line-widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3395件
The beam switching is carried out by rotating a mirror member 18 to reflect one part of reflecting light from a reflector 16 upward around a rotational axis line Ax1 extending in a vehicle width direction.例文帳に追加
リフレクタ16からの反射光の一部を上方側へ反射させるミラー部材18を、車幅方向に延びる回動軸線Ax1回りに回動させることによりビーム切換えを行う構成とする。 - 特許庁
The projection pieces 3 are formed by bending a surface side along a straight line in a width direction of the bracket 2 and phase adjusting is performed by butting an inside edge of the projection pieces 2 on side edges of the clip 1.例文帳に追加
突片3をブラケット2の幅方向に沿う直線に沿って表面側に折曲げ形成したことにより、突片3の内側縁をクリップ1の側縁に当接させて位相決めするようにした。 - 特許庁
A detector 23 is provided in a recessed part 17 of a relative displacement member 16, and a line of action of an action body 24 is arranged in the direction which is close to the center of entrance 14 width and approaches a sliding door 15 face.例文帳に追加
相対変位部材16の凹所17に検出器23を設け、出入口14幅の中心寄りであって引き戸15面に近づく方向に作動体24の作動線を配置する。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition which produces an effect of improving a margin for exposure in the production of a semiconductor device, that is, ensures a small change in the line width of isolated lines when light exposure is varied.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、露光マージンに対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁
To perform correlation operation, even when the minimum line width of an ABS pattern is not an integral multiple of an array interval of an ABS light-receiving element array, and enables measurement of moving distance, with high accuracy.例文帳に追加
ABSパターンの最小線幅がABS受光素子アレイのアレイ間隔の整数倍となっていない場合でも、相関演算を行うことができ、高精度に移動距離を計測可能とする。 - 特許庁
To provide an optical recording apparatus capable of acquiring predetermined resolution even when a line width of an exposure pattern is close to a wavelength of exposed light, and reducing time necessary for exposing, and to provide its method.例文帳に追加
露光パターンの線幅が露光光の波長に近い場合であっても所定の解像度が得られかつ露光に要する時間が低減する、光学的な記録装置及び方法を提供すること。 - 特許庁
To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.例文帳に追加
基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁
To provide an electromagnetic wave generator efficiently generating a high-output electromagnetic wave having a narrow line width in the range of 0.1 to 10 THz, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
0.1THzから10THzの範囲の狭線幅の電磁波を高効率に高出力で発生させることを可能とする電磁波発生装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
Consequently, the terahertz wave having a frequency equal to a difference frequency between the pumping light and the synchronous injected light, and having a frequency-variable narrow spectrum line width between 0.3 THz to 11 THz, can be obtained.例文帳に追加
その結果、ポンプ光と同期注入光の差周波数に等しい周波数をもつ0.3THzから11THzの間で周波数可変のスペクトル線幅の狭いテラヘルツ波が得られる。 - 特許庁
Lubricants are supplied to the fixed aprons 116 and 126 and the center guide rolls 118 and 128 installed at the central area in the crosswise direction of the metal stock to be rolled of the width reducing device located in the middle of the hot rolling line.例文帳に追加
熱間圧延ライン途中に設置された幅圧下設備の該被圧延金属材幅方向中央域に設置された固定エプロン116、126やセンターガイドロール118、128を潤滑する。 - 特許庁
To provide a wavelength variable light source capable of performing high-precision wavelength control by suppressing an increase in spectrum line width and phase noise due to wavelength fluctuations exceeding a response speed of a motor.例文帳に追加
モータの応答速度以上の波長揺らぎによるスペクトル線幅の増大や位相雑音を抑制することによって高精度の波長制御を行うことができる波長可変光源を提供する。 - 特許庁
The half-wave dipole antenna 10 has a U shape or a channel shape and has a center part and side parts made different in conductor width and is fed by a microstrip feeding line 6a.例文帳に追加
U字型形状またはコの字型形状を有し、中央部分の導体幅と、側辺部分の導体幅が異なるような半波長ダイポールアンテナ10とし、マイクロストリップ給電線路6aにより給電する。 - 特許庁
The width of the electrodes is increased, and the electrodes are formed in line-symmetric patterns, as the electrode interval s is increased to both of the extending parts of the one light-emitting element group and the other light-emitting element group.例文帳に追加
一方の発光素子群と他方の発光素子群との双方の延在部に対し、電極間隔sが長くなるにしたがって、その幅を広くするとともに、線対称にパターン形成している。 - 特許庁
Each laser beam indicates indication lines 6 which are readable by the line sensor and disposed at an interval corresponding to the length in the width direction orthogonal to the scanning direction on an original 10.例文帳に追加
各レーザ光は、原稿10上に、ラインセンサによって読み取りが可能な、走査方向とは直交する幅方向の長さに対応する間隔があけられた指示線6をそれぞれ表示する。 - 特許庁
An electric potential is supplied with a first cell power supply line 104 having a fixed width, from a first power supply strap 101 for supplying an electric potential to a first standard cell 108 to which an electric potential is supplied.例文帳に追加
電位を供給する第1の電源ストラップ101から電位供給を受ける第1のスタンダードセル108までは、一定幅の第1のセル電源線104で電位を供給する。 - 特許庁
A processing liquid is supplied to the surface of a transported substrate from a plurality of spray nozzles 32 provided above a substrate transporting line and arranged in a substrate transporting direction and in a sheet width direction perpendicular thereto.例文帳に追加
基板搬送ラインの上方に設けられ基板の搬送方向及びこれに直角な板幅方向に配列された多数個のスプレーノズル32から、搬送基板の表面に処理液を供給する。 - 特許庁
To provide a flat panel display device having an electrode pattern which can thicken the line width of a leader part 103 with a simple design regarding the electrode of the thinned leader part 103 causing disconnection.例文帳に追加
断線の原因となる細化された引出し部103電極について、単純な設計で引出し部103の線幅を太くできる電極パターンを有するフラットパネルディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁
The image display means alters the line density or width of hatching in the noise generation process images according to the changing rates of the noise voltages in the noise information or the degree of the layout concentration in the designing information.例文帳に追加
画像表示手段は、ノイズ情報のノイズ電圧の変化率又は設計情報中のレイアウト集中度に応じて、ノイズ発生経路画像におけるハッチングの線密度又は線幅を変更する。 - 特許庁
An electrode resistance Re of the power source line electrode 13 can be reduced as a width We' of the electrode at a part contacting with the pixel opening part 15 is broader than that We of other parts.例文帳に追加
電源線電極13は、画素開口部15と接する部分の電極幅We’が他の部分の電極幅Weよりも大きいため、その電極抵抗値Reを小さくことができる。 - 特許庁
A parallel to serial conversion function and the I/O data width compression function are realized without dragging about a data bus line by dispersed arrangement of the multiplexor circuits 22 and 26 before and after the shift register 24.例文帳に追加
シフトレジスタ24の前後にマルチプレクサ回路22および26を分散配置することで、データバス線を引き回すことなく並列−直列変換機能と入出力のデータ幅圧縮機能を実現する。 - 特許庁
To provide a substrate dividing method for dividing the substrate so that a break end surface is perpendicular to the thickness direction and the width direction along a scribe line, and to provide a device for dividing the substrate.例文帳に追加
ブレイク端面が、スクライブラインに沿って厚み方向におよび幅方向において垂直になるように基板を分割することができる基板の分割方法および基板の分割装置を提供すること。 - 特許庁
Before the spaces S existing behind the empty line of the bobbin holder 29 reach a limit width in which empty bobbin E fall sent from the shooter 28 occur, the empty bobbins E are sent to the bobbin holder 29.例文帳に追加
ボビンホルダ29内の空ボビン列の後方に存在する空間Sが、シュータ28から送り込まれる空ボビンEの倒れが発生する限界広さに達する前に、空ボビンEをボビンホルダ29に送り込む。 - 特許庁
The swing arm base section 31 spreads to the right and left from the vehicle width center line and protrudes from the cylindrical shaft portion 30 to the rearward, and the vertical cross section of the arm portions 32, 33 has a closed cross section structure.例文帳に追加
前記スイングアーム基部31は、車幅中心線から左右に広がると共に前記筒軸部30から後方に突出し、前記アーム部32,33は、垂直断面が閉断面構造となっている。 - 特許庁
Since the edge of the diamond scriber is formed in the shape of the ridge, according to this constitution, enlargement of the groove width of a wafer can be suppressed to be prescribed and the excellent scribe line can be maintained for a long time.例文帳に追加
このように、ダイヤモンドスクライバーの刃先がリッジ状に形成されているため、ウエハーの溝幅の広がりを一定に抑えることができ、良好なスクライブラインを長く維持することができる。 - 特許庁
A size of a subfield and a width of a pole in a stencil mask are input as parameters, a division line for dividing a pattern data with keeping a hierarchical structure into the subfields is marked, and the pattern is divided into the subfields.例文帳に追加
ステンシルマスクのサブフィールドのサイズと支柱の幅をパラメータ入力し、階層構造を保持したままのパターンデータをサブフィールドに分割するための区切り線を入れ、上記パターンをサブフィールドに分割する。 - 特許庁
To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in in-plane uniformity (CDU) of line width, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
線幅の面内均一性(CDU)に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device capable of improving the numerical aperture of a pixel area almost up to 100% without using the most advanced micromachining device whose line-width design rule is stricter.例文帳に追加
線幅の設計ルールがより小さい最先端の微細加工装置を用いることなく画素領域の開口率を100%近くまで向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
In this sheet cutting device, when printing, mark line data printed as an encoder mark 9 are created and printed on a side end part of the sheet 3, while print dot data positioned in the width direction of the sheet 3 relatively to the encode mark 9 are printed.例文帳に追加
印刷時に、シート3の側端部にエンコーダマーク9となるマークラインデータを生成・印刷すると同時に、エンコーダマーク9、及びシート3の幅方向に位置決めされた印刷ドットデータが印刷される。 - 特許庁
The semi-cutting line (a) is cut so that the opened width at the corner of the opened face of the main part is narrower than the diameter of the core of the wrapped film when the lid part (2) is opened from the main part (1).例文帳に追加
また、半切れ線(a)は蓋体部(2)を本体部(1)から開封した際の本体部の開口面の角隅における開口幅が、ラップフィルム巻芯の直径よりも狭い幅になるように穿設する。 - 特許庁
A thin phosphor bronze plate having a thickness of about 0.1 mm or less is etched to obtain an electromagnetic wave shielding device 10 of a zigzag shape having a line width W of about 0.5 mm and a pitch P of about 4 mm.例文帳に追加
約0.1mm以下の板厚を有する薄いリン青銅板をエッチング加工により線幅Wが約0.5mm、ピッチPが約4mmのジグザグ状の電磁波シールド装置10を得る。 - 特許庁
To provide a method of rolling a hot-rolled steel strip by which surplus width is further reduced in a hot rolling line, on which a sizing press is installed, without reconstructing equipment and without confusing a hot rolling process.例文帳に追加
設備改造を行わず、熱間圧延工程を混乱することもなく、サイジングプレスが設置されている熱間圧延ラインにて、余幅をさらに削減できる熱延鋼帯の圧延方法を提供する。 - 特許庁
To provide a image measuring machine which can output the measured results of a circle dimension, line width, etc., to be found only performing such simple operation that only fetches the coordinate values of necessary measuring points through a foot switch, etc.例文帳に追加
フットスイッチ等で必要な測定点の座標値を取り込むだけの簡易な操作で、求めたい円寸法、線幅等の寸法測定結果を出力することができる画像測定機を提供すること。 - 特許庁
To suppress a measuring error caused by a change in the spot position of reflection light occurring when making luminous flux impinge on a fine pattern having line width that is nearly the same as a light source wavelength on an object to be examined.例文帳に追加
被検物上の光源波長と同程度の線幅を持つ微細パターンに光束を入射した場合に生じる、反射光のスポット位置変化に起因する測定誤差を抑制する。 - 特許庁
The light intensity value near the gate edge of the gate pattern is calculated and the dimension shift quantity of the gate line width by a proximity effect is calculated in accordance with the light intensity value in a dimension shift quantity calculating section 605.例文帳に追加
ゲートパタンのゲートエッジ近傍における光強度値を計算し、寸法シフト量計算部605で光強度値に基づいて近接効果によるゲート線幅の寸法シフト量を計算する。 - 特許庁
It is possible to uniformly cover the whole image forming face of the recording material (10) with the coating layer (26) and it is possible to allow only a part coated with ink or a line width coated with ink to be covered with the coating layer (26).例文帳に追加
コーティング層(26)は被記録材(10)の画像形成面全体を均一に被覆するものであってもよいが、インク塗布部分のみやインク塗布した行幅だけをコーティングするものであってもよい。 - 特許庁
To provide an automatic guidance device for an autonomous traveling vehicle, capable of accurately autonomously traveling a vehicle body along a guide line even if the vehicle body is inclined in the vehicle width direction by unevenness of a floor face.例文帳に追加
床面に凹凸があって車体が車幅方向へ傾斜しても、車体を誘導線に沿って正確に自律走行させることができる自律走行車のオートガイダンス装置を提供すること。 - 特許庁
A ratio between a width L1 of a region of the vertical magnetic field component V passing through the zero level three times and a distance L2 from the central axial line of the backing plate 6 to the peripheral part satisfies L1:L2=17:75.例文帳に追加
ゼロレベルを三度通る垂直磁場成分Vの領域の幅L1とバッキングプレート6の中心軸線から周縁部までの距離L2との比がL1:L2=17:75となるように構成される。 - 特許庁
In an end face 22a of the ice chute 22, a first rib 30 is horizontally provided in a width direction of the end face 22a, and its top part 30a comes into line contact with an inner surface 14a of the separator 14.例文帳に追加
アイスシュート22の端面22aには、この端面22aの幅方向に亘り水平に第1のリブ30が設けられ、その頂部30aがセパレータ14の内面14aに線接触している。 - 特許庁
To prevent the occurrence of dielectric breakdown between an end in a word line direction out of the upper surface part of a silicon substrate and a gate electrode while forming a block insulating film to continue in a gate width direction.例文帳に追加
ブロック絶縁膜をゲート幅方向に連続するように構成しながら、シリコン基板の上面部のうちのワード線方向の端部とゲート電極との間の絶縁破壊の発生を抑制する。 - 特許庁
A light pulse with a width TS is repetitively emitted to the object and the sum of signal charges with respect to the light received for a storage period TU1 among the reflected light pulses (hatched line part A1) is detected as the distance information.例文帳に追加
被写体に幅T_S のパルス光を繰り返し照射し、その反射光のうち蓄積期間T_U1に受光される光(斜線部A1)に関する信号電荷の和を距離情報として検出する。 - 特許庁
In this random number generator 100 for generating a random number, on the basis of data obtained from the random number generating sources 101, a resistor array 10 composed of plural resistors having a line width smaller than this process rule line width is formed by a process rule for forming an LSI for constituting the random number generator 100, and this resistor array 10 is constituted as the random number generating sources 101.例文帳に追加
乱数発生源101から得られるデータに基き乱数を発生する乱数発生装置100において、前記乱数発生装置100を構成するLSIを形成するためのプロセスルールにより、このプロセスルール線幅より小さい線幅を有する複数の抵抗体からなる抵抗体アレイ10を形成し、この抵抗体アレイ10を前記乱数発生源101として構成した - 特許庁
In a coplanar filter comprising coplanar resonators comprised of dielectric substrates, center conductors and ground conductors formed on the dielectric substrate and coplanar input/output terminal sections coupled with the resonator via a coupling part, one of a ground conductor spacing and a center conductor line width in the coplanar resonator is made to be greater than a corresponding ground conductor spacing or center conductor line width in each of the input/output terminal sections.例文帳に追加
誘電体基板とその誘電体基板上に形成された中心導体および地導体よりなるコプレーナ共振器と、この共振器と結合部を介して結合されたコプレーナ型入出力端子部とを備えたコプレーナフィルタにおいて、コプレーナ共振器の地導体間隔および中心導体線路幅の一方を入出力端子部の対応する地導体間隔又は中心導体線路幅より大きくした。 - 特許庁
The slimming processing method for a resist pattern for performing slimming processing for a resist pattern formed on a substrate comprises a slimming processing process by applying a reacting substance for solubilizing a resist pattern onto the resist pattern, carrying out heat treatment under predetermined heat treatment conditions and executing development processing for resist pattern slimming processing; and a first line width measuring process for measuring the line width of the resist pattern before the slimming processing process.例文帳に追加
基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第1の線幅測定工程とを含む。 - 特許庁
A fancy sheet 1 which is cut into a predetermined product external form size after greater formation than a predetermined product external form size, a fancy sheet forming a game board placed on a game substrate, wherein a cut line 2 containing width (allowance width) in an allowable range as the predetermined product external form size is included.例文帳に追加
遊技基板上に設けられて遊技盤を構成する化粧シートであって、所定の製品外形寸法より大きく形成された後に所定の製品外形寸法にカットされる化粧シート1において、上記所定の製品外形寸法として許容できる範囲の幅(許容幅)を含ませたカット線2を備えた。 - 特許庁
The microstrip line 10 comprises a base 11, a ground metal 12 formed on the base 11, a dielectric layer 13 formed on the ground metal 12, and a signal wire 14 formed on the dielectric layer 13, wherein the width of the dielectric layer 13 is narrower than the width of the ground metal 12.例文帳に追加
基板11と、基板11の上に形成されたグランドメタル12と、グランドメタル12の上に形成された誘電体層13と、誘電体層13の上に形成された信号線14とからマイクロストリップ線路10を構成し、誘電体層13の幅をグランドメタル12の幅よりも小さい構造とする。 - 特許庁
A field width x' between the gate electrode 8a and the island-shaped gate electrode 9b and the field width x' between the island-shaped gate electrodes are 0.3 μm, and the titanium silicide layer 15a in the region produces thin line effect, so that the resistance value in the diffused layer region adjacent to the gate electrode 9a rises.例文帳に追加
ゲート電極9a、島状ゲート電極9b間のフィールド幅x’及び島状ゲート電極9b,9b間のフィールド幅x’は0.3μmであり、その領域のチタンシリサイド層15aは細線効果を生じるので、ゲート電極9aに隣接する拡散層領域の抵抗値が上昇する。 - 特許庁
The direction of the bending of the lance 29 points to the direction of width, perpendicular to the direction in which the cavity 21 and the lance 29 are standing in a line (direction of height), and a recess parts 31, allowing the elastic bending of the lances 29, are formed between the lances 29 adjacent to each other in the direction of the width by notching the separation walls 23.例文帳に追加
ランス29の撓み方向は、キャビティ21とランス29の並び方向(高さ方向)と直交する向きである幅方向に沿った向きとなっており、幅方向に隣り合うランス29同士の間には、隔壁23を切り欠いてランス29の撓み変形を許容する逃がし部31が設けられている。 - 特許庁
To provide an exposure mask, which includes a plurality of mask portions for forming wiring lines, the mask portions arranged parallel to one another and each having a width equal to or less than the minimum line width dimension determined by the resolution of an exposure apparatus, and which can give a wiring pattern made of a resist material having the same height while preventing the pattern from partially thinning.例文帳に追加
露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。 - 特許庁
To provide a width-reducing die for a hot steel slab capable of enhancing the productivity of a hot rolling line, preventing the occurrence of any product surface defect attributable to a damage of a die, and considerably improving a die basic unit, by preventing any surface damage of the die of a plate width press device and considerably prolonging its lifetime.例文帳に追加
板幅プレス装置の金型の表面損傷を防止して寿命を大幅に延長することにより、熱間圧延ラインの生産性の向上、金型損傷に起因する製品表面欠陥の発生防止、金型原単位の大幅改善等を可能とする、熱間鋼スラブの幅圧下用金型を提供する。 - 特許庁
Consequently, the connectors 65a and 65b allow the width along the X direction of each connector to be larger than when arranged in one line without overlapping with each other in the X direction, and the connector having the required number of contact sections is arranged within the width of the apparatus substrate 20.例文帳に追加
したがって、コネクタ65a及び65bは、X方向に沿って相互に重なることなく一直線上に配置される場合に比べて、個々のコネクタのX方向に沿った幅をより大きくすることが可能であり、所要数のコンタクト部を備えたコネクタを装置基板20の幅の範囲内に配置することができる。 - 特許庁
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