「linear pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A slit-shaped resist pattern group is formed by arranging a light source of linear scattered light, directly above the center of a conductor plate surface, in parallel with the direction of slits, and adjusting the distance between the light source of linear scattered light and the conductive plate surface, and exposing the scattered light on a resist layer.例文帳に追加

導体基板表面の中央直上にスリット方向と平行に線状散乱光源を設置し、線状散乱光源と導体基板表面との距離を調整し、レジスト層に散乱光を露光してスリット状レジストパターン群を形成する。 - 特許庁

Therefore, even when a linear mark is formed on the surface of the protruding member 25 due to contact of the protruding member 25 with the case body 13 during the movement of the protruding member 25, the linear mark is formed in the same direction as the striped pattern 48 along one straight line.例文帳に追加

したがって、突片部材２５の移動中に例えば突片部材２５および筐体１３の接触に基づき突片部材２５の表面に線状痕が形成されても、線状痕は１直線に沿って縞模様４８と同一の方向に形成される。 - 特許庁

A foam glaze layer 2 is provided on the surface of a building material base 1 formed of ceramics, and non-foam glaze layers 3 are partially provided to form a dotted, linear or mesh pattern or to form a pattern combining them.例文帳に追加

セラミックスよりなる建材素地１の表面に発泡釉薬層２を設けるとともに非発泡釉薬層３を点状又は線状又は網目状の模様或いはこれらを組み合わせたものによる模様を形成するように部分的に設ける。 - 特許庁

For example, about the image including the line string pattern, the projection waveform projected in the linear direction is acquired, an edge is obtained by the differential processing of the projection waveform, and the middle point of the pair of the edges of both sides in the outermost position is defined to be the position of the line string pattern.例文帳に追加

例えば、線列パターンを含む画像について、線方向に投影した投影波形を取得し、投影波形の微分処理によりエッジを求め、最外位置にある両側のエッジのペアの中点を線列パターンの位置とする。 - 特許庁

The apparatus 10 for applying paste ejected from its nozzle 26 onto a substrate 16 to draw a linear pattern 33 thereon is characterized by comprising a detection apparatus 43 for detecting the tilt of the nozzle 26.例文帳に追加

ペーストをノズル２６から吐出させて基板１６上に線状のパターン３３を塗布するペースト塗布装置１０において、ノズル２６の傾きを検出する検出装置４３を有するもの。 - 特許庁

A binary image compositing means 12 applies AND compositing to the image by each pixel to generate a binary image which does not include the background noise, while preserving the shape of the linear pattern.例文帳に追加

そして、これらの画像を二値画像合成手段１２が画素毎にＡＮＤ合成して、線状パターンの形状を保存しつつ背景ノイズを含まない二値画像を生成する。 - 特許庁

The hard and soft magnetic substances shaped like stripes are formed alternately one by one on a plane as a parallel stripe pattern so as to constitute a linear scale in the direction intersecting the stripes perpendicularly.例文帳に追加

ストライプ形状の硬磁性体と軟磁性体を平面上に交互に１個ずつ平行なストライプパターンとして形成し、ストライプと直交する方向のリニアスケールを構成する。 - 特許庁

Next, it transfers and develops an exposure pattern 15 of linear shape in a photo resist 14 using a second reticle, then measures the amount of protrusion L of the photo resist 14 end from the SiO_2 layer 12.例文帳に追加

次に、第２のレチクルを用いて、フォトレジスト１４に直線状の露光パターン１５を転写、現像した後、ＳｉＯ_2層１２からのフォトレジスト１４端部のはみ出し量Ｌを測定する。 - 特許庁

Plural linear antenna line patterns 32 are formed on a sheet 31 for a card substrate, and conductive adhesive layers 341aa or the like are formed on both the end parts of each pattern 32.例文帳に追加

カード基板用シート３１の上に、複数の直線状のアンテナ線用パターン３２を形成し、前記各アンテナ線用パターンの両端部に、導電性接着層３４１ａａ等を形成する。 - 特許庁

In the high-speed operation circuit region portions 100 kH, 100nH, the power supply and the ground supply pattern have a linear wiring structure.例文帳に追加

高速動作回路領域部分１００ｋＨ，１００ｎＨには面状電源供給パターン配線層および面状グランド供給パターン配線層は広げずに、線状配線構造となす。 - 特許庁

The substrate is moved in the adjusted speed conditions and the paste is linearly discharged from the nozzle to perform application and formation of the linear finger wiring pattern on the substrate (Step S30).例文帳に追加

調整された速度条件で基板を移動させるとともにノズルからペーストを線状に吐出して基板上に線状のフィンガー配線パターンを塗布形成する（ステップＳ３０）。 - 特許庁

A linear encoder mechanism, in which a member 6 having a code pattern 8 is reciprocatively moved on a cartridge side surface, is constituted without causing interferences to a developer filling port provided on the same surface.例文帳に追加

カートリッジ側面上に、コードパターン８を有する部材６が往復運動する、リニアエンコーダ機構を、同一面上に設けられている、現像剤充填口に干渉することなく構成する。 - 特許庁

Further, a rubber yarn is used as the yarn constituting the linear part or the yarn arranged along the yarn so that the two pattern parts may be overlapped in a frill shape by being shrunk by the action of the rubber yarn.例文帳に追加

また、前記直線部を構成する糸又はこれに沿わせる糸にゴム糸を使用し、ゴム糸の作用により縮んで２つの模様部がフリル状に重なるようにした。 - 特許庁

The lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate and includes an electromagnetic actuator to actuate a part of the lithographic apparatus in a linear direction or in a rotational direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するように配置構成され、リソグラフィ装置の一部を直線方向または回転方向に起動する電磁アクチュエータを含む。 - 特許庁

When the stain of the linear scale 31 is detected by the stain detection pattern 31c, the printer allows the cleaning member 83 to clean the light emitting surface 41a or the light receiving surface 42a.例文帳に追加

このプリンタでは、汚れ検出パターン３１ｃでリニアスケール３１の汚れが検出されたとき、清掃部材８３によって発光面４１ａや受光面４２ａの清掃を行う。 - 特許庁

The optical axis correcting element 601 has a grating groove pattern formed in linear shapes at regular intervals and is provided with wavelength selectivity, giving a desired diffraction angle and diffraction efficiency to the three wavelengths.例文帳に追加

光軸補正素子６０１は、等間隔直線状の格子溝パターンを有し、３波長に対して所望の回折角度と回折効率を与える波長選択性を備える。 - 特許庁

A motion conversion part 76 converts the plurality robot motion dynamics models stored in the robot motion pattern dynamics model storage part 75 to predictive motion orbits by linear translation.例文帳に追加

運動変換部７６は、ロボット運動パターン力学系モデル記憶部７５に記憶されている複数のロボット運動力学系モデルを線形変換して予測運動軌道に変換する。 - 特許庁

The pattern is the aggregate of a plurality of a linear groove structure addressing the same direction but with the uneven irregularities per every domain where the longitudinal direction of those lines differs per each domain.例文帳に追加

模様は、領域ごとに凹凸を有し方向が揃った複数のライン状の溝構造の集合となっており、領域によってラインの長手方向の向きが異なっている。 - 特許庁

To discriminate the proprietary of the route of a linear pattern with a simple method and allow one to detect, when there is a defect such as discontinuity and adhesion, the defect surely.例文帳に追加

線状パターンの経路の適否判別を簡易な方法で精度良く行うとともに、途切れや接着などの不良がある場合には、確実にその不良を検出できるようにする。 - 特許庁

The linear stitch pattern is preferably arranged in the border between the seat portion 2 and the side portion 3 of the seat skin material or in the ridge portion of a seat shape of the seat.例文帳に追加

また、上記の線状の縫目模様を、座席用表皮材の座面部２と側面部３との境目部分、或は座席面の座席形状の稜線部分に配置するのが好ましい。 - 特許庁

Input image data and test pattern data are corrected by a correcting section 3 based on linear component data and nonlinear component data of an amount of color mis-registration separately held by a holding section 4.例文帳に追加

保持部４に別々に保持されている色ずれ量の線形成分データと非線形成分データとに基づいて、入力画像データ及びテストパターンデータを補正部３で補正する。 - 特許庁

The MPU 10 allows the linear motor 2 to generate a driving force to reciprocate the print head unit and determines at that time an optimum speed pattern in the prepared speed patterns based on a returning time period of the print head unit which is measured through a linear encoder 6.例文帳に追加

そして、ＭＰＵ１０は、リニアモータ２に駆動力を発生させて印字ヘッドユニットを往復移動させ、その際にリニアエンコーダ６を介して計測された印字ヘッドユニットの反転時間に基づいて、複数用意された速度パターンの中から最適な速度パターンを決定する。 - 特許庁

Then, the linear velocity of photoreceptor drums 1a to 1d are decreased, and while a linear velocity difference between each of the photoreceptor drums 1a to 1d and the intermediate transfer belt 8 is maintained, toner images are formed on the photoreceptor drums 1a and 1d and an image pattern is output to the surface of the intermediate transfer belt 8.例文帳に追加

次に、感光体ドラム１ａ〜１ｄの線速を減速し、感光体ドラム１ａ〜１ｄと中間転写ベルト８との間に線速差をもたせた状態で、感光体ドラム１ａ〜１ｄ上にトナー像を形成し、中間転写ベルト８表面に画像パターンを出力する。 - 特許庁

The absorption plate body 2 is constituted using a porous material, and the served surface 3 of the absorption plate body 2 is formed of a pattern formed by alternately adjoining linear water-absorbing surfaces 31 having the porous material exposed in narrow lines and linear water-repellent surfaces 32 having water repellent property.例文帳に追加

多孔質素材を使って吸水皿本体２が構成され、この吸水皿本体２の盛り付け面３は、多孔質素材が細線状に露出した線状吸水面３１と、撥水性を有する細線状の線状撥水面３２とを交互に隣接させた模様で形成されている。 - 特許庁

A coil region 23d consists of an arc region 26 formed so that the conductor pattern 25 becomes an arc centered at a position G_1 separated by a winding pitch P from the position G_0, and a linear region 27 formed so that the conductor pattern 25 becomes a straight line.例文帳に追加

コイル領域２３ｄは、導体パターン２５が位置Ｇ_０から巻きピッチＰ分だけ離れた位置Ｇ_１を中心とした円弧となるように形成された円弧領域２６と、導体パターン２５が直線となるように形成された直線領域２７とからなっている。 - 特許庁

One end of the L-shaped conductor pattern 111 is connected to the scoop-shaped conductor pattern, and the other end is connected to the end part 114 and the end part 115 of the linear conductors 107 in the J-shaped conductor patterns 106 in the first layer 102 and the third layer 104.例文帳に追加

Ｌ字状導体パターン１１１の一端は前記柄杓型導体パターンに繋がり、その他端１１６は第１層１０２及び第３層１０４のＪ字導体パターン１０６の直線状導体１０７の端部１１４及び１１５に接続されている。 - 特許庁

On the optical information recording medium, the parameter information of two kinds of pulse patterns, i.e., a 1T cycle pattern and a 2T cycle pattern, and information regarding linear velocity utilizable for recording on the medium by the above pulse patterns are preformatted as recording condition information.例文帳に追加

光情報記録媒体には、１Ｔ周期型パターンと２Ｔ周期型パターンとの２種類のパルスパターンのパラメータ情報及び各々のパルスパターンで当該媒体に記録可能な線速度に関する情報を記録条件情報として予めプリフォーマットさせておく。 - 特許庁

In the alignment processing method for radiating optical energy to an alignment film formed on a substrate through a photomask to provide alignment characteristics on a surface of the alignment film, the photomask is relatively moved along a linear pattern formed on the substrate, and a deviation is detected by a positional relation between the linear pattern and a reference pattern formed on the photomask, and the photomask is moved in a direction orthogonal to a movement direction of the substrate to correct the deviation.例文帳に追加

基板上に形成した配向膜に、フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法であって、前記フォトマスクを、前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させると共に、前記線状パターンと、前記フォトマスクに形成された基準パターンとの位置関係からズレ量を検出し、前記フォトマスクを、前記基板の移動方向と直交する方向に移動させてズレ量を補正させる。 - 特許庁

After a linear or columnar protection wall pattern 5 is formed by using a material of color layers etc., of a photospacer and a color filter and a seal pattern 3 is formed by applying a sealing material along the protection wall pattern 5, a couple of substrates are stuck together and an etchant sealing material 6 is made to penetrate from a substrate end 1 to prevent an etchant from entering.例文帳に追加

フォトスペーサやカラーフィルタの色層などの材料を用いて線状または柱状の保護壁パターン５を形成し、その保護壁パターン５に沿ってシール材を塗布してシールパターン３を形成した後、これらの一対の基板を貼り合わせ、エッチング液の侵入を防ぐためにエッチング液封止材６を基板端１から浸透させる。 - 特許庁

The method comprises steps of setting a mask given in response to each predetermined pattern for detecting the pattern information of the input image, measuring similarity between the input image and a filter kernel mask, determining the filter kernel mask most suited for the pattern of the input image in reference to similarity, and adding the non-linear filtering through the determined mask.例文帳に追加

その方法として、入力映像のパターン情報を検出するためにあらかじめ定義しておいたそれぞれのパターンに応じて与えられたマスクを設定し入力映像とフィルターカーネルマスクの類似性を測定し、その類似性より最も入力映像のパターンに適合したフィルターカーネルマスクを決め、決定されたマスクを通じて非線形フィルターリングを加える。 - 特許庁

A linear pattern layer 3 formed of a water-soluble ink is provided on the insulating board 1, a molybdenum-containing metal thin film 4 is formed on the whole surface of the board 1, the metal thin film 4 located on the pattern layer 3 is removed together with the pattern layer 3 by rinsing, and the metal thin film 4 is partially, linearly removed.例文帳に追加

絶縁性を有する基板１上に水溶性インキからなる線状のパターン層３を形成した後、少なくともモリブデンを含む金属薄膜４を全面的に形成し、次いで水洗を行ってパターン層３とともにパターン層３の上に位置する金属薄膜４を除去し、金属薄膜４の一部を線状に除去する。 - 特許庁

This apparatus for forming the pattern is provided with: a stage moving mechanism for moving the substrate 9 in an X direction on which a plurality of first linear pattern elements 91 are formed beforehand in a Y direction; a discharge part for discharging a pattern forming material from a discharge port 541 toward the substrate 9; and a light emitting part 53 for emitting ultraviolet rays toward the substrate 9.例文帳に追加

パターン形成装置は、Ｙ方向を向く直線状の複数の第１パターン要素９１が予め形成されている基板９をＸ方向に移動するステージ移動機構、吐出口５４１からパターン形成材料を基板９に向けて吐出する吐出部、および、基板９に向けて紫外線を出射する光出射部５３を備える。 - 特許庁

The original plate for transfer is provided with a projecting section having one or more projections which is formed by supplying a plate forming ink over a linear pattern provided on the substrate surface to be solidified thereon.例文帳に追加

基材表面に設けられている線状パターン上に版形成インクを供給し、固化して形成した１つ以上の突起を有する突起部を備えた転写用原版などにより課題を解決した。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, can form a coating film having excellent heat resistance and a linear expansion coefficient proximal to that of a substrate, and does not need imidization at a high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation image processing unit that applies pixel defect correction of a linear prediction type to a radiation image including grid pattern information so as to suppress artifacts due to a defective pixel when an image pickup element includes the defective pixel.例文帳に追加

撮像素子に欠陥画素が含まれるとき、グリッド縞情報を含む放射線画像に対して線形予測型の画素欠陥補正を施し、上記欠陥画素によるアーチファクトを抑える。 - 特許庁

A sensitivity matrix linearizing the relation between fuel assembly position and depletion model is processed by using a mixed integer linear programming accompanying a branch limitation, an optimum daughter loading pattern is discriminated.例文帳に追加

燃料集合体位置と減損モデルとの関係を線形化する感度行列を、分岐限定を伴う混合整数線形計画法を用いて処理することにより、最適娘装荷パターンを識別する。 - 特許庁

Here, Fig.3 shows typical drawing results when the linear portions of the desired circuit pattern are tilted by a rational number angle from the drawing coordinate axis (Fig.3(a)) and by the irrational number angle (Fig.3(b)).例文帳に追加

図３は、所望の回路パターンの直線部分を描画座標軸から有理数角傾けた場合（図３（ａ））と、無理数角傾けた場合（図３（ｂ））の描画結果を模式的に示している。 - 特許庁

This seat cover material 1 comprises a fiber base layer and a synthetic resin layer, and a linear seam pattern 4 consisting of projecting and recessed parts is provided on the surface of the synthetic resin layer.例文帳に追加

繊維基材層及び合成樹脂層からなる座席用表皮材１であって、該合成樹脂層面に凹凸で構成された線状の縫目模様４を設けた座席用表皮材である。 - 特許庁

In the process for generating the control pulse, when the environmental temperature of a pattern formation device changes, a prescribed length of the signal outputted from the linear scale means is changed, corresponding to the temperature change.例文帳に追加

この制御用パルスを生成する過程で、パターン形成装置の環境温度が変化した場合、その温度変化に応じてリニアスケール手段から出力される信号の所定長が変化する。 - 特許庁

The erasing head 5 repeatedly erases the recording servo signals An to An+3 or the like on the tape recording medium 1 for predetermined un-erased timing period to form a linear servo pattern 9.例文帳に追加

消去ヘッド５は、テープ状記録媒体１上の記録サーボ信号Ａｎ〜Ａｎ＋３などを所定の消残しタイミング期間で消去を繰り返して直線状のサーボパターン９を形成する。 - 特許庁

To provide a guide rail having a sufficiently surface hardened layer which receives a shearing force which is applied on the guide rail in using a linear guide device by making an induction hardening pattern different from the previous.例文帳に追加

高周波焼入れパターンを従来と異ならしめて、リニアガイド装置の使用時に案内レールに作用するせん断力を受け止めるに十分な表面硬化層を有する案内レールを提供する。 - 特許庁

The skin material 1 for a seat is made up of a textile base material layer and a synthetic resin layer and is provided with a linear stitch pattern 4 formed of irregularities on the synthetic resin layer.例文帳に追加

繊維基材層及び合成樹脂層からなる座席用表皮材１であって、該合成樹脂層面に凹凸で構成された線状の縫目模様４を設けた座席用表皮材である。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

The UV-curing resin 12 is hardened by irradiation with UV rays through the back face of a die which has linear projections of the core pattern and transmits UV rays so as to form an intermediate clad layer 13 having grooves 14.例文帳に追加

コア形状の線状凸部を有する紫外線を透過する型の裏面より紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂１２を硬化させ、溝部１４を有する中間クラッド層１３を形成する。 - 特許庁

A large number of linear projecting parts 3b are mutually arranged in parallel (in a striped pattern shape) in the lengthwise direction of the horizontal beams 3 over the whole surface of an upper surface 3a of these horizontal beams 3 to form a recess-projection part 4.例文帳に追加

そして、この横梁３の上面３ａの全面に、多数の線状の凸部３ｂを横梁３の長手方向に沿って相互に平行に（縞模様状に）設けて凹凸部４とした。 - 特許庁