an LWR (line width roughness) of a resist pattern without more than necessary fluctuations in a resist pattern size.例文帳に追加

レジストパターンサイズを必要以上に変動させることなく、レジストパターンのＬＷＲを改善できるレジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of outputting, without using any special device, an image which is free from changes in density and tint even upon crisscross rotation and exhibits good proportion of a small character, and to provide a line width correction method for the image forming apparatus.例文帳に追加

特別な装置を用いることなく、縦横回転しても濃度や色味の変化がなく、細かい文字のプロポーションも良好な画像を出力することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the connect bushes 27 and 28 are located below a straight line L1 which connects a connecting point (bush 21) outside in the vehicle-width-direction of the front-side lower link 12 and a connecting point (bush 22) inside in the vehicle-breadth-direction inside thereof.例文帳に追加

そして、前側ロアリンク１２における車幅方向外側の連結点（ブッシュ２１）と車幅方向内側の連結点（ブッシュ２２）とを結ぶ直線Ｌ１よりも、コネクトブッシュ２７及び２８の位置を下方に配置する。 - 特許庁

A drawing data analysis part 3 analyzes a source image, and decides whether or not it is image processing for arranging the source image of a width or a height of one pixel side by side in a direction perpendicular to a line direction and magnifying it.例文帳に追加

描画データ解析部３は、ソースイメージを解析し、１ピクセルの幅もしくは高さのソースイメージを、ソースイメージをライン方向に対して垂直方向に並べて拡大したイメージ処理であるかを判定する。 - 特許庁

An area-setting part 6 is constituted so that a plurality of inspection start points are set on the boundary line of an inspection region in the edge image and linear detection areas that are fixed in the width are set at each inspection start point.例文帳に追加

エリア設定部６は、エッジ画像の中で検査領域の境界線上に複数個の検査スタートポイントを設定し、かつ各検査スタートポイントごとに直線状かつ一定幅である検出エリアを設定する。 - 特許庁

For example, since access can be simultaneously made to 4 bites (an oblique line part) with a third bit as the forefront from a start of reception, even if the minimum unit of the data treated by the transmitter is 8 bits, the data can be transferred in the 32-bit width of the data bus.例文帳に追加

例えば、受信開始から３バイト目を先頭とする４バイト（斜線部）に同時にアクセスし得るので、送信元が扱うデータの最小単位が８ビットであっても、データバスの３２ビット幅で転送が行える。 - 特許庁

The captioned number 11 denotes the initial pattern of a continuous line width W which crosses the sub-field L of a left side where the unsharpness is B1 and the sub-field R on a right side where the unsharpness is B2 with the boundary 12 of the sub-fields as a boundary.例文帳に追加

１１は線幅Ｗの連続した当初のパターンで、サブフィールドの境界１２を境に、ボケがＢ１である左側のサブフィールドＬとボケがＢ２である右側のサブフィールドＲにまたがっている。 - 特許庁

To provide an electronic apparatus which can simply and easily perform a plurality of operations such as setting a drawing color, setting size of a drawing area, setting line width for drawing, screen scrolling, and screen zooming-in/out while a pointing device is used.例文帳に追加

位置指示器の使用中に、描画色の設定、描画領域のサイズの設定、描画する線の太さの設定、画面のスクロールや画面のズームイン／ズームアウト等の操作を簡単かつ手軽に行えるようにする。 - 特許庁

The cutter knife for the slash quilts is equipped with the plurality of guide members 21-24 having different width dimensions and installed extendedly parallel to each outer tangent line to a circular blade 15 on the outer peripheral part of the cutter knife body 10 holding the circular blade 15.例文帳に追加

円形ブレード１５を保持するカッターナイフ本体１０の外周部に、円形ブレード１５に対する外接線と平行に延在して設けられた幅寸法の異なる複数のガイド部材２１〜２４を設ける。 - 特許庁

The width of portions 3A, where the conductive paths 5 are formed in the direction perpendicular to a center line C, is made smaller than the with of portions 3B where the conductive path 5 are not formed.例文帳に追加

導電路５が形成されている導電路形成部分３Ａの中心線Ｃと直交する幅寸法を導電路５が形成されていない非導電路形成部分３Ｂの幅寸法よりも小さくする。 - 特許庁

In this inclination correcting tool 1, a bolt clearance groove 2 having a width dimension fitted with an installing bolt 9 of the rotary side member 4 and penetrating in the plate thickness direction, is formed in a straight line in the insertion direction.例文帳に追加

この傾き補正具１には、前記回転側部材４の装着用ボルト９が嵌合する幅寸法を有し、板厚方向に貫通しているボルト逃げ溝２を、挿入方向に沿って一直線に形成してある。 - 特許庁

The data comparison part 402 compares data 1 obtained by reading a reference image for line width correction by a reader-scanner with data 2 obtained by reading the copied image formed on recording material by a printer on the basis of the data 1 by the reader-scanner.例文帳に追加

データ比較部４０２は、線幅補正用基準画像をリーダスキャナで読み取って得たデータ１と、データ１を基にプリンタで記録材に形成したコピー画像をリーダスキャナで読み取って得たデータ２を比較する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a visibility improvement sheet that is capable of efficiently being filled with ink by only one time ink filling and that has superior contrast even when a narrow line width light absorption part is formed.例文帳に追加

線幅の狭い光吸収部を形成する場合であっても、１回のみのインキ充填によって効率良くインキを充填でき、コントラストに優れる視認性向上シートを製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

A viewing volume is extended by using space beyond a far limit line dependent upon the observer's inter-pupillary distance, the width of each projector's viewing window, and the distance from the projection baseline to the screen.例文帳に追加

表示量は観察者の瞳孔間距離、各プロジェクターの表示窓の幅、および投影基線からスクリーンまでの距離に依存するファーリミットの線を超えた空間を用いることにより拡張することができる。 - 特許庁

Vibration pieces 16a-16d are formed at four corners that are symmetrical in reference to the center of a substrate 14 of a vibrator 12 of a vibration gyro 10 so that each width direction is extended along the diagonal line of the substrate 14.例文帳に追加

振動ジャイロ１０の振動子１２の基板１４の中心に関して対称な四隅には、それぞれの幅方向が基板１４の対角線に沿って延びるよう振動片１６ａ〜１６ｄが形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of precisely forming an electrode having desired line width as an electrode formed of a laminated metal film using a photosensitive material used for a display device, etc.例文帳に追加

ディスプレイ表示装置等に用いられる感光性材料を使用した積層金属膜より構成される電極において、所望の線幅を有する電極を精度良く形成する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning process without causing a deformation of a resist pattern and an increase in LWR (line width roughness) in forming a silicon oxide film on a photoresist pattern, in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The thickness of the silicon oxide film 21 is set smaller than half the width of the wiring groove 23, and a metal film that serves as material of the bit line BL is buried in a very fine gap located inside the groove 23.例文帳に追加

酸化シリコン膜２１は、配線溝２３の幅の２分の１よりも薄い膜厚となるように堆積し、その内側の微細な隙間にビット線ＢＬの材料となるメタル膜が埋め込まれるようにする。 - 特許庁

To easily and safely detach a belt by a simple mechanism, and to use the belt having a weld line of high quality in the detachment of a metal endless belt having a long length, a wide width and heavy weight.例文帳に追加

長尺、幅広で高重量の金属製無端ベルトの脱着において、簡単な機構で容易且つ安全にベルト脱着を行うことができ、高品質な溶接線を有するベルトの使用も可能とする。 - 特許庁

The primary recrystallization-annealing facility for grain-oriented magnetic steel sheet is provided with sensors which can perform on-line measurement of the crystal grain diameter of the steel sheet at two or more places in the steel sheet width direction at the outlet side of a continuous annealing furnace.例文帳に追加

本発明に係る方向性電磁鋼板の一次再結晶焼鈍設備は、連続焼鈍炉出側に、鋼板の結晶粒径をオンラインで測定可能なセンサーを、鋼板幅方向の２ヶ所以上に備える。 - 特許庁

Secondary air supplying openings 17 supplying the secondary air to the combustion flame rising in the respective areas A and B are arranged at both sides in the width direction (the direction orthogonal to the center line C) of the areas A and B.例文帳に追加

領域Ａ，Ｂの幅方向（中心線Ｃと直行する方向）での両側方には、領域Ａ，Ｂでそれそれ立ち上がる燃焼炎に二次空気を供給する二次空気供給孔１７が配設されている。 - 特許庁

Each auxiliary capacity line 23 is formed by a plurality of first wiring parts provided alternately along the second direction and a plurality of second wiring parts having larger width in the first direction d1 than that of the first wiring parts.例文帳に追加

各補助容量線２３は、前記第２方向に沿って交互に設けられた複数の第１配線部及び第１配線部より第１方向ｄ１の幅が大きい複数の第２配線部で形成されている。 - 特許庁

The present invention includes a method for forming a word line pattern of the nonvolatile memory array including a step of producing the sub-F word lines using a mask producing device having a width of at least minimum characteristic size F through the use of spacer technology.例文帳に追加

少なくとも最小特徴サイズＦの幅を有するマスク生成素子から、スペーサー技術を用いてサブＦワード線を生成する段階を含む不揮発性メモリアレイのワード線パターン形成のための方法を含む。 - 特許庁

Aspects of a temperature slope within a substrate face are mutually reversed between the aspect at the time of heating before alignment and that at the time of heating after alignment and it is possble to enhance line width uniformity in a resist film after being developed.例文帳に追加

露光前加熱処理時と露光後加熱処理時との間で基板面内の温度勾配の態様が相互に逆となり、現像処理後のレジスト膜における線巾均一性を向上することができる。 - 特許庁

Detection brightness distribution Y corresponding to a correction reference line L orthogonal to a correction code C along a width direction β is detected on the basis of a pixel signal from an imaging part 22 by a control part 21.例文帳に追加

制御部２１により、撮像部２２からの画素信号に基づいて補正用コードＣに対し幅方向βに沿うように直交する補正基準線Ｌ上に対応する検出輝度分布Ｙが検出される。 - 特許庁

Since the amount of side etching is suppressed when wet type etching is performed with a ferric chloride solution to which the additive for suppressing side etching is added, a copper printed circuit board having a circuit pattern with a fine line width is realized.例文帳に追加

このサイドエッチング抑制用添加剤が添加された塩化第二鉄溶液で湿式エッチングするとき、サイドエッチング量が抑制されるので、微細な線幅の回路パターンを有する銅プリント配線板が実現される。 - 特許庁

The electrodes 12, 12, ... have an expansion section 12a extended in the line width direction of the wiring pattern 12p forming the electrode 12, and the electrode 12 for bonding a semiconductor element is formed by including the expansion section 12a.例文帳に追加

電極１２，１２，…は、電極１２を形成する配線パターン１２ｐの線幅方向に拡がる拡張部１２ａを有し、この拡張部１２ａを含んで半導体素子接合用の電極１２を形成している。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To optimally set a line width about a photopolymer recording material and a profile of a prescribed laser beam in an exposer and to prevent an area with a low exposure degree from occurring between adjacent image lines to each other.例文帳に追加

フォトポリマー記録材料および所定のレーザービームのプロフィルについて線幅を露光機内で最適に調整でき、隣接する画像線どうしのあいだに露光の度合の低い領域を生じないようにする。 - 特許庁

To provide an automated wiring method for improving the space efficiency by generating a wiring pattern of a line width optimum for the input terminal connected to a single wire for connecting between a plurality of terminals.例文帳に追加

複数の端子間を接続する単一の配線に、接続される入力端子に対応した最適の配線幅の配線パターンを生成してスペース効率を改善することができる自動配線方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultra-narrow band fluorine laser device, by which the band of laser beams formed in one line in wavelength width of 1-2 pm is narrowed while the wavelength of the band-narrowed laser beams can be stabilized simply.例文帳に追加

波長幅が１〜２ｐｍの１ライン化されたレーザ光をさらに狭帯域化すると共に、この狭帯域化されたレーザ光の波長を簡易に安定化できる超狭帯域化フッ素レーザ装置を提供する。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁

A recess groove 22, having a semicircular cross-sectional shape, is formed to extend in a straight line from the front end to the rear end thereof at the center position of the width of the lower surface of a tab part 21 projecting from a male terminal 2.例文帳に追加

雄端子２から突出するタブ部２１の下面の幅方向中央位置に、半円状の横断面形状を有する凹溝２２を先端から基端側まで一直線状に延びるように形成する。 - 特許庁

To enable manufacturing of a small-sized, high-performance laminated chip coil in which fine internal conductor patterns having a line width of 80 μm or less and a conductor thickness of several μm or more are formed accurately and clearly.例文帳に追加

線幅が８０μｍ以下で且つ導体厚数μｍ以上の微細な内部導体パターンを高精度で鮮明に形成できるようにし、小型で且つ高性能の積層チップコイルを製造できるようにする。 - 特許庁

The light from an artificial light source S as a line segment light source extending in vehicle width direction is reflected to the front by a first reflector 14 and a light distribution pattern having cut-off lines CL1, CL2 at the top end part is formed.例文帳に追加

車幅方向に延びる線分光源としての擬似光源Ｓからの光を、第１リフレクタ１４で前方へ向けて反射させて、上端部にカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２を有する配光パターンを形成する。 - 特許庁

The seams include oblique seams 18 and 20 disposed in oblique directions crossing a center line X-X extending in the length direction of the pillow 10 through the middle points in the width direction of the pillow 10.例文帳に追加

縫合線は、枕１０の幅方向の中間点を通って枕１０の長さ方向に延びる中心線Ｘ−Ｘに交差する斜線方向に配設される斜め縫合線１８，２０を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a joint surface 22 of the base material 20, an area with a required width along a line scheduled to be cut by the water jet is formed as a receiving surface 26 substantially intersecting perpendicularly to the jet axis of the water jet WJ.例文帳に追加

基材２０の接合面２２において、ウォータージェットＷＪによる切断予定ラインに沿った所要幅の領域を、該ウォータージェットＷＪの噴射軸線に対して略直交する受面２６として形成する。 - 特許庁

The cylinder part 11 is provided with a slit 13 extended in the direction of a center axis line C, and is elastically deformed by the extension and contraction of the slit 13 in a width direction, whereby it is freely attached to/detached from the insertion part 2.例文帳に追加

円筒部１１には、中心軸線Ｃ方向に延びるスリット１３が設けられ、スリット１３が幅方向に拡縮することによって円筒部１１が弾性変形して挿入部２に着脱自在となっている。 - 特許庁

Since the base film is porous, the printed matter is likely to be absorbed more by the base film than by the object to be printed with a printed matter, reducing a ratio of a quantity of bleeding to the width of the line part of the fine pattern.例文帳に追加

さらに、印刷用下地膜が多孔質であるので、被印刷物に比べて印刷物を吸収し易くなり、ファインパターンであってもライン部分の幅に対して滲み量の比率を小さくすることができる。 - 特許庁

This screen device for the veranda has a surface substantially orthogonal to a partition wall with a next room veranda space on the veranda of a multiple dwelling house, and is formed by installing a screen panel having the height and a width for intercepting a line of sight over the veranda from the next room residents.例文帳に追加

集合住宅のベランダに、隣室ベランダ空間との隔壁に対してほぼ直交する面を有し、隣室居住者からのベランダ越しの視線を遮る高さと幅の目隠しパネルを取付けて成る。 - 特許庁