「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

The orifice 38 to flow out fuel is formed in the position out of both two virtual ranges va1 and va2 which are sandwiched by the injection ports 39b opposed to each other and extended in the axis line L1 direction and have the same width as the air injection port 39b.例文帳に追加

燃料を流出するオリフィス３８は対向するエア噴射口３９ｂ同士に挟まれ同エア噴射口３９ｂと等しい幅を有して軸線Ｌ１方向に延在する二つの仮想領域ｖａ１，ｖａ２の双方から外れた位置に設けられる。 - 特許庁

To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

Copper foil and resist are laminated on a substrate, drawing is directly performed by using the width of the pattern line specified by pattern data for machining for exposure, the exposed resist is developed for forming a resist pattern, and the copper foil on the substrate is etched for forming a formation pattern.例文帳に追加

基板上に銅箔およびレジストを積層し、加工用パターンデータにより指定されたパターン線の線幅を用いて直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、基板上の銅箔をエッチングして形成パターンを形成する。 - 特許庁

In this case, a bar code processing part 15 and a display processing part 17 generate and arrange the bar code following a bar code display layout (a peripheral margin region, the width of the narrowest line, the color of a character or the like displayed together with the bar code, or the like) corresponding to a display part specification of the display 18.例文帳に追加

このとき、バーコード処理部１５および表示処理部１７が、ディスプレイ１８の表示部仕様に応じたバーコード表示レイアウト（周囲の余白領域、最細線の線幅、バーコードとともに表示する文字等の色など）に従ってバーコードを作成・配置する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.例文帳に追加

たとえばＥＵＶ光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁

A connected condition reference line L is drawn in the width direction of the flat cable 1 in the vicinity of a connection end part 4 of the flat cable 1 and at a location visible from the outside under a condition that the connection end part 4 is normally connected to a mating connector 9.例文帳に追加

フラットケーブル１の接続端部４の近傍であって、当該接続端部４が相手側のコネクタ９に正常に挿入接続された状態で外部から目視可能な位置に、その幅方向に沿って、接続状態判別基準線Ｌが付される。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having low humidity dependency of the line width of characters in development and capable of ensuring high image density (Dmax) even in a low humidity environment as a heat developable photosensitive material particularly for a photomechanical process and particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、文字線幅の現像時の湿度依存性が小さく、低湿環境下でも高い画像濃度（Ｄｍａｘ）を確保することが可能な熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

The communication line of the communication cable is protected with a casing, composed of two or more synthetic resin layers, and a longitudinally continuous spiral slit 15 with a slit width which is substantially zero is formed in the hardest resin layer 13 of the casing.例文帳に追加

通信線を２層以上の合成樹脂層からなる外被により保護した通信ケーブルであって、外被のうち最も硬質の樹脂層１３に、長手方向に連続的でスリット幅が実質的にゼロである螺旋状のスリット１５を形成したものである。 - 特許庁

The operation handle 65 can freely be turned according to the operation form to both positions at the operator 147 side and the opposite side by bordering the extended line 49 of a handle post 45 by using a handle spindle part 74 extending in the width direction of the transmission case 12.例文帳に追加

この操作ハンドル６５は、作業形態に応じて、トランスミッションケース１２の幅方向に延びるハンドル支軸部７４を支点にして、ハンドルポスト４５の延長線４９上を境に操作者１４７側とその逆側との双方の位置に揺動自在とした。 - 特許庁

The lane width dx and its y-coordinate values are approximated to the linear function expression collectively concerning the whole of the pick-up image, and the combination of the right and left white line candidate points existing near the approximated approximate expression is extracted as a candidate point group B (steps S5, S6).例文帳に追加

この車線幅ｄｘとそのｙ座標値とを、撮像画像全体について一括で一次関数式に近似し、近似した近似式の近傍に存在する左右の白線候補点の組み合わせを、候補点群Ｂとして抽出する（ステップＳ５、Ｓ６）。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The guide part 110 and the extension part 513 are arranged in a line in the width direction of the paper P, and an upstream end 514 of the extension part 513 is retreated with regard to a guide surface 111 for guiding the paper P among the guide part 110 when feeding the paper P.例文帳に追加

ガイド部１１０と延出部５１３とは、用紙Ｐの幅方向に並ぶように配置され、延出部５１３の上流端５１４は、用紙Ｐを供給するときに、ガイド部１１０のうち用紙Ｐをガイドするガイド面１１１に対して没入している。 - 特許庁

By disposing the second coated optical fiber 18 and the third coated optical fiber 19, excluding the first coated optical fiber 17 and the fourth coated optical fiber 20 at both ends, being deviated from the center axis line A0, the ribbon width L1 can be reduced.例文帳に追加

これにより、両端の第１光ファイバ心線１７及び第４光ファイバ心線２０以外の第２光ファイバ心線１８及び第３光ファイバ心線１９が中心軸線Ａ０からずらして配置されることでテープ幅Ｌ１を狭めることができる。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying device, which performs drying processing on a coating film formed on a substrate to be processed, reduces within-wafer nonuniformity of the coating film after the drying processing, and improves uniformity of the remaining film thickness and line width of the coating film in a wiring pattern forming process.例文帳に追加

被処理基板に形成された塗布膜に乾燥処理を施す減圧乾燥装置において、乾燥処理後の塗布膜の面内均一性を向上し、配線パターン形成過程における前記塗布膜の残膜厚及び線幅の均一性を向上する。 - 特許庁

To prevent adverse effect on the product quality even if the line width of a conductive convex pattern layer formed by the "drawing primer system intaglio printing method" becomes thicker when the print speed is increased in order to highly reconcile the electromagnetic wave shielding performance and the optical transparency of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を速くした時に太っても、製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

Preferably, an inclination sensor 8 which detects the inclination of the machine frame in the width direction and a controller 12 which acts the cylinder actuator to have a predetermined inclination against the horizontal line depending on a detected signal by the inclination sensor are installed.例文帳に追加

好ましくは、機体フレームの機幅方向の傾きを検出する傾斜センサ（８）と、この傾斜センサが検出した検出信号に基づいてシリンダアクチュエータを、上記傾きを水平に対して所定範囲内に保持するように作動させるコントローラ（１２）とを備えた。 - 特許庁

To realize a debug function-incorporated microcomputer that can create a debugging environment facilitating analysis and compress output information even when tracing contents of an instruction bus via an output signal line smaller in bit width than the instruction bus.例文帳に追加

命令バスのビット幅よりも少ないビット幅の出力信号線で命令バスの内容をトレースする場合でも、解析しやすいデバック環境を生み出し、出力情報を圧縮することが可能なデバック機能内蔵型マイクロコンピュータの実現を課題とする。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with, on the upper side of a base 21: a plurality of gate electrodes 13 formed mutually parallel to a gate width direction 15; a base line part 17 formed extending to the gate length direction 11; and a plurality of main electrodes 19.例文帳に追加

半導体装置は、ゲート幅方向１５に互いに平行にかつ離間して形成されている複数のゲート電極１３と、ゲート長方向１１に延在して形成されている基線部１７と、複数の主電極１９とが下地２１の上側に設けられている。 - 特許庁

To provide means capable of improving line width linearity by optimizing current density uniformity of a figure 8 having restricted dimensions, as to an automatic adjusting method of a charged particle beam drawing device and the charged particle beam drawing device.例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置の自動調整方法及び荷電粒子ビーム描画装置に関し、寸法の制限された図形８の電流密度均一性を最良化し、線幅線形性を向上させることができる手段を提供することを目的としている。 - 特許庁

A cell definition information generation processing part 11 generates format cell definition information 21 and overlay definition information 23 deciding column width and line height showing the arrangement of the items of business forms and overlay from format definition information 31 and overlay definition information 33.例文帳に追加

セル定義情報生成処理部１１は，フォーマット定義情報３１とオーバレイ定義情報３３から，それぞれ，帳票およびオーバレイの項目の配置を示す列幅および行高を定めるフォーマット・セル定義情報２１，オーバレイ・セル定義情報２３を生成する。 - 特許庁

A coefficient which is set individually for the linewidths is stored in a coefficient storing part 113, and a linewidth compensation coefficient multiplying part 111 acquires compensating coefficients, corresponding to the linewidth, regarding edge and detected pixel detected, and performs multiplication to thereby correct the line width.例文帳に追加

係数記憶部１１３には、線幅に対して個別に設定された係数が記憶され、線幅補正係数乗算部１１１は、エッジと検出された画素について、検出された線幅に対応した補正係数を取得し、乗算することで、その線幅を補正する。 - 特許庁

One circular communication hole 41 is formed, penetrating in the width direction corresponding to a measuring line of an ultrasonic beam on each partition wall 40, and each thin plate-shaped or sheet-shaped adjustment net 42, constituted of a reticulated material, is overlaid on each communication hole 41.例文帳に追加

各仕切壁４０には、超音波ビームの測線に対応させて１個の円形状の連通孔４１が幅方向に貫通形成され、各連通孔４１には、網目状素材で構成された薄板状又はシート状の調整網４２が重ね合わせてある。 - 特許庁

A head controller 46 selects a nozzle to be used in which the overlapped width of nozzles between respective units in a joint of the units is zero, and using the nozzle to be used, from line image data and character image data, ink droplets are delivered from inkjet recording heads 20Y-20K.例文帳に追加

ヘッドコントローラー４６は、ユニットの繋ぎ部分における各ユニット間のノズルのオーバーラップ幅がゼロとなる使用ノズルを選択し、その使用ノズルを用いて線画像データ及び文字画像データに基づいてインクジェット記録ヘッド２０Ｙ〜２０Ｋインク滴を吐出させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, an image forming method and a process cartridge capable of setting the variable extent of the line width of an output image nearly the same as that in the conventional manner without causing a change in a fog value in a non-developing area even in the case of using toner of small grain diameter.例文帳に追加

小粒径のトナーに対しても、非現像領域のカブリ値が変わることなく出力画像の線幅の可変範囲を従来の手法と同程度に設定することができる画像形成装置，画像形成方法，プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The body region 32 is so formed as to have a narrow width W in the shape of a cross section nearly orthogonal to a line whereby the source region 24 and the drain region 28 are connected, and the MOS field effect transistor 20 becomes the complete depletion-type one having no neutral region in the body region 32.例文帳に追加

ボディー領域３２は、ソース領域２４とドレイン領域２８とを結ぶ線にほぼ直交する横断面の形状において、狭い幅Ｗで形成され、ボディー領域３２に中性領域が存在しない完全空乏型となっている。 - 特許庁

A marker 4 is printed as a continuous line mark covering a whole region of a label width and not breaking off and as an "×" mark crossing in a diagonal way lapping with a bar code while printing a marker 4 for invalidating a published label 3 on a merchandise information 1.例文帳に追加

発行したラベル３を無効にするための目印４を商品上の１の上に重ねて印字するとともに、目印４は、ラベル幅全域に亘る途切れない連続した線印としてかつバーコードに重ねて対角的に横断した「×」印として印字される - 特許庁

The receiver 23 is arranged at the position deviated outwardly in the vehicle width direction from a line connecting the front wheel transmitter 21 to the rear wheel transmitter 22, in other words, between a radiator fluid reserve tank 46 and a radiator 35 in a space surrounded by a front cowl 15 and a side panel 18.例文帳に追加

受信機２３は、前輪送信機２１および後輪送信機２２を結ぶ直線から車体幅方向外側に偏倚した位置、つまりフロントカウル１５とサイドパネル１８とで囲まれたスペースのラジエータ液リザーブタンク４６とラジエータ３５との間に配置される。 - 特許庁

And semiconductor chips 11-1, 11-2 are formed by making a semiconductor wafer divide into individual pieces in such a way that at least one side between a positioning mark of the dicing line and the test pads is mechanically diced at a width narrower than an exposure area 18 of the laser.例文帳に追加

そして、ダイシングラインの位置合わせマーク及びテストパッドの少なくとも一方上に対してレーザの照射領域１８よりも狭く機械的なダイシングを行うことにより、半導体ウェーハを個片化し、半導体チップ１１−１，１１−２を形成する。 - 特許庁

A plurality of circular lines 14a, 14b, 14c, 14d, 14e arranged in the shape of concentric circles are drawn and the discrimination information for discriminating the kinds of coins by combination of arrangement intervals H1, H2, H3, H4 of the plurality of circular lines and line width M is recorded in the discrimination part.例文帳に追加

識別部には、同心円状に配置された複数の円形線１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ，１４ｅが描かれており、これら複数の円形線の配置間隔Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４と線幅Ｍとの組み合わせによってコインの種類を識別するための識別情報が記録される。 - 特許庁

To provide a conductive roller for an electro-photographic device used as a developing roller or a transcribing roller or a charging roller to be excellent in stability of electric resistance to eliminate process unstability of bonding agent application unevenness, width dimension, etc., generating a problem in an existing line.例文帳に追加

現像ロ−ラ又は転写ロ−ラもしくは帯電ロ−ラとして使用される、電気抵抗の安定性に優れ、現行ラインで問題となる接着剤塗布ムラや巾寸法等の工程不安定性を無くした電子写真装置用の導電性ロ−ラの提供。 - 特許庁

According to the detected result, the glass 114 is rotated by setting the main scanning direction as a rotational axis, and the incident angles of two light beams are changed, whereby the distance of the beam on the drum 108 is adjusted to be the integral multiple of the line width of the light beam.例文帳に追加

検出結果に従って、平板ガラス１１４を主走査方向を回転軸にして回転させ、２本の光ビームの入射角度を変化させることにより、感光体ドラム１０８上のビーム間隔が光ビームのライン幅の整数倍となるように調整する。 - 特許庁

A wiring width optimizing means 8 optimizes the widths of the power supply wring, the ground wiring of the trunk line, the widths of the power supply wiring and the ground wiring which connects the specified circuit block on the basis of the power dissipation value stored by the storage means 4.例文帳に追加

さらに、配線幅最適化手段８は、幹線の電源配線およびグランド配線と、前記特定した回路ブロックとを接続する電源配線およびグランド配線の線幅を、記憶手段４が記憶している消費電力の値にもとづいて最適化する。 - 特許庁

The method for producing the carbon fiber comprises the following process: After a precursor fiber is formed from the thermoplastic carbon precursor, the precursor fiber is heat-treated to form a stabilized precursor fiber, which is then baked so as to result in that the spectrum line width of the electron spin resonance of the baked fiber decrease at least once and then increase.例文帳に追加

熱可塑性炭素前駆体から前駆体繊維を形成した後、熱処理して安定化前駆体繊維を形成し、ついで安定化前駆体繊維の焼成で、電子スピン共鳴のスペクトル線幅が少なくとも一回は減少して増加させる。 - 特許庁

A closed space covering a region including a scribe line formed on an upper face of the fragile substrate at the center and having a predetermined width is created, and a pressure in the closed space is reduced to break the fragile substrate by curving it slightly into a reverse V shape.例文帳に追加

脆性基板の上面に形成したスクライブラインに対し、そのスクライブラインを中央に含むようにして所定幅の領域を覆う閉空間を作り、その閉空間を減圧することにより、脆性基板を逆Ｖ字状に僅かに湾曲させてブレイクを行う。 - 特許庁

Volume resistance of the silver layer 35 forming the heat-treated electromagnetic wave shield layer 31 should be 0.5-2.0[10^-5Ω cm], its film thickness be 4-18[μm], its line width be 8-20[μm], and its surface resistance be 0.06-0.15[Ω/square].例文帳に追加

そして、熱処理された電磁波シールド層３１を形成する銀層３５の体積抵抗値を０．５〜２．０〔１０^−５Ω・ｃｍ〕、銀層３５の膜厚を４〜１８〔μｍ〕、銀層３５の線幅を８〜２０〔μｍ〕、銀層３５の表面抵抗値を０．０６〜０．１５〔Ω／□〕とする。 - 特許庁

A filter 20 is composed of a column 4 made by shaping a strip 8 comprised of metal mesh or metal nonwoven fabric into a corrugated strip 3 comprised of an edge line 7 extending into at least the width direction and grooves 6 and winding up or laminating the corrugated strip 3 spirally.例文帳に追加

フィルタ２０は，金網又は金属製不織布から成る帯体８を少なくとも幅方向に延びる稜線７と溝６から成る波状帯体３に成形し，波状帯体３を螺旋状に巻き上げた又は積層した柱状体４で構成されている。 - 特許庁

The radiation patterned coating material can have a high contrast with respect to material properties, such that development of a latent image can be successful to form lines with very low line-width roughness and adjacent structures with a very small pitch.例文帳に追加

この放射状パターン形成されたコーティング材が材料特性に関して高いコントラストを有し得ることによって、潜像の現像にきわめて低いライン幅粗さを有するラインおよびきわめて小さなピッチを有する隣接構造体をうまく形成し得る。 - 特許庁

Magnetization vibration can be excited by spin transfer from the magnetization fixed layer to the magnetization free layer through conduction in the direction perpendicular to the surface of the multilayer film, and noise is lowered in the vicinity of oscillation frequency by narrowing the oscillation line width of the magnetic oscillation element.例文帳に追加

多層膜の膜面に対して垂直方向の通電によって磁化固定層から磁化フリー層へのスピントランスファによる磁化振動が励起でき、磁性発振素子の発振線幅を狭くすることによって発振周波数付近の雑音を低下させる。 - 特許庁

The wiring line 102 is led out of a bump electrode formation region where a bump electrode BP1 is formed, toward pad electrodes P1 and P1 for output, but the wiring width W1 of a lead-out portion is larger than the diameter R1 of the bump electrode R1.例文帳に追加

また、配線１０２は、バンプ電極ＢＰ１が形成されたバンプ電極形成領域から出力用のパッド電極Ｐ１，Ｐ１の方向へ引き出されるが、その引き出し部の配線幅Ｗ１はバンプ電極ＢＰ１の直径Ｒ１よりも大きくなっている。 - 特許庁

In the display device having display electrodes made of a transparent electrode 24 and a bus electrode 25 formed on a substrate, the width of the line of the bus electrode 25 at the screen display region is made smaller on the downstream side of feeding direction than on the upstream side.例文帳に追加

基板上に形成された透明電極２４とバス電極２５からなる表示電極を有する表示装置において、画面表示領域におけるバス電極２５の線幅を給電方向上流側より下流側の方を小さくしたものである。 - 特許庁

To exactly control the line width of electrodes formed on an inorganic film and an organic film, in a transverse field system liquid crystal display device having the inorganic film consisting of an inorganic substance and the organic film consisting of an organic substance as base layers of the electrodes.例文帳に追加

電極の下地膜として無機性物質からなる無機膜及び有機性物質からなる有機膜を有する横電界方式の液晶表示装置において、それらの無機膜及び有機膜上に形成される電極のライン幅を正確に制御する。 - 特許庁

In the exposure of subfield rows (electrical stripes) on a reticle 10, a variation in line width due to the effect of a non-patterned charged particle beam dose (fogging) on a wafer 23 is made uniform by varying the shot time through control of a blanking opening 7 while sustaining a constant shot cycle.例文帳に追加

レチクル１０のサブフィールド列（エレクトリカルストライプ）の露光において、ショットサイクルは一定に保ったまま、ブランキング開口７をコントロールしてショットタイムを変化させて、ウェハ２３上への非パターン化荷電粒子線ドーズ（かぶり）の影響による線幅変動を均一化する。 - 特許庁

In this automatic conveying apparatus, the roller conveyers are arranged side by side corresponding to the width of the fixed form pallet along both sides in the flow direction of the conveyed material of the transport line and a slat conveyer capable of placing the bottom of a cargo truck to be conveyed is disposed between the roller conveyers.例文帳に追加

自動搬送装置を、輸送ラインの被搬送物流れ方向両側に沿って、定型パレット幅に対応させてローラコンベアを並設すると共に、これら各ローラコンベア間に、カーゴ台車の底部を載置して搬送可能なスラットコンベアを配設して構成した。 - 特許庁

In an image analyzing apparatus 100, the image of a chart picked up by using the lens barrel 200 is taken in to calculate line width and contrast of a wedge pattern on the chart image, and the number of critical TV resolution stripes is calculated on the basis of these calculation results.例文帳に追加

画像解析装置１００は、鏡筒２００を使用して撮像したチャートの画像を取り込んで、チャート画像上のくさびパターンの線幅、およびコントラストを算出し、これらの算出結果に基づいて限界ＴＶ解像縞本数を算出する。 - 特許庁

A line sensor 20 is provided with a width to enable a photoelectric conversion element 21 to receive the stimulable luminous light from 30% up to 90% of the spreading light thereof in such a manner that the element can receive the spreading light of the linear stimulable luminous light M emitting from a stimulus phosphor sheet 50.例文帳に追加

蓄積性蛍光体シート50から発光する線状の輝尽発光光Ｍの広がり光も受光できるように、ラインセンサ20において、光電変換素子21が輝尽発光光の広がり光の30％から90％まで受光できるように幅を持たせる。 - 特許庁