「mask making」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a device for efficiently making only the light required for projection incident on a projection lens without making the hole of a mask large in a video device using a reflection micro device.例文帳に追加

反射マイクロデバイスを使った映像装置において、マスクの穴を大きくさせることなく、投影に必要な光だけを効率よく投影レンズに入射する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electronic component by which the connection reliability of columnar conductors making interlayer connections can be improved without making the accuracy of the conventional mask strict, and to provide an electronic component.例文帳に追加

従来のマスクの精度を厳格にすることなく、層間接続をなす柱状導体の接続信頼性を向上させる電子部品の製造方法および、電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making a rib of a desired form when making the rib for a plasma display panel in a sand blast method using a permeation type blast mask.例文帳に追加

浸透型ブラストマスクを利用したサンドブラスト法でプラズマディスプレイパネルのリブを形成するに際し、所望形状のリブを形成すること。 - 特許庁

To provide a light shielding device for efficiently making only the light required for projection pass without making the hole of a mask large in a video device using a reflection micro device.例文帳に追加

反射マイクロデバイスを使った映像装置において、マスクの穴を大きくすることなく、投影に必要な光だけを効率よく通す遮光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of readily making a printed substrate and a recorder having the same at low cost by lowering the number of times of setting a highly accurate mask when making the printed substrate.例文帳に追加

プリント基板の製造に際して、高精度のマスク設定の回数を低減することにより、プリント基板及びそれを備えた記録装置を安価かつ簡易に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a program for dividing a shield pattern having an island pattern into at most two mask blocks without making an imbalance or the like in a small figure or area, and a mask block having figures divided by the method.例文帳に追加

島状パターンを持つ遮蔽パターンを、微小図形や面積のアンバランス等を発生させることなく高々２つのマスクブロックに分割する方法、そのプログラム、そしてその方法により分割された図形を有するマスクブロックを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter with excellent productivity through 405 nm-wavelength laser exposure capable of reducing the size of a mask or making a mask unnecessary, and to provide a high-sensitivity colored composition suitable for the manufacturing of the color filter by 405 nm-wavelength laser exposure.例文帳に追加

本発明は、マスクの小型化もしくはマスクレスが可能な波長４０５ｎｍレーザー露光による生産性に優れたカラーフィルタの製造方法の提供を目的とし、さらに、波長４０５ｎｍレーザー露光によるカラーフィルタ製造に適した高感度な着色組成物の提供を目的とする。 - 特許庁

To increase etching seeds contributing etching, in a method for making, on a semiconductor surface, a desired pattern having varying depth by using a first mask having a desired pattern and a second mask for controlling the amount of etching seeds diffused in an opening of the desired pattern.例文帳に追加

所望のパターンを有する第１のマスクと所望のパターンの開口部に拡散されるエッチング種の量を制御するための第２のマスクとを用いて、深さが変化する所望のパターンを半導体表面に作製するための方法において、エッチングに寄与するエッチング種を増大させること。 - 特許庁

To provide a technique for manufacturing a magnetic recording head having a reverse tapered shape, with which the retreat of a mask layer scarcely occurs in processing, and little engraving of an insulating underlayer occurs, by making a selection ratio of a wider range with respect to the mask layer and the insulating underlayer than that in the conventional technique available.例文帳に追加

従来技術に比べてマスク層及び下地絶縁層に対し広範囲の選択比をとることができ、これにより、加工時のマスク層の後退が殆どなく、下地絶縁層の堀り込みも小さい逆テーパ形状の磁気記録ヘッドの製造技術を提供する。 - 特許庁

To provide a screen printing machine making the pitch of printing patterns intermittently printed on a strip-like work as narrow as possible, and avoiding such a problem that the undersurface of a printing mask is stained by previously applied ink (resin) and the stain on the undersurface of the mask is also transferred to the strip-like work.例文帳に追加

本発明は帯状ワークに間欠的に印刷する印刷パターンのピッチを出来るだけ狭くし、先に印刷したインク（樹脂）で印刷マスクの下面が汚れ、その汚れが帯状ワークにも転写するという問題を回避するスクリーン印刷装置を提供する。 - 特許庁

A light emission film pattern 20 having a forming width Wp1 larger than the aperture width Wm1 of an aperture 7U made in the mask 7 by making use of the phenomenon that a film deposition substance emitted from the film deposition source 2 passes through the aperture 7U in the mask 7, and then, diffuses.例文帳に追加

成膜源２から放出された成膜物質がマスク７の開口７Ｕを通過したのち拡散する現象を利用して、マスク７に設けられた開口７Ｕの開口幅Ｗｍ１よりも大きな形成幅Ｗｐ１を有する発光膜パターン２０を形成することが可能になる。 - 特許庁

RESIDUE-FILM THICKNESS ASSUMING METHOD, PATTERN-MASK AND ISOLATION-FILM-REMOVING-MASK MODIFYING WAYS BY THE WAY, AND SEMICONDUCTOR-ELEMENT MAKING WAY BY THE MASKS例文帳に追加

残膜厚分布の推定方法、残膜厚分布の推定方法を用いたパターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクの修正方法、及び、修正されたパターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide an aperture rate mask making it possible to form a three-dimensional shape on a photosensitive material by generating an exposure quantity distribution by adjusting the quantity of exposure light transmitted through a mask without resolving an aperture part and a shielding part adjusting an aperture rate by a projection exposure method.例文帳に追加

投影露光法において開口率を調整している開口部・遮光部を解像することなくマスクを透過する露光光の光量を調整することで露光量分布を発生させ、感光性材料に三次元形状を作製することを可能とする開口率分布マスクを提供する。 - 特許庁

A setting device RB for setting rectangular irradiation regions SY and SX for the mask and a control device for making the directions of the rectangular irradiation regions SY and SX set for the mask in an exposure time differ from those of the rectangular irradiation regions SY and SX in a non-exposure time are provided.例文帳に追加

マスクに対して、矩形状の照明領域ＳＹ、ＳＸを設定する設定装置ＲＢと、マスクに対する矩形状の照射領域ＳＹ、ＳＸの方向を、露光時と非露光時とで異ならせる制御装置とを備えた。 - 特許庁

Next, while the pattern of the photo resist 14 is trimmed so as to be a predetermined thickness, length, the amount of protrusion L is made to be a predetermined amount or less, an etching mask of substantially L character shape is formed by etching an Si_3N_4 layer 13 making this as a mask.例文帳に追加

次に、フォトレジスト１４のパターンを所定の太さ、長さにトリミングするとともに、はみ出し量Ｌを所定量以下とし、これをマスクとしてＳｉ_3Ｎ_4層１３をエッチングして略Ｌ字状のエッチングマスクを形成する。 - 特許庁

A ink jet printer head 5 is scanned with rotating a roll 1 to be subjected to plate making which is covered with a photosensitive flexographic material and the negative mask image is formed, after full-surface exposure is carried out, the removing and developing of the mask image is performed to dissolve an unexposed part of the photosensitive flexographic material.例文帳に追加

感光性フレキソ材料で覆われている被製版ロール１を回転駆動し、インクジェット型プリンタヘッド５を走査し、ネガチブなマスク画像を形成し、全面露光を行ってからマスク画像の除去・現像を行って感光性フレキソ材料の未露光部分を溶解する。 - 特許庁

To provide a metal mask and a metal mask printing plate, which can prevent the occurrence of defects such as bleeding, missing, omission and crack in an printed image, and a malfunction such as a deterioration in the precision of an image transfer position, while making a cost low and having high durability, when a high-resolution image is to be obtained.例文帳に追加

高精細な画像を得ようとする場合に、低コストでかつ高い耐久性でありながら、印刷画像の滲み、欠け、抜け、割れ等の欠陥の発生や、画像の転写位置の精度低下といった不具合を防止し得るメタルマスクおよびメタルマスク印刷版を提供すること。 - 特許庁

To achieve the improvement in the throughput of a manufacturing process step and inspecting process step for a phase shift mask and the lower cost thereof by making inspection and quality control of high accuracy possible while simplifying the inspecting process step and manufacturing process step for performance to give rise to a phase difference in the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクにおける位相差を生じさせる性能の検査工程や製造工程を簡易なものとしながらも高精度な検査や品質管理を可能とすることで、位相シフトマスクの製造工程や検査工程のスループットの向上および低コスト化を達成する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method and a semiconductor device manufacturing method, which are capable of making a semiconductor device undergo the desired processing by thickening the thin part of a mask film that is used for processing such as etching of the semiconductor device.例文帳に追加

エッチング等の半導体装置に対する処理時に使用するマスク膜における薄膜部の厚みを増大することにより、半導体装置に所望の処理を施すことが可能なマスクパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress formation of "wrinkles" of a shadow mask to be bridged and retained by making small the gap per unit length of stress distribution in longitudinal direction inherent in a first frame constituting member constituting the long side, in a state the shadow mask is bridged and retained.例文帳に追加

シャドウマスクが架張保持された状態における、長辺を構成する第１フレーム構成部材に内在するその長手方向の応力分布の、単位長さ当たりの落差を小さくして、架張保持されるシャドウマスクの『しわ』の発生を抑える。 - 特許庁

To provide an exposure mask and a method for making a mask pattern by which not only the focus margin is improved in a photolithographic process but shrinkage in a line end is suppressed, and difference in the finish dimension in an etching process is suppressed.例文帳に追加

フォトリソグラフィー工程において、フォーカスマージンを向上させるだけでなく、ライン末端部の縮みを抑制し、かつエッチング工程において仕上がり寸法差を抑制する、露光用マスクとマスクパターンの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a vapor-deposited film and a deposition apparatus for preventing deflection when aligning a large, extremely thin deposition mask, and performing deposition while making the subpixel of a substrate and the opening of the deposition mask hold a precise aligned state in alignment.例文帳に追加

本発明は、大型で極薄の蒸着マスクのアラインメント時における撓みを防ぎ、基体のサブピクセルと蒸着マスクの開口が、アラインメント時における精密な位置合わせ状態を保持して蒸着を行なう蒸着膜の形成方法及び蒸着装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The exposure of the glass substrate W is conducted by continuously conveying the glass substrate W with a substrate conveying mechanism 10 and making irradiation portions 13 emit pulsed light in synchronization with coincidence of the black matrix layers BM of the glass substrate W and the mask patterns 51 of a mask M.例文帳に追加

このガラス基板Ｗの露光は、基板搬送機構１０によってガラス基板Ｗを連続搬送しながら、ガラス基板Ｗのブラックマトリクス層ＢＭと、マスクＭのマスクパターン５１との一致に同期させて、照射部１３をパルス発光させて行う。 - 特許庁

A particle portion is discriminated from a background portion in each of the masks, the mask is scanned on the each still picture image to specify the particle portion on the still picture image while making it correspond to the particle portion of the mask in a position where a correlation coefficient gets large, and the image is binalized thereby.例文帳に追加

このマスクは粒子部分と背景部分とが区別されたものであり、静止画像上にこのマスクを走査し、相関係数が大きくなる位置で、マスクの粒子部分と対応させて静止画像上の粒子部分を特定し、画像を２値化する。 - 特許庁

To provide an exposure device for measuring the positions of a mask stage and a substrate stage and their attitudes, with accuracy, in a horizontal plane without being influenced on cut-off of measuring laser light, being arranged near the mask stage and the substrate stage, suppressing the difference in the thermal expansions between a mask and a substrate, by making environment temperatures substantially similar and attaining high-accuracy exposure.例文帳に追加

測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask.例文帳に追加

掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The single crystal thin film 3 is formed by a process wherein the mask 2 having the opening space 2a is adhered to the substrate 1 of single crystal silicon, and a process wherein the single crystal thin film 3 is formed by making a compound semiconductor epitaxial grow on the surface of the substrate exposed in the opening space 2a of the mask 2, while heating the mask 2 at a temperature of softening point or higher.例文帳に追加

単結晶シリコンから成る基板１の上面に、開口部２ａを有したマスク２を被着させる工程と、該マスク２をその軟化点以上の温度で加熱しつつ、前記マスク２の開口部２ａ内に露出する基板表面に化合物半導体をエピタキシャル成長させて単結晶薄膜３を形成する工程と、によって単結晶薄膜３を形成する。 - 特許庁

To provide a magneto-optical recording medium in which a low temperature mask is formed without applying a reproducing magnetic field Hr, the mask is stabilized, reproducing noise is reduced by making clear the boundary between the mask and an aperture region and a magnetic ultra high resolution reproducing is conducted with a good CN ratio.例文帳に追加

再生磁界Ｈｒを印加することなく低温マスクを形成できる光磁気記録媒体において、低温マスクを安定化させると共に、低温マスクとアパーチャ領域との境界を明確化することで再生ノイズを低減させ、もってＣＮ比の良い磁気超解像再生が行える光磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

An underlay sheet 150 is disposed between a die 2 of a punch press equipped with a punch 1 and the die 2 and a printing mask material 140 of a plastic sheet such as PPS, and an opening of a printing mask is formed by making the opening in a prescribed pattern in the printing mask material 140 and the underlay sheet 150 by the punch press.例文帳に追加

ポンチ1とダイス2とを備えたパンチプレスのダイス２と、ＰＰＳなどのプラスチック板からなる印刷用マスク材１４０との間に、下敷板１５０を配置し、該印刷用マスク材１４０及び該下敷板１５０に、上記パンチプレスにより所定パターンからなる開口を穿孔することによって、該印刷用マスク１４の開口１４ａを形成する。 - 特許庁

In a method for inspecting presence/absence of a defect in a mask for semiconductor exposure, an optical system is used for making light of an arbitrary wavelength incident on the mask to acquire the dark field image, and an arbitrary partial area where an even dark field image is obtained on the mask is arranged at a defocus position separated from a just-focus position to acquire an image.例文帳に追加

半導体露光用マスクの欠陥の有無を検査する方法であって、マスクに任意波長の光を入射させ暗視野像を取得する光学系を用い、マスク上にて均一な暗視野像が得られる任意の一部領域をジャストフォーカス位置から離れたデフォーカス位置に配置して像を取得する。 - 特許庁

In a method for making a photomask, a mask pattern 5 is divided into two in the scanning direction of a scanner, and a first division pattern portion 10, consisting of a Levenson type phase shift mask pattern, is formed in one divided region whereas a second division pattern portion 20 consisting of an auxiliary pattern type phase shift mask pattern is formed in the other divided region, thus forming a photomask 1.例文帳に追加

フォトマスク製作工程において、マスクパターン５がスキャナの走査方向で二分割され一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる第一分割パターン部１０が、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる第二分割パターン部２０が形成されたフォトマスク１が製作される。 - 特許庁

The depression type transistor, the transistor constituting the mask ROM and the submicron CMOS are integrated on a same semiconductor substrate 1 by implanting impurity ions for making a transistor 102 constituting the mask ROM into a resistor when an ion implantation is carried out for making an enhancement type transistor into the depression type transistor 101.例文帳に追加

エンハンスメント形のトランジスタをデプレッション形のトランジスタ１０１にするためにおこなうイオン注入の際に、マスクＲＯＭを構成するトランジスタ１０２を抵抗化するために不純物イオンを注入することによって、デプレッション形のトランジスタ１０１とともに、マスクＲＯＭを構成するトランジスタ１０２、さらにはサブミクロンＣＭＯＳを同一半導体基板１上に集積する。 - 特許庁

The method for making a phase modulation type hologram not substantially accompanied by a surface relief image due to irregularity includes (1) a step of computing a variation pattern of light transmittance as a mask pattern through a computer generated hologram, (2) a step of making a photomask from the computed mask pattern, and (3) a step of exposing an index modulation type photopolymer with light passed through the photomask.例文帳に追加

（１）マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、（２）計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および（３）当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程とを含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。 - 特許庁

Measuring of the thickness of the surface deterioration layer is performed, by etching the torn surface of the resist mask by an isoamyl acetate, after making a non-exposed resist with a surface deterioration layer as a convex part, and making a derotate section conspicuous as a recess, the thickness of the convex part of the section is measured by SEM.例文帳に追加

表面変質層の膜厚の測定は、レジストマスクの破断面を酢酸イソアミルでエッチングし、表面変質層を凸部、未露光レジストを凹部として断面に顕彰化させた後、ＳＥＭで断面の凸部の厚さを測定する。 - 特許庁

To provide a printing apparatus and an image processing apparatus capable of solving banding or making the banding hardly noticeable generated on a printed image caused by flying bending and density unevenness by appropriately correcting a dither mask used for making image data for a printing object to the N-th order digitization.例文帳に追加

印刷対象の画像データのＮ値化に用いるディザマスクを適切に修正して、飛行曲がりや濃度むらによって印刷画像に発生するバンディングを解消または殆ど目立たなくすることができる印刷装置及び画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording paper capable of being formed and printing beautifully by an inkjet recording system and made by using paper as a substrate, a formed piece made by using the paper, a set for making the formed piece and a mask making/selling system using the paper.例文帳に追加

成形加工が可能で、かつインクジェット記録方式によって美麗な印画をすることができ、しかも基材が紙であるインクジェット記録用紙を提供すること、さらにはそれを用いた成形加工品や成形加工品作成用セット、及び当該用紙を用いたお面の作成販売システムを提供すること。 - 特許庁

To provide an ion implantation device improved in positional accuracy of ion implantation by making an error of positional accuracy of ion implantation caused by thermal expansion of a mask and a wafer fit into a prescribed range.例文帳に追加

マスクとウェハの熱膨張によるイオン注入位置精度誤差が所定の範囲内となるようにすることで、イオン注入の位置精度を向上したイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

To provide an intercom system capable of surely making a resident wear a mask, when the resident goes out, if there is a large amount of pollen by detecting the amount of pollen flying around a residence.例文帳に追加

住戸外に飛散する花粉量を検知して、花粉量が多い場合は、住居人が外出する際に確実にマスクを携帯させることができるインターホンシステムを提供すること。 - 特許庁

The mask 23 securely cuts off the unnecessary light reflected on the internal surface in the lens holding frame 11 to securely prevent the unnecessary from being projected without making the constitution complicated.例文帳に追加

レンズ保持枠11内にて内面反射した不要光をマスク23にて確実に遮光し、構成を複雑化させることなく不要光の投射を確実に防止できる。 - 特許庁

Third and fourth transfer images of the first and second evaluation patterns are then formed by making a laser beam impinge on the evaluation substrate through the evaluation mask.例文帳に追加

評価用マスクを通して評価用基板にレーザビームを入射させて、第１及び第２の評価用パターンがそれぞれ転写された第３及び第４の転写イメージを形成する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM MAKING COMPUTER TO IMPLEMENT THE SAME METHOD RECORDED THEREON, AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターン生成装置、マスクパターン生成方法、その方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体およびフォトマスク - 特許庁

Uniform laser illumination is realized by making a uniform laser emission line, and the uniform laser emission line is made by a method of causing a heteromorphic beam after laser beam diffusion to pass a rectangular mask and directly converting it into an emission line by an optical lens.例文帳に追加

均一なレーザー照明は、均一なレーザー輝線を作ることであり、本実施例では、レーザービーム拡散後の異形状ビームを四角形のマスクを通過させ直接光学レンズにて輝線に変換する方法で解決した。 - 特許庁

To enable defect repair of a mask with high accuracy and at a high grade by making it possible to perform processing meeting the three-dimensional shapes of defects with an ion beam defect repair system.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置で欠陥の3次元的形状に応じた加工が行えるようにし、高精度かつ高品位なマスクの欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which is lessened in phase collision for improving productivity and reliability, thereby, substantially undesirable lines are removed and making the sizes of shapes fine is made easier.例文帳に追加

生産性および信頼性を改善するための、位相衝突が減少され、それによって実質的に望ましくない線が除去される、かつ形状のサイズの微細化を容易にする位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process by eliminating the need for a catalysis treatment, making clear contour around a conductive layer, and easily and rapidly eliminate a resin mask from a dielectric substrate.例文帳に追加

触媒処理を不要にして製造工程を簡略化し、導体層の周辺の輪郭が明確であり、誘電体基体から樹脂マスクを容易かつ敏速に除去することにある。 - 特許庁