「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method capable of forming a fine pattern without deteriorating the line width precision nor shape of a resist pattern when a remaining film of the pattern obtained by pressing a mold is removed.例文帳に追加

モールドをプレスすることにより得られたパターンの残膜を除去する際、そのレジストパターンの線幅精度、形状を劣化させることなく、微細なパターンを形成可能にする方法を提供する。 - 特許庁

A front-layer paper 2 of the roll paper 1, formed with a tear-off portion 6 that has a cut line 4 at a middle area in the width direction, and perforations 5 on both sides thereof, appears at every given interval in the length direction.例文帳に追加

ロールペーパー１の表層のペーパー２には、幅方向の中間部に切れ目４とその左右にミシン目５を入れた切り取り部６を長さ方向の所定間隔ごとに形成してある。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a pattern with an excellent resolution, a wide exposure latitude (EL) and a small line width variation (LWR), a chemical amplification resist composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

This muffler includes a woven fabric or a nonwoven fabric of an appropriate length and width attached to the front or back along the center line of the short side of the muffler, alternatively in a detachable manner.例文帳に追加

襟巻について、襟巻の表面または裏面に、襟巻の短辺の中心線に沿って、適当な長さと適当な幅の織物または不織布を取り付け、又は、着脱自在に取り付ける構造とする。 - 特許庁

A tread part 19 of the pneumatic tire satisfies inequalities L≠0, 0.015≤L/TW≤0.25, where L denotes the distance between the center line ML of a center main groove 17 and the tire equator CL, and TW denotes the tread width.例文帳に追加

空気入りタイヤの踏面部１９では、センター主溝１７の中心線ＭＬとタイヤ赤道ＣＬとの距離をＬ、トレッド幅をＴＷとすると、Ｌ≠０、０．０１５≦Ｌ／ＴＷ≦０．２５ が満たされている。 - 特許庁

The linear Fresnel lens 8 condenses light beams from the LEDs 11 in the width direction of the road to form the fan-shaped light, which is irradiated downward so as to project the linear light on the snowy road along the outer line or the like.例文帳に追加

リニアフレネルレンズ８は、ＬＥＤ１１からの光を道路の幅方向に集光させて扇状光として下方に照射し、雪道上の道路の外側線等に沿って線状光を映し出す。 - 特許庁

A dipole unit 9 with line width 1 mm of the antenna with the tags 10 is formed in the square spiral shape by folding to inside from both sides by four bending units 11 (11-1 to 11-4).例文帳に追加

タグ用アンテナ１０の線路幅１ｍｍのダイボール部９は４箇所の曲げ部１１（１１−１〜１１−４）により両側から内側に曲げ込まれて角形の渦巻き状に形成される。 - 特許庁

Even when the width dimension of the signal line 33 is set at a predetermined size to reduce the aperture ratio, the reduction in surface luminance can be prevented by reusing the light L1 irregularly reflected by the projecting part 37.例文帳に追加

信号線33の幅寸法を所定の大きさとして開口率が低下した場合でも、凸部37によって乱反射した光L1を再利用することにより、表面輝度の低下を抑制できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a device, the device, and an electronic apparatus highly precisely forming a line width when forming a fine pattern on a substrate using a droplet delivery device.例文帳に追加

液滴吐出装置を用いて基板上に微細なパターンを形成する際、その線幅などを精度よく形成することができるようにした、デバイスの製造方法、さらにはデバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

A mark 79 of straight line shape extending in a tape longitudinal direction is put to the width direction center of the long-sized label tape 67 so that a distance to the thickness direction center of a tape cassette 51 is constant.例文帳に追加

テープカセット５１の厚み方向の中心との距離が一定となるように、長尺状のラベルテープ６７の幅方向の中心に、テープ長手方向に延びる直線状のマーク７９が付されている。 - 特許庁

At this time, the inclination and height of the micro pipe is adjusted in advance to expose so that the exposure beam spot is applied by a constant shape and size all the time, and a spiral space pattern with uniform line width is formed.例文帳に追加

その際、露光ビームのスポットが常に一定の形状、大きさで当たるように、予めマイクロパイプの傾斜・高さを調整してから露光し、均一な線幅の螺線スペースパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a device for verifying a graphic shape and its verifying method in a designing and manufacturing system for semiconductor devices capable of verifying whether or not a line has a shape with a constant width and has an branches.例文帳に追加

線幅が一定で分岐がない形状であるか否かを検証することができる半導体装置の設計製造システムにおける図形形状の検証装置及びその検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide an auxiliary electrode of ≤20 μm in line width which has a small resistance value and will not impair visibility for an element for electrochromic dimming glass, sandwiched in between transparent substrates having transparent conductive films.例文帳に追加

透明導電膜を有する透明基板に挟まれたエレクトロクロミック調光ガラス用素子において、抵抗値が低くかつ視認性を損なわない線幅２０μｍ以下の補助電極を提供する。 - 特許庁

Alternatively, the pattern film deposition is performed by the PVD method by using a mask having a plurality of wire parts arrayed at the spacing corresponding to the width of the line-like pattern while one wire is bent.例文帳に追加

若しくは、１本のワイヤが折り曲げられて形成され、ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤ部を有するマスクを用いて、ＰＶＤ法によりパターン成膜を行う。 - 特許庁

To enhance image quality by improving the reproducibility of a line width and dot diameter as well as image density of a digital image forming device using a dry process two-component developer for which an iron powder carrier is used.例文帳に追加

鉄粉系キャリアを用いた乾式２成分系現像剤を使用したデジタル画像形成装置において、ライン幅およびドット径の再現性、ならびに画像濃度を向上して高画質化を図る。 - 特許庁

In this wafer development method, a developer is supplied to the surface of a resist film formed on a wafer, and during the development of the resist film, the line width of a pattern on the resist film is measured.例文帳に追加

ウェハの現像処理において，ウェハ上のレジスト膜の表面に現像液が供給されて，レジスト膜の現像が行われている際に，レジスト膜に形成されるパターンの線幅が測定される。 - 特許庁

To provide a laser printer that causes no deviation in an exposure width with respect to a photoreceptor by each line even when rotational unevenness exists in a polygon mirror and each reflection face differs from mechanical precision.例文帳に追加

ポリゴンミラーの回転ムラがあったり、各反射面の機械的精度が異なっても、１ライン毎の感光体に対する露光幅のずれを生じさせないことのできるレーザプリンタを提供する。 - 特許庁

In a bus pattern design, in the case that a mini-via is disposed in association with an inner layer clearance in the power source layer, whether a power source line of a predetermined width is assured or not between the mini-vias of the bus pattern.例文帳に追加

バスパターン設計において、電源層に内層クリアランスを伴うミニビアが配置された場合には、そのバスパターンのミニビア間に、所定幅の電源ラインが確保されているか否かを判断している。 - 特許庁

An inclination angle α of an outer groove wall surface 4o becomes a maximum inclination angle αmax of 15-45 degree at the maximum groove width position Q in a groove section orthogonal to a groove center line of the lug groove 4.例文帳に追加

このラグ状溝４の溝中心線と直角な溝断面において、外の溝壁面４ｏの傾斜角度αは、前記最大溝巾位置Ｑで１５〜４５度の最大傾斜角度αmax となる。 - 特許庁

At four corners symmetrical to a center of a substrate 14 of a vibrator 12, vibration pieces 16a to 16d are integrally formed so that each width direction extends along a diagonal line of the substrate 14.例文帳に追加

振動子１２の基板１４の中心に関して対称な四隅には、振動片１６ａ〜１６ｄが、それぞれの幅方向が基板１４の対角線に沿って延びるよう一体に形成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element that can prevent a defect of a print pattern by forming a print pattern formed on a cliche so that its depth varies with the line width.例文帳に追加

クリシェに形成される印刷パターンを、その線幅によって深さが異なるように形成することによって、印刷パターンの不良を防止できる液晶表示素子の製造方法を提供しようとする。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The line width W2 of the second metallic layer 7 positioned on a remote side from the substrate 2 can optionally be set since it is independent from electric characteristic such as the frequency characteristic of the SAW device 1.例文帳に追加

圧電基板２から遠い側に位置する第２の金属層７の線幅Ｗ２は弾性表面波装置１の周波数特性などの電気特性には依存しないため任意に設定可能である。 - 特許庁

An element volume in each the slice area is calculated by an element volume calculation circuit 94 by use of the axial line width h, the element area dS and the vertical distance (a) between the major axis and a rotational axis.例文帳に追加

上記軸線幅ｈ、要素面積ｄＳおよび長軸・回転軸間の鉛直距離ａを用い、要素体積演算回路９４において、各スライス領域における要素体積を算出する。 - 特許庁

The projecting line contact parts 38a and 38c are formed along the whole width direction of side wall parts 36a and 36c and also in positions deviated along the direction of engaging connection of the shield shell 30.例文帳に追加

凸条接触部３８ａ，３８ｃは、側壁部３６ａ，３６ｃの幅方向全体に亘って形成してあり、かつ、シールドシェル３０の嵌合接続方向に沿ってずらした位置に形成してある。 - 特許庁

A first and a second steering hanger beam 14 arranged along the body width direction are laid in line in the fore-and-aft direction of a vehicle body, and the meter indication part 4 on an instrument panel 3 is located between the steering hanger beams 14 and 15.例文帳に追加

車体幅方向に沿う第１と第２のステアリングハンガビーム１４を車体前後方向に並列に設け、インストルメントパネル３上のメータ表示部４をステアリングハンガビーム１４，１５の間に配置する。 - 特許庁

The control part 71 makes a carrying-amount set value of the paper 21 smaller than a value equivalent to the width dimension of one line in the carrying operation in which a back end of the paper 21 passes through a point of the pressure contact by the paper feeding roller 25.例文帳に追加

制御部７１は、用紙２１の後端が給紙ローラ２５による圧接点を通過する搬送動作において、用紙２１の搬送量設定値を１行の幅寸法分より小さくする。 - 特許庁

The first control part 6 is made of a fitting group comprising a front fitting part 12 and a back fitting part 13 positioned at the front and back of the cover 3 in the width direction provided in a line in the right and left direction of the cover.例文帳に追加

第１規制部分６は、蓋体３の幅方向前後に位置する前の係合部１２と後の係合部１３とからなる係合部組が蓋体の左右方向に並設されてなる。 - 特許庁

Drawing information parameters, which are stored in a coordinate information storing means, such as color, width, transparency of the line of the drawing, and area for the drawing, are altered according to the moving amount of a coordinate input device per unit time.例文帳に追加

座標情報記憶手段に格納された描画情報パラメータを、描画する線の色、太さ、透明度、描画範囲、を座標入力装置の単位時間あたりの移動量に応じて変化させる。 - 特許庁

Therein, a change amount or a change rate for the reference value of the width of the determined each line is determined and, based on the determined change amount or change rate, the presence or absence of the abnormality of application of the processing liquid is determined.例文帳に追加

そして、求めた各線分の幅の基準値に対する変化量又は変化率を求め、求めた変化量又は変化率に基づいて処理液の塗布異常の有無を判定する。 - 特許庁

Of the pair of side frames 20, portions positioned below a cabin 50 (space surrounded by an alternate long and two short dashes line 50) and on the outer side in the vehicle width direction are fitted with reinforcement materials 60.例文帳に追加

一対のサイドフレーム２０のうち車室５０（二点鎖線５０で囲まれた空間）の下に位置する部分であって、車幅方向の外側の部分には補強材６０が取り付けられている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a roller-like developer carrier having an electrode pattern on a surface, which can inexpensively form the electrode pattern which is fine, has uniform line width, hardly causes disconnection, and has high quality.例文帳に追加

微細かつ線幅が均一で断線が生じ難い高品質な電極パターンを安価で形成できる、表面に電極パターンを有するローラ状の現像剤担持体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The metal nanoparticle composition is able to form printed conductive features having a coffee ring effect ratio of about 1.2 to about 0.8, a surface roughness of about 15 or less, and a line width of about 200 μm or less.例文帳に追加

金属ナノ粒子組成物は、コーヒーリング効果の比率が約１．２〜約０．８、表面粗さが約１５以下、線の幅が約２００マイクロメートル以下の印刷した導電性の部品を作ることができる。 - 特許庁

To provide a method for generating reference data for performing the inspection of a line width by an APM-PER inspection method using the reference data regardless of a resist pattern or a pattern after etching and re-etching.例文帳に追加

レジストパターンやエッチング後及び再エッチング後のパターンに関わらず、基準データを用いてＡＰＭ−ＰＥＲ検査法による線幅の検査を行うための基準データの生成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain, in an imaging illumination means that uses coaxial illumination by capturing a bright image into an imaging element, and imaging a clear image of a portion where the line width is narrow.例文帳に追加

同軸照明を使った撮像照明手段において、明るい画像が撮像素子に取り込まれるようにするとともに、線幅の細くなっている部分を明瞭に撮像できるようにすること。 - 特許庁

The map display apparatus 1 dynamically changes, in route guidance processing, a display mode (transparency and width) of a route line to be superimposed on a map display screen with the correlation as shown in Fig.2(a).例文帳に追加

地図表示装置１は、経路案内処理において、地図表示画面に重ねて表示する経路線の表示態様（透過性および太さ）が図２（ａ）に示す相関関係をもって動的に変化する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with the excellent exposure latitude (EL) and focus margin (DOF) capable of reducing the line width irregularity (LWR) and residual defect, a chemically amplified resist composition and a resist film.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れ、線幅バラツキ（ＬＷＲ）及び残渣欠陥を低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a novel metal cluster aggregate having a line width ranging from 10 to 300 nm, a polymethyl methacrylate-metal cluster complex for manufacturing the aggregate, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

発明の課題は、線幅が１０〜３００ｎｍの範囲にある新規な金属クラスター集合体、この集合体を製造するためのポリメチルメタクリレート− 金属クラスター複合体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

A plurality of independent circular closed loop conductive foils with prescribed line width are provided in the inner side surface of the tire 50 without a metal mesh or metal wire attached to a wheel 43.例文帳に追加

ホイール４３に装着される金属メッシュや金属ワイヤ等を有しないタイヤ５０の内側表面に、所定の線幅を有する独立した複数本の円形閉ループの導体箔５３が設けられている。 - 特許庁

To provide a substrate processing unit in which the line width of a circuit pattern being formed on a substrate can be kept at a constant level by keeping a constant time elapsing before starting heat treatment after exposure processing.例文帳に追加

露光処理が行われてから加熱処理が行われるまでの時間を一定に保ち、基板上に形成される回路パターンの線幅を一定に保つことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

The clock skew is eliminated by adjusting the transmission delay time of a signal in the clock wire 1 by varying the line width of the shield wires 2 and varying the wiring capacitance of the clock wire 1.例文帳に追加

シールド配線２の線幅を変え、クロック配線１の配線容量を変化させることにより、クロック配線１を伝搬する信号の伝搬遅延時間を調整し、クロックスキューがないようにする。 - 特許庁

To provide a laser aligner for lithography that makes possible a lithography exposure of sub-micron units such as a pattern line width of 0.3 μm corresponding to a 64-bit DRAM having high integration density.例文帳に追加

高集積密度の高い６４ビットＤＲＡＭに対応するパターン線巾０．３μｍというサブミクロン単位の描画露光が可能となるリソグラフィ用レーザ露光装置を提供する事を目的とする。 - 特許庁

The inner rotary brushes 55 and the outer rotary brushes 56 are arranged at opposite sides in a width direction by respectively sandwiching the front wheel 92 and the rear wheel 94 and are offsetly arranged in an axial line.例文帳に追加

内側回転ブラシ５５と外側回転ブラシ５６とは、前車輪９２、後車輪９４を挟んで幅方向の反対側に位置しており、かつ軸線方向にオフセットして配置されている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an ion implantation process which ensures a good profile, a small change in line width at the time of variation in film thickness, and large exposure latitude, and an ion implantation method using the same.例文帳に追加

プロファイル良好で、膜厚変動時の線幅変化が小さく、露光ラチチュードが広い、イオン注入工程用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたイオン注入方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive composition for color filter not only having sufficient hardening property even with a low exposure but also having an excellent pattern shape, further forming a pixel pattern with a narrow line width.例文帳に追加

低露光量でも十分な硬化性を有するのみならず、パターン形状に優れかつ線幅が狭く画素パターンを形成することができる新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁