「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing cast coated paper, with which deterioration of gloss on a cast coated face while dealing with speed-up of a line is prevented and cast coated paper is properly prevented from being curled in the whole area in the width direction without causing rise in an installation cost.例文帳に追加

ラインの高速化に対応しつつキャスト塗被面の光沢の悪化を防止することができるとともに、設備コストの高騰を伴うことなくキャスト塗被紙の幅方向全域に渡って適切にカールを防止することができるキャスト塗被紙の製造方法を提供する。 - 特許庁

(1) The leader tape wherein a coating layer including powder and a binder is provided on at least one surface on a substrate has 10 to 60 nm center line average surface roughness (Ra) and 0 to 1 mm/ 1/2 inch width cupping of at least one surface thereof.例文帳に追加

１）支持体上の少なくとも一方の面に粉体と結合剤を含む塗布層を設けてなるリーダーテープにおいて、前記リーダーテープの少なくとも一方の面の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、かつカッピングが１／２インチ幅あたり０〜１ｍｍであることを特徴とするリーダーテープ。 - 特許庁

To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a large inorganic partition wall layer for a PDP having a tall partition wall with low dielectric constant and a high aspect ratio, of which, the width of line and thickness of various patterns of the separation wall after baking and the dielectric scarcely changes, and to provide a manufacturing method for it.例文帳に追加

焼成後の隔壁や誘電体の各種パターンにひび割れがなく、かつ線幅や膜厚の変化がほとんどない、しかも低誘電率、かつ高さの高い高アスペクト比の隔壁を有した大サイズのＰＤＰ用無機隔壁層、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A lead portion 605 formed on the strip line 601 of a triplate formed on a multilayer circuit board consists of an internal conductor 602, two finite-width glands 603 sandwiching the internal conductor 602, via holes 608 for short-circuiting the two glands 603 at either ends in the cross direction.例文帳に追加

多層回路基板に形成されたトリプレートのストリップ線路６０１に形成されたリード部６０５は、内導体６０２と、内導体６０２を挟む有限幅の二つのグランド６０３と、グランド６０３の幅方向の両端において二つのグランドを短絡するヴィア６０８によって構成される。 - 特許庁

To retain the straight line of the abutting surface of each arm split when the arm is deposited in heating atmosphere, the supplying paths 30a-30f are prolonged along the longitudinal direction in at least one of the arm splits and are disposed in the approximately central position in the width direction.例文帳に追加

供給路３０ａ〜３０ｆは、アームが加熱雰囲気内に置かれたときに該各アーム分割体の突合せ面の直線が維持されるように、前記少なくとも一方のアーム分割体内でその長手方向に沿って延び、その幅方向における略中央の位置に配置されている。 - 特許庁

To provide a method and a device for continuously cutting a sheet-like material, capable of cutting a wide sheet-like material into the optional width and continuously manufacturing continuous thin members with no cut line by one cutting device and a cutting edge.例文帳に追加

一台の切断装置及び切断刃により、幅広のシート状材料を任意の幅に変更して切断することが可能であり、連続した切れ目のない細物部材を連続的に製造することが出来るシート状材料の連続切断方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

A moving vector detecting part 24 detects moving vectors in the respective areas of the image on the basis of these frame image data and car speed data and a moving vector processing part 25 evaluates the pattern of the moving vector on a reference horizontal line and finds a distance and road width up to the wall surface of a road end.例文帳に追加

移動ベクトル検出部２４では、これらのフレーム画像データと車速データに基づき画像の各領域の移動ベクトルを検出し、移動ベクトル処理部２５では、基準水平ライン上の移動ベクトルのパターンを評価して、道路端の壁面までの距離と道幅を求める。 - 特許庁

The pattern edge of a discharge inactive membrane 22 is formed at a position near the bus-bar portion b side or at the position at a distance of 50 μm or more from the electrode part fb, and the line width of the portion of the address electrode W facing the membrane 22 is narrower than the portion of the electrode YG facing the electrode part fp.例文帳に追加

放電不活性膜２２のパターンエッジは、母線部ｂ側に近い位置か、電極部ｆｐから５０μｍ以上の距離を隔てた位置に設けられ、アドレス電極Ｗの膜２２に対面する部分の線幅は、電極ＹＧの電極部ｆｐに対面する部分よりも細い。 - 特許庁

The gate driving module is connected with gate driving signal input lines (253 etc.), and gate driving signal by-pass lines (254 etc.), and it is made possible to easily inspect whether or not the gate driving signals are effective by providing either or both of the lines with a pattern having a width larger than each line.例文帳に追加

ゲート駆動モジュールにはゲート駆動信号入力線（２５３等）及びゲート駆動信号バイパス線（２５４等）が接続されており、これらの一方あるいは両方に各線より大きな幅寸法のパターンを設けゲート駆動信号の有効可否を容易に検査することができるようにした。 - 特許庁

A mask 30 for use in an electron beam proximity aligner 1 is provided while altering the line width (Wma-Wmc) of each aperture (35a-35c) depending on the distance between a mask thin film 32 and a sample 40 at the position of the aperture (35a-35c) which varies due to the deflection of the thin film 32.例文帳に追加

電子ビーム近接露光装置１に使用するマスク３０を、その薄膜部３２のたわみにより変化する、各開口（３５ａ〜３５ｃ）位置におけるマスク薄膜部３２と試料４０との距離に応じて、当該開口（３５ａ〜３５ｃ）の線幅（Ｗｍａ〜Ｗｍｃ）を変更して設ける。 - 特許庁

A pattern of electromagnetic wave shielding ink comprising two or more ink lines each of which has a width of L and crosses with each other to form a mesh is provided on one surface of the film base material to form the electromagnetic wave shielding member, and the intersections of the ink lines are each 1.2 to 3 times as thick as the ink line.例文帳に追加

電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、ライン交点部分の膜厚がライン部分の１. ２倍〜３倍である。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

Thereby the runway is kept horizontal in the width direction through the gravity to form a perfect straight line.例文帳に追加

走行路幅方向を水平に保つための錘部をゴルフボール走行路に設け、ゴルフボール走行路縦長方向中心軸部を支点とし、揺動可能に装着保持する支点保持部を設けた支持部材に装着保持され、ゴルフボール走行路幅方向を重力により水平に保ち、完全なストレートラインを構成する。 - 特許庁

Specially, the processing part 54 performs the process of carrying out the process so that the processing intensity gradually decreases from inside the processing object area toward the peripheral edge at the part in the source image corresponding to the outline of the specific line width by an outline processing part 54a.例文帳に追加

特に、処理部５４では、元画像データ上の前記所定の線幅の輪郭線に対応する部分においては、前記処理対象領域の内側から周縁に向かって処理強度が漸次低下するように前記処理を施す処理を、輪郭線処理部５４ａによって行なう。 - 特許庁

The mask pattern 10 is divided into two areas: a center area extended along the center line; and a peripheral area 12 with a constant width W surrounding the center area.例文帳に追加

マスクパターン１０は、その中心線上に伸びる中央領域と、この中央領域の周囲を一定の幅Ｗで取り囲む周辺領域１２との二つの領域に分割され、中央領域は更に、中心線上に互いに隣接して並ぶ正方形の複数の単位領域１１に分割される。 - 特許庁

A masking rib 26 extended along each side is formed on both sides of back surfaces of the long side walls 13, and a support projecting part 27 which is located on the extension line of a longitudinal rib 23 and extends in the width direction of the long side walls 13 is formed on both sides of the masking rib 26.例文帳に追加

長側壁１３の裏面の両側部にはそれぞれ各側辺に沿って延びる目隠しリブ２６が形成され、その目隠しリブ２６の両側には縦リブ２３の延長線上に位置するとともに、長側壁１３の幅方向に延びる支持突部２７が形成されている。 - 特許庁

The upper rail 12 and the lower rail 11 have structures comprising the cross-sectional shape of the line symmetry that ties, in a shape inverting two pieces of one kind of rail parts RP having prescribed cross-sectional shapes that connect mutually to the rail width direction mutually respectively, and mutually comprise one common kind of part.例文帳に追加

アッパレール１２とロアレール１１とが、それぞれ、互いに掛かり合う所定の断面形状を持つ１種類のレールパーツＲＰをレール幅方向に２個ずつ互いに反転させた形で繋げた線対称の断面形状から成る構成とされており、互いに共通の１種類の部品から成る。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The second luminaire 2B arranged on the side opposite to the first luminaire 2A so as to hold the line of sight of an image input device 3 between both luminaires irradiates the whole surface in the width direction of the roll with second light so as to suppress the generation of a dummy flaw on the surface of a roll-shaped film 1.例文帳に追加

また、画像入力装置３の視線を挟んで第１照明装置２Ａに対して反対側に配設された第２照明装置２Ｂが、ロール状フィルム１の表面の疑似欠陥の発生を抑制しうるようにロール幅方向全面に第２光を照射する。 - 特許庁

When a thickness of the magnetic thin film 10 is T, a line width of the zigzagging pattern is W, and a length of the pattern is L, T is within a range of one to five μm, and L/(W×T) is within 10 to 400×106m-1 or more preferably within 28 to 100×106m-1.例文帳に追加

そして、磁性薄膜１０の厚さをＴ、つづら折り状パターンの線幅をＷ、パターンの長さをＬとして、Ｔが１〜５μｍの範囲内にあり、Ｌ／（Ｗ×Ｔ）が１０〜４００×１０^6ｍ^-1の範囲内、より好ましくは２８〜１００×１０^6ｍ^-1の範囲内とされる。 - 特許庁

The resistor substrate 1 includes an insulating surface 2 and a conductive layer 3 formed on the insulating surface 2, and a plurality of linear conductive pastes are printed in belt-like ranges 3a, 3b, ..., 3i successively formed in the conductive layer 3 while gradually changing in density (interval or line width).例文帳に追加

抵抗基板１は、絶縁面２と絶縁面２に形成された導電層３とから形成され、導電層３に並んだ帯状範囲３ａ、３ｂ・・・３ｉには、それぞれ線状の導電性ペーストがその密度（間隔または線幅）を除々に変えて複数本印刷されている。 - 特許庁

To prevent adverse effect on the product quality by preventing the line width of a conductive convex pattern layer formed by the "drawing primer system intaglio printing method" from becoming thicker when the print speed is increased in order to highly reconcile the electromagnetic wave shielding performance and the optical transparency of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太るのを防いで製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

In an NE position of a first shift block 44, the center in a width direction of a second projection 44f passes through a rotational center 43a_1 of a shifter 43 and coincides with an imaginary straight line α in a direction orthogonal or substantially orthogonal to a moving direction δ of a first shift block 44.例文帳に追加

第１シフトブロック４４のＮＥ位置では第２凸部４４ｆの幅方向の中心が、シフター４３の回転中心４３ａ_1を通りかつ第１シフトブロック４４の移動方向δと直交またはほぼ直交する方向の仮想直線α上に一致している。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The slide bearing 4 consists of two or more split bearing members, wherein the split bearing members 41 and 42 have two or more recessed parts 41c and 42c that are formed on sliding surfaces 41b and 42b near mating faces 41a and 42a and line up in a width W direction.例文帳に追加

複数の分割軸受部材からなるすべり軸受４を前提とし、分割軸受部材４１，４２には、合わせ面４１ａ，４２ａ近傍の摺動面４１ｂ，４２ｂに幅Ｗ方向に並んだ複数の凹部４１ｃ，４２ｃが形成されていることを特徴とするすべり軸受４。 - 特許庁

The packaging container can be manufactured by using a manufacturing line used for conventional circular containers having the maximum diameter the same as the maximum aspect width, a guide of the vending machine, a carton, a plastic returnable box or the like for packaged cargoes without any change, and the wall thickness of the packaging container can be reduced while its capacity is the same as that of the circular container.例文帳に追加

本願の包装容器は、その最大見付幅と同じ最大径を有する従来の円形容器で使用していた製造ライン、自動販売機のガイド、包装貨物用のカートンやＰ箱などをそのまま利用でき、しかも円形容器と容量が同じで肉厚を薄くできる。 - 特許庁

At least one attribute of the lesion is then automatically measured, such as the area of the lesion, the width and height of a cluster of lesions, the number of lesions in a cluster, or the distance from one or more lesions to an anatomical feature such as the nipple, skin line, or chest wall.例文帳に追加

次いで、病変の面積、病変クラスタの幅および高さ、クラスタ中の病変の個数、または、１つまたは複数の病変から乳頭、皮膚ライン、もしくは胸壁などの解剖学的特徴部までの距離など、病変の少なくとも１つの属性が自動的に測定される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in line width variation (LWR), focus latitude (DOF) and pattern profile to more stably form a high-precision fine pattern for producing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a resist composition and a resist film suitable for the method.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びパターン形状に優れるパターン形成方法、並びにこれに好適なレジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The center of the curve of the curved contour 22 (innermost position in the radial direction of the curved contour 22) is within a straight line area 23 formed by connecting the adjacent bolt insertion holes 17, 17 are at a diameter width W (only one portion is shown in Fig.3) of the bolt insertion hole 17.例文帳に追加

湾曲輪郭線２２は、その湾曲の中央部（湾曲輪郭線２２の径方向の最内方位置）が、隣接するボルト挿通孔１７，１７同士を当該ボルト挿通孔１７の直径幅Ｗ（図３にて１箇所のみ図示）で結んだ直線領域２３内に収まっている。 - 特許庁

Accordingly, it is good enough to form the ditch 2 of a certain width on the surface of the pavement 1 and to place the reflector 3 whose surface is irregularly formed in advance along the extending direction of the ditch 2 in the ditch 2, which makes it easy to form a pavement line.例文帳に追加

これにより、舗装道路１の表面には所定幅の溝２を形成するだけで良く、この溝２内に予め上面が溝２の延設方向に沿って凹凸状に形成された反射体３を配置するだけで良いため、舗装道路のラインを容易に形成することが可能である。 - 特許庁

The repair method for the paste pattern is implemented by the dot coating system which drips a paste droplet on the repair section, thereby obtaining the effect that the internal area of the paste pattern into which an accurate amount of liquid crystal is injected can be secured by keeping the line width of the paste pattern constant.例文帳に追加

本発明に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間にペースト液滴を滴下する点形塗布方式により行われるので、ペーストパターンの線幅を一定に維持して正確な量の液晶が注入されるペーストパターンの内部面積を確保することができるという効果がある。 - 特許庁

The solidified part 16 is cut, in a front view, along a combining line 22 connecting linearly between each of crossing points 20, 21 with an outer circumferential edge of the reflector 8 and with each of outer-side edges in a width direction of the solidified part 16, and a resin upper-stream side portion 24 of the solidified part 16 is removed.例文帳に追加

正面視で、リフレクタ８の外周端縁とゲート内固化部１６の幅方向での各外側端縁とのそれぞれの交点２０，２１を直線的に結ぶ線２２に沿うようゲート内固化部１６が切断されて、ゲート内固化部１６の樹脂上流側部２４が除去される。 - 特許庁

To avoid an adverse influence on product quality even if the line width of a conductive convex pattern layer formed by a draw-out primer intaglio printing method becomes thick when its printing speed is made extremely high in order to make the electromagnetic wave shielding performance highly compatible with light permeability of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太っても、製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁

The first PE interprets a display list, generates the edge information of objects contained in one line, sorts the edge information in units of lines, and transfers level data which has the width information between the edges of objects and the link information to the edge information and the overlapping information of objects.例文帳に追加

第１のＰＥは、ディスプレイリストを解釈し、１ラインに含まれるオブジェクトのエッジ情報を生成し、エッジ情報を１ラインの単位でソートし、オブジェクトのエッジの間の幅情報とエッジ情報及びオブジェクトの重なり情報へのリンク情報を持つレベルデータを転送する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material with a pattern line width further miniaturized to prevent moire even if a contrast improving layer is also used when the material for a front filter for display is used where electric resistance is low irrespective of the miniaturization, and the scumming of a pattern opening is prevented.例文帳に追加

ディスプレイ用前面フィルタに用いるときにコントラスト向上層を併用してもモアレが出ないよう、パターンの線幅をより一層微細化した電磁波シールド材であって、そのように細線化しても低い電気抵抗であり、かつパターン開口部の地汚れが防止された電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To achieve a device and a method for accurately measuring spectral line width of a laser beam to be measured and for obtaining a beat signal with high SN ratio by suppressing saturation of a photodetector and reducing excessive noises in spectrum measurement of a laser beam by a ring type delayed self-heterodyne method.例文帳に追加

被測定レーザ光のスペクトル線幅を精度良く測定することを目的とし、リング型の遅延自己へテロダイン法によるレーザ光のスペクトル測定において、光検出器の飽和を抑え、かつ過剰雑音を低減して、高いＳＮ比のビート信号を得る装置及び方法を実現する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

A belt conveying device includes a moving means where a width of a belt member is wider than that of a driven roller in a direction of an axis line of rotation of the driven roller and that rotates and moves a friction member in an opposite direction of a moving direction of the belt member when a load occurs to the friction member provided on both ends of the driven roller.例文帳に追加

従動ローラ部の回転軸線方向においてベルト部材の幅は従動ローラ部の幅よりも大きく、従動ローラ部の両端にある摩擦部材に負荷が生じたときには摩擦部材をベルト部材の移動方向と逆方向に回転移動させるための移動手段を有する。 - 特許庁

To provide a method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding window material having a mesh metal conductive layer, in which the mesh pattern by conductive ink can be made thinner without causing distortion of the pattern or unevenness in line width or layer thickness.例文帳に追加

メッシュ状の金属導電層を有する光透過性電磁波シールド性窓材を製造する方法であって、パターンの歪みや、線幅や層厚の不均一を生じることなく、導電性インクの印刷によるメッシュ状パターンをさらに細線化ができる製造方法を提供すること。 - 特許庁

Along the scribe line on a semiconductor wafer 360, a groove 363 is formed using a cutter blade 201 thicker than the width of a test pattern 362 on the semiconductor wafer and then the inside of the groove 363 is cut by means of a thinner cutter blade 202.例文帳に追加

半導体ウエハ３６０におけるスクライブラインに沿って、まず、半導体ウエハ上のテストパターン３６２の幅よりも厚い刃厚を有する切断刃２０１を用いて凹溝３６３を形成し、次に、この凹溝３６３内を、薄い刃厚を有する切断刃２０２によって切り込み、切断する。 - 特許庁

The above-mentioned problem is solved by configuring an alignment mark formed on a reflective mask with slit structures having a fine line width and a space less than the resolution limit for a wavelength of alignment light of a laser drawing device and reducing intensity of a reflection signal in alignment light irradiation.例文帳に追加

反射型マスクに形成するアライメントマークを、レーザ描画装置のアライメント光の波長に対し、解像限界以下の微細な線幅および間隔を有するスリット状の構造体で構成して、アライメント光照射における反射信号の強度を小さくすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The manufacturing method of a field effect transistor in which a functional film is formed over a substrate in a printing process including the following steps (1)-(3); the minimum width of a line or a space of the functional film is 1-50 μm and printing positional accuracy is 100 ppm or less.例文帳に追加

以下の工程（１）から（３）よりなる印刷工程により前記基板上へラインもしくはスペース最小幅が１から５０μｍであり、印刷位置精度が１００ｐｐｍ以下の機能性膜の形成を行うことを特徴とする電界効果トランジスタの製造方法としたもの。 - 特許庁

In addition, the wiring containing copper is wiring comprising a laminated film of the conductive film having copper as a main component and the barrier type conductive film having a barrier nature to the diffusion of copper, and is subjected to microfabrication for reducing the line width of the conductive film having copper as the main component.例文帳に追加

なお、銅を含む配線は、銅を主成分とする導電膜と、銅の拡散に対するバリア性を有するバリア性導電膜との積層膜からなる配線であり、銅を主成分とする導電膜の線幅を細くするための微細加工することを特徴とする。 - 特許庁