「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

When the search route 101 passing through the high-level road overlaps with the search route 102 passing through the road under the high-level, the search route 101 is moved parallel to the direction of an arrow 103 by the length half of the line width of the search route 101.例文帳に追加

高架道路を通過する探索経路１０１と高架下の道路を通過する探索経路１０２が重なっている場合は、まず探索経路１０１は矢印１０３の方向へ探索経路１０１の線幅の長さの半分の長さを平行移動する。 - 特許庁

Next, on the surface 1a of the cylinder wall shaped-metallic plate 1, the heating line 2c arranged substantially in parallel in the width direction in a longitudinal direction clearance required place which is located down below the neutral surface 3 of the axial direction is heated partially from above by the heating source 4.例文帳に追加

次に、シリンダ壁形状の金属板１の表面１ａにおいて、軸心方向の中性面３よりも下方となる長手方向所要間隔個所に幅方向にほぼ平行に配置した加熱線２ｃを加熱源４にて上方より局所加熱する。 - 特許庁

The depth of the recessed part 8 is set so that the position of a bottom surface 8a is located outside the tangential line of the outside diameter of the crank journal 2 with the outside diameter of the crank pin 3, and the width in the rotational direction of the arm 4 is larger than the outside diameter of the crank journal 2.例文帳に追加

この凹部８の深さについては、底面８ａの位置がクランクジャーナル２の外径とクランクピン３の外径との接線よりも外側に位置するよう、またアーム４の回転方向の幅がクランクジャーナル２の外径よりも大となるよう設定される。 - 特許庁

In-plane inclination components Za_i improvable by changing a temperature compensation value are extracted from the plurality of calculated in-plane inclination components Z_i, and the extracted components are summed to calculate an in-plane inclination Za capable of improving the measurement line width in the wafer plane (S3).例文帳に追加

その算出された複数の面内傾向成分Ｚ_ｉから、温度補正値の変更により改善可能な面内傾向成分Ｚａ_ｉが抜き出され、それらが足し合わされて、ウェハ面内の測定線幅の改善可能な面内傾向Ｚａが算出される（Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a technique which enables the user to obtain a mask pattern high in equality of line width by forming a liquid film of a developer on the surface of a substrate, while suppressing the flow and the ripple within the developer, when performing the application of the developer by a scanning method to the substrate.例文帳に追加

基板に対してスキャン方式による現像液塗布を行うにあたり、現像液内に流れ及び波立ちを抑えながら基板表面に現像液の液膜を形成し、線幅の均一性の高いマスクパターンを得ることのできる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnet fixing tool of permanent magnet type motor which can fix not only the side surfaces of a magnet but also both front and rear portions thereof and can also form an automatic line by eliminating the phenomenon that the width becomes narrow even when mutual superimposing is executed by maintaining an interval when the tools are superimposed.例文帳に追加

永久磁石型モータのマグネット固定具に関するものであり、マグネットの側面のみならず前・後を固定する一方、重畳時間格を維持させて相互重畳されても挟まる現象を無くして自動化ラインを形成できるようにする。 - 特許庁

A side trimmer equipment 1 operates a pair of right/left cutter units 2 to cut a strip S conveyed on a strip processing line L into a prescribed width, and is provided with a burr remover 10 removing the burr D generated in the cut surface of the strip S.例文帳に追加

サイドトリマ設備１は、左右一対の切断ユニット２を作動させて、ストリップ処理ラインＬ上で搬送されるストリップＳを所定の幅に切断するものであり、ストリップＳの切断面に生じたかえりＤを除去するかえり除去装置１０を備える。 - 特許庁

Mount members 6, 7 separately installed on both sides in a width direction perpendicular to a longitudinal direction of a drive unit 5 comprising an engine 3 and a transmission gear 4 are arranged in a manner that a line L connecting arranging parts of both members cross approximately perpendicular to a torque roll shaft T of the drive unit 5.例文帳に追加

エンジン３と変速機４とから成る駆動ユニット５の長手方向に直交する幅方向両側に分設するマウント部材６，７を両者の配置部を結ぶ線Ｌが駆動ユニット５のトルクロール軸Ｔに略直交するように配置する。 - 特許庁

In the sheet 11, receipt sticking spaces 12 being 5-9 cm wide are arranged in a row and/or a line and an expense item space 13 and an estimate item space 14 having almost the same width as the receipt sticking space 12 are disposed vertically above each receipt sticking space 12.例文帳に追加

シート１１には、幅が５〜９ｃｍのレシート貼付欄１２を並列及び／又は縦列するように配置し、各レシート貼付欄１２の上方には、その幅がレシート貼付欄１２と略同一の費目欄１３及び予算欄１４を、上下に配置する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for supplying a paint capable of always obtaining stable coating finish, even in such a state that the control width of air conditioning temperature is large, in an industrial coating line without requiring a large number of processes of a thinner diluted paint or complicated stock control.例文帳に追加

工業用塗装ラインにおいて、シンナー希釈塗料の多大な工数や煩雑な在庫管理を要することなく、空調温度の管理幅が広い状態でも常に安定した塗装仕上りが得られる塗料供給方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In this apparatus, a slit light 31 is applied in a line from a laser device 32 in the width direction of a work 11 while moving a stage 63, and the slit light applied to a marked surface 2 of the workpiece 11 is imaged by a CCD camera 41 and taken into a control unit 71.例文帳に追加

ステージ６３を移動しながらレーザー装置３２からのスリット光３１をワーク１１の幅方向へライン状に照射しつつ、ワーク１１の刻印面２に照射されたスリット光３１をＣＣＤカメラ４１で撮像して制御装置７１に取り込む。 - 特許庁

Hexafluorobenzene of 0.01-5.0 mass % is included in the nonaqueous electrolyte, and graphite powder having a line width of an ESR signal in a range of G value=2.002-2.012 of 2.5 mT or less when an ESR spectrum is measured at room temperature in the nonaqueous electrolyte is used.例文帳に追加

非水電解液にヘキサフルオロベンゼンを0.01〜5.0 質量％の濃度で含有させ、かつ黒鉛粉末として、前記非水電解液中でそのＥＳＲスペクトルを室温で測定した時に、ｇ値＝ 2.002〜2.012 の範囲のＥＳＲ信号の線幅が2.5mT以下となるものを使用する。 - 特許庁

First of all, a light source 14a is structured as a line-segment light source extended in a car-width direction, and a first additional reflector 32 is provided at a lower part of a reflector 16, in front of which, second additional reflectors 34, 34A, 34B are provided, with a diffusion lens 40 provided in further front.例文帳に追加

光源１４ａを車幅方向に延びる線分光源として構成した上で、リフレクタ１６の下方に第１付加リフレクタ３２を設け、その前方に上下３段で第２付加リフレクタ３４、３４Ａ、３４Ｂを設け、その前方に拡散レンズ４０を設ける。 - 特許庁

To the inner side in a vehicular width direction to the belt line skeleton portion 25 on the door inner panel 18, an inner reinforcement 30 making a closed cross-section structure 32 longitudinal in the vehicle body fore-and-aft direction with the door inner panel 18 over a predetermined range in the vehicle body fore-and-aft direction is joined.例文帳に追加

このドアインナパネル１８におけるベルトライン骨格部２５に対する車幅方向内側には、車体前後方向の所定範囲に亘りドアインナパネル１８とで車体前後方向に長手の閉断面構造３２を成すインナリインフォースメント３０が接合されている。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying a coating material capable of always obtaining stable coating finish, even in such a state that the fluctuation width of coating atmosphere condition and surface temperature of an object to be coated is large, in the coating of an aqueous coating material in an industrial coating line, or the like.例文帳に追加

工業用塗装ライン等における水性塗料塗装において、塗装雰囲気条件や被塗物表面温度の変動幅が大きい状態でも常に安定した塗装仕上りが得られる塗料供給方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A shell-type outer ring is such that on the basis of the inside diameter surface of a reference ring in which this shell type outer ring is pressed, the generating line shape of a range where the roller rolls in the width direction in the rolling surface is set to a straightness of 0.008 or less, and a parallelism of 0.015 or less.例文帳に追加

シェル型の外輪は、このシェル型外輪が圧入される基準リングの内径面を基準として、転走面における前記ころが転動する幅方向範囲の母線形状を、真直度：０．００８以下で、かつ平行度：０．０１５以下とする。 - 特許庁

The dust-proof garment is structured as follows: a back face knit part 2 made of dust-proof knit material is formed at a position corresponding to the width-direction center of the back body part and upper than an intermediate position M between a waist line 5 and a neckline 4; and underarm knit parts 3a, 3b are formed at both of underarm parts.例文帳に追加

後身頃の幅方向中央であって、ウェスト線５と襟ぐり線４との中間位置Ｍよりも上方の位置に、防塵性ニット素材によって構成された背面ニット部２を配置し、両脇下部分に、脇下ニット部３ａ，３ｂを配置した。 - 特許庁

An analysis part 522 obtains a shape profile based on the extracted light cutting line and approximates the obtained shape profile with Chebyshev series expansion to obtain a coefficient of extension of the width direction of the rolled plate 7 at an arbitrary position using the coefficient of the series expansion.例文帳に追加

解析部５２２は、抽出した光切断線をもとに形状プロファイルを求めて、求めた形状プロファイルをチェビシェフ級数展開して近似し、級数展開の係数を用いて圧延板７の板幅方向の任意の位置での伸び率を求める。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, with which the reciprocal problem between the resolution and the depth of focus can be solved and a microresist pattern be accurately formed at a sufficiently practical depth of focus than a line width which is sufficient to obtain the depth of focus.例文帳に追加

解像度と焦点深度の相反する問題を解決し、充分に焦点深度が得られる線幅よりも微細なレジストパターンを十分な実用焦点深度をもって高精度に形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A break line 11 of the view field adjusting section 10 uniformly tilts downwardly from the top T disposed at a position offset from the driver toward both sides in the vehicle width direction, so that the driving attitude of the driver becomes stable to suppress disturbance of steering.例文帳に追加

また、視界調整部分１０の見切り線１１は、運転者からオフセットした位置に配置した頂点Ｔから車幅方向両側に向けて一様に下降傾斜しているので、運転者の運転姿勢が安定し、操舵の乱れを抑制することができる。 - 特許庁

A plurality of circumferentially stretching grooves 50 are formed at the tread surface 11 of this tire, and the groove bottom deepest part center 72 of that one of the grooves 50 which is located between a shoulder rib 41 and a second rib 45 is positioned nearer the second rib 45 than the center line 85 of the groove width W.例文帳に追加

トレッド面１１に複数形成される周方向溝部５０のうち、ショルダーリブ４１とセカンドリブ４５との間に位置する周方向溝部５０の溝底最深部中心７２を、溝幅Ｗの中心線８５よりもセカンドリブ４５寄りに位置させる。 - 特許庁

In addition, an auxiliary ruler 24 which is formed of the same width as the reference ruler 10 and the movable ruler 16 and is transparent extending on the straight-line ruler 12, is fitted on the side face, which away from the reference ruler 10, of the movable ruler 16.例文帳に追加

移動定規１６の前記基準定規１０と離反する側の側面には、前記基準定規１０および移動定規１６と同一の幅寸法に形成され、前記直線定規１２上に延出する透明な補助定規２４が取り付けられている。 - 特許庁

The semiconductor chip 1 includes a plurality of electrode terminals where, among the plurality of electrode terminals, a fixed terminal 2 is arranged within 50% of the width of the semiconductor chip 1 with a symmetric line of the semiconductor chip 1 as a center.例文帳に追加

本発明にかかる半導体チップ１は、複数の電極端子を備えた半導体チップであって、複数の電極端子のうち、固定端子２が半導体チップ１の対称線を中心として半導体チップ１の幅の５０％の範囲内に配置されている。 - 特許庁

At the time, the line width of the belt-like conductors 3a-3c is gradually narrowed from the thickness direction center area (3b) of lamination to an upper area (3a) and a lower area (3c), corner parts are increased stepwise and they are formed so as to approximate to a nearly polygonal shape.例文帳に追加

このとき、帯状導体３ａ〜３ｃの線幅は積層の厚み方向中央域（３ｂ）から上部領域（３ａ）及び下部領域（３ｃ）に向かって漸次狭くなっており、階段状に角部を増加させ略多角形状に近似するように形成する。 - 特許庁

This invention is characterized by transposing dot area sorting result, line width sorting result, color sorting result, primary edge detection result, and 2nd edge detection result, to logical value, respectively, distinguishing and outputting image field identification result, in the image field identification portion in the image processing apparatus.例文帳に追加

画像処理装置における像域識別部において、網点領域判別結果、線幅判別結果、色判別結果、第１エッジ検出結果、および第２エッジ検出結果を、それぞれ論理値に置き換えて判別して像域識別結果を出力する。 - 特許庁

To provide a data transmission circuit that can enhance a data transfer rate without increasing a bus width by using one signal line and sending a plurality of data at the same time, and to provide a data reception circuit and a data transmission reception system.例文帳に追加

一本の信号線を用いて同時に複数のデータを伝送することにより、バス幅を増やすことなく、データ転送速度を向上することが可能なデータ送信回路、データ受信回路及びデータ送受信システムを提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a color filter forming material for maskless exposure capable of forming a color filter which is low in cost and excellent in display properties with high sensitivity, less variation in line width due to variation in exposure power and high definition without using a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを用いることなく、高感度でかつ露光パワーの変動による線幅変動が極めて少なく、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れカラーフィルタを形成することができるマスクレス露光用カラーフィルタ形成材料などの提供。 - 特許庁

Since the light source image projected on the irradiation region below the cut-off line CL centered around the elbow portion becomes thick (wide in width), and the region in which adjoining light source images a, a are overlapped is increased, thereby, color unevenness and luminous intensity unevenness in light distribution are not conspicuous and visibility of front area is improved.例文帳に追加

エルボー部を中心にカットオフラインＣＬ下方の照射領域に投影される光源像は太く（幅広に）なって、隣接光源像ａ，ａ同士の重なる領域が増え、配光における色ムラや光度ムラが目立たず、前方視認性が改善される。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁

The corner reinforcing material is formed by bending a long reinforcing material 1 in a longitudinal direction along a separation line 3 formed at an arbitrary position according to the width of a strap B and separating into a size suitable for protecting the external surface of a corner Aa of the article A to be packed around which the strap B is wound.例文帳に追加

長尺の補強材１を、バンドＢの幅に応じて、任意位置に形成した分離線３に沿って長さ方向に対して折り曲げ、バンドＢが巻き付けられる被梱包物Ａのコーナー部Ａａ外面を保護するのに適したサイズに分離する。 - 特許庁

By the existence of the base material pressing portion 54, on a back side elastic layer 32 of the skin 14 stuck to the base material 12, a back side compressed portion 56 wherein a bubble structure is crushed and air is eliminated is formed along an extending line of a breakage estimated portion 22 to have the required width.例文帳に追加

この基材押圧部５４の存在により、基材１２に貼着された表皮１４の裏側弾力層３２に、気泡構造が押し潰されて空気が排除された裏側圧縮部５６が、破断予定部２２の延設ラインに沿って所要幅で形成されている。 - 特許庁

The dummy features 14 are aligned with isolated edges of the features in a position away from the isolated edges by a prescribed distance in a line width equal to the above minimum size in such a way that the intensity of light at the dense edges of the features and that at the isolated edges are made nearly equal to each other.例文帳に追加

ダミーフィーチャー１４は複数のフィーチャーの密集エッジでの光の強さと孤立エッジでの光の強さがほぼ同一になるように、前記孤立エッジから所定距離離れた位置に前記最小寸法の線幅で前記孤立エッジに並べて配列される。 - 特許庁

When a bead base line is made as a reference, a ratio (Hc/Hm) of the height Hc in a radial direction to the center of the projection 24 to the height Hm in a radial direction up to a point of the axially maximum width of a side surface 64 is 0.35 or more and less than 0.45.例文帳に追加

ビードベースラインが基準とされたとき、この突起２４の中心までの半径方向高さＨｃの、この側面６４の軸方向最大幅となる点までの半径方向高さＨｍに対する比（Ｈｃ／Ｈｍ）が、０．３５以上０．４５未満である。 - 特許庁

The groove of the flat belt 10 is formed as an oblique groove having a predetermined tilt angle to the rotation axis or a generating line of the rotating drive body, and the oblique groove has a lightning shape or a symmetrical shape with respect to the width direction center of the belt.例文帳に追加

平ベルト１０の溝を回転駆動体の回転軸線又は母線に対して所定の傾斜角度を持つ斜め溝として形成し、さらに該斜め溝が稲妻形状又はベルト幅方向中心線に対して対称形状である平ベルトである。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, a method for fabricating a semiconductor device, and an apparatus for forming the resist pattern, in which advantages of sililation process is displayed while line width can be controlled precisely and uniformly in plane irrespective of density or size of the pattern.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびレジストパターンの形成装置を提供すること。 - 特許庁

An intermediate member comprising a ferromagnetic dumping material is provided independently on the center line of width in teeth 7, on the outer peripheral surface of a stator core abutted with a housing 2, in between the outer peripheral surface of the stator core (annular part) and the inner peripheral surface of the housing 2.例文帳に追加

ステータコア（環状部６）の外周面とハウジング２の内周面との間で、ハウジング２と当接するステータコアの外周面において、ティース部７におけるその幅中心線上に独立して強磁性型の制振材料からなる中間部材４が設けられる。 - 特許庁

To provide a novel acid generator which has excellent resolution and line width roughness in a chemically amplified resist composition, and has less effluence into water in ArF immersion processes, and also to provide a production method for synthesizing intermediate substances used in the production of the acid generator.例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物において、優れた解像度とライン幅ラフネスを有し、ＡｒＦ液浸工程において水への溶出の少ない新規な酸発生剤およびその製造時に用いられる中間物質を合成する製造方法を提供。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a photo-curable composition capable of forming a pixel pattern having a minute pattern size such as line width of 2.5 μm or less with a low exposure amount, capable of suppressing the occurrence of residue between pixels and capable of suppressing exposure dependency of the pattern size low.例文帳に追加

微細な（例えば、線幅２．５μｍ以下の）パターン寸法を有する画素パターンを、低い露光量で形成することができ、画素間の残渣の発生を抑制することができ、パターン寸法の露光量依存性が低い光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

A second straight shallow groove 27 forms a line extending from the circumferential groove 14 side located in a center of the tire width direction of a tread face to a tread end side backward of the tire rotational direction, and one end thereof reaches the circumferential groove 14 and the other end reaches the tread end.例文帳に追加

第２直線浅溝２７は、トレッド面のタイヤ幅方向の中央部に位置する周溝１４側からタイヤ回転方向の後方に向かってトレッド端部側に延びる直線とされ、一端が周溝１４まで達し、他端がトレッド端に達している。 - 特許庁

In the pattern forming method for forming a transfer pattern for a design pattern by performing lithographic processing, the line width measuring position of the design pattern is extracted on the basis of a previously set condition and a length measuring position recognition pattern is added to the extracted position (ST101).例文帳に追加

リソグラフィ処理を行うことで設計パターンの転写パターンを形成するパターン形成方法において、予め設定された条件に基づいて設計パターンにおける線幅測長箇所を抽出し、抽出箇所に測長箇所認識パターンを追加する（ST101）。 - 特許庁

A controller 1 acquires parameter information of at least any among the stroke count from a stroke count table 61c by using the size, line width and character cord of the character inputted from an input section 1 based on a scroll display program 60a.例文帳に追加

制御部１は、スクロール表示プログラム６０ａに基づいて、入力部１から入力される文字のサイズおよび線幅、入力部１から入力される文字コードを用いて画数テーブル６１ｃからの画数のうち少なくとも何れかのパラメータ情報を取得する。 - 特許庁

Since the exposed substrate can be heated in a steam atmosphere, an exposed area of even a resist which has been subjected to short-time electron beam exposure with a little dose of energy can be sufficiently transformed by heat treatment which improves the line width accuracy.例文帳に追加

露光された基板を水蒸気雰囲気で加熱できるため、短時間の電子ビーム露光がなされたエネルギー注入量の少ないレジストの場合であっても加熱処理により露光領域にあたる部位を充分に変質させることができ、線幅精度も向上する。 - 特許庁

A bonding pad whose width is an effective wavelength of a pass frequency of a dielectric board or below is placed to a tip of a microstrip line configured on the dielectric boards and its capacitive component that depends on the size of the pad can reduce the mismatching by the wire at the pass frequency.例文帳に追加

複数の誘電体基板に構成したマイクロストリップ線路の先端に、幅が誘電体基板における通過周波数の実効波長以下でのボンディングパッドを配置し、そのパッド寸法によって、通過周波数におけるワイヤによる不整合を低減する。 - 特許庁

Integration data by integrating a plurality of read pixel data obtained from a plurality of photoreceptors of the line sensor 120 in a certain width in a recording sheet feeding direction, is compared with an integrated value of expected read data expected from normally droplet-struck image to specify a defective nozzle.例文帳に追加

ラインセンサ１２０の複数の受光素子から得られる複数の読取画素データを記録紙搬送方向に一定の幅で積分した積分データと、本来打滴されるべき画像から期待される期待読取データの積分値とを比較して不適切ノズルを特定する。 - 特許庁