「method process」に関連した英語例文の一覧と使い方(134ページ目) - Weblio英語例文検索

When the communication method change signal is received from the control part 214, the digital signal processing part 208 changes a communication method applied to modulation/demodulation in response to the communication method change signal, and executes a modulation process or demodulation process in accordance with the changed communication method.例文帳に追加

ディジタル信号処理部２０８は、制御部２１４から通信方式変更信号を受け入れた場合に、変復調に適用される通信方式を、その通信方式変更信号に応じて変更し、その変更した通信方式に応じた変調処理または復調処理を行う。 - 特許庁

To provide a method of synthesizing a PGO ferroelectric spin coating process solution, and of determining an adequate PGO solution heat treatment method, a method of monitoring a PGO ferroelectric precursor spin coating process solution and a method of controlling the characteristics of the PGO spin coating solution.例文帳に追加

ＰＧＯ強誘電体スピンコーティング法溶液を合成する方法、適切なＰＧＯ溶液熱処理法を決定する方法、ＰＧＯ強誘電体前駆体スピンコーティング法溶液を監視する方法、ＰＧＯスピンコーティング溶液の特性を制御する方法を提供する。 - 特許庁

In the electroless plating method, the metal powder having the average particle size of ≥1 nm and ≤100 μm can be used, and this electroless plating method is applicable to a damascene process or a dual damascene process which is a method for forming a fine metal wiring within a semiconductor element.例文帳に追加

本発明の無電解めっき方法では、金属粉末として平均粒径は１ｎｍ以上１００μｍ以下のものを使用でき、半導体素子内の微細金属配線形成方法であるダマシン法ないしデュアルダマシン法にも適用可能である。 - 特許庁

CONTENT PROVIDING APPARATUS, CONTENT INFORMATION TRANSMITTER-RECEIVER, CONTENT DISPLAY PROCESSOR, CONTENT DISPLAY PROCESS SYSTEM, CONTENT PROVIDING METHOD, CONTENT INFORMATION TRANSMITTING/RECEIVING METHOD, CONTENT DISPLAY PROCESS METHOD, PROGRAM AND COMPUTER READABLE RECORD MEDIUM RECORDING PROGRAM例文帳に追加

コンテンツ提供装置、コンテンツ情報送受信装置、コンテンツ表示処理装置、コンテンツ表示処理システム、コンテンツ提供方法、コンテンツ情報送受信方法、コンテンツ表示処理方法、プログラム、およびプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

The method of manufacturing the superconductive thin-film material includes a gas-phase process for forming a superconductive layer 3 by a gas-phase method, and a liquid-phase process for forming a superconductive layer 4 by a liquid-phase method so that the superconductive layer 4 is in contact with the superconductive layer 3.例文帳に追加

超電導薄膜材料の製造方法は、気相法により超電導層３を形成する気相工程と、超電導層３に接するように、液相法により超電導層４を形成する液相工程とを備えている。 - 特許庁

In the electroless plating method, metallic powder having the average particle diameter larger than 100 μm can be used, and the electroless plating method is applicable to a damascene process or a dual damascene process which is a method for forming fine metal wiring within a semiconductor element.例文帳に追加

本発明の無電解めっき方法では、金属粉末として平均粒径は１００μｍより大きいものを使用でき、半導体素子内の微細金属配線形成方法であるダマシン法ないしデュアルダマシン法にも適用可能である。 - 特許庁

The method comprises the following method steps, namely a method step of adapting an operation parameter of the initial operation system to a required value for the intended operation system in a pre-control process, a method step of changing over the operation system after the pre-control process, and a method step of controlling the operation parameter after change-over.例文帳に追加

本方法は、次の方法ステップ、即ち−予制御過程において、初期運転方式の運転パラメータを、目的運転方式のために必要な値に適合させる方法ステップと、−予制御過程後に運転方式を切換える方法ステップと、−切換後に運転パラメータを制御する方法ステップと、を含む。 - 特許庁

In the patterning method of impurity doped indium oxide thin film, the patterning method includes: a process for etching the impurity doped indium oxide thin film in a dry etching method; and a process for etching the impurity doping indium oxide thin film, which was subjected to the dry etching method, in a wet etching method.例文帳に追加

不純物ドープ酸化インジウム薄膜のパターニング方法において、ドライエッチング法により該不純物ドープ酸化インジウム薄膜のエッチングを行う工程と、ウェットエッチング法により前記ドライエッチング法を行った不純物ドープ酸化インジウム薄膜のエッチングを行う工程とを行うパターニング方法を用いる。 - 特許庁

This ozone water treating method comprises an ozone water producing process producing ozone water with particle sizes R (0<R≤1,000 nm) of contained ozone bubbles by a gas-liquid mixing method containing no additive; and an ozone water treating process treating a treating object using the ozone water produced in the ozone water producing process.例文帳に追加

含有オゾン気泡の粒径Ｒが０＜Ｒ≦１０００ｎｍであるオゾン水を、添加物を含めない気液混合方法によって生成するオゾン水生成工程と、当該オゾン水生成工程において生成したオゾン水を用いて被処理物を処理するオゾン水処理工程と、を含めてなる。 - 特許庁

In the method for producing the semiconductor structure, this method is provided with a process for controlling the SOI wafer having a plurality of active areas thereon, a process for forming the CMOS in the first active area on the wafer, and a process for forming the SiGe HBT in the other active area on the wafer.例文帳に追加

半導体構造を製造する方法は、上に複数の活性領域を有するＳＯＩ基板を調整する工程と、基板上の第１の活性領域にＣＭＯＳを形成する工程と、基板上の別の活性領域にＳｉＧｅ ＨＢＴを形成する工程とを包含する。 - 特許庁

A process for forming the one-side electrodes 5 includes: a process for forming electrode films 5a by a deposition method between the plurality of separators 4; and a process for further arranging an electrode material (5a) on the formed electrode films 5a by the deposition method between the plurality of separators 4.例文帳に追加

その一方の電極５を形成する工程は、複数のセパレータ４同士間に蒸着法により電極膜５ａを形成する工程と、複数のセパレート４同士間における蒸着法で形成した電極膜５ａ上にさらに電極材料（５ａ）を配置する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the electronic component comprises an electrode film forming process for forming the electrode film consisting of the α phase tungsten on a substrate at the substrate temperature of 100-300°C by a sputtering method; a process for working the electrode film into a desired shape; and a process for heat-treating the electrode film.例文帳に追加

基板上に、α相タングステンからなる電極膜を１００〜３００℃の基板温度でスパッタリング法により形成する電極膜形成工程と、該電極膜を所望の形状に加工する工程と、電極膜を熱処理する工程とを備える、電子部品の製造方法。 - 特許庁

This cross section form observation method includes a process for forming a protective film on a specimen surface by a deposition method; a process for forming a protective film for working on the protective film by using a FIB; and a process for cutting the specimen with the protective film for working formed thereon by using the FIB to observe its cross section.例文帳に追加

試料表面に蒸着法により保護膜を形成する工程と、前記保護膜上にＦＩＢを用いて加工用保護膜を形成する工程と、前記加工用保護膜の形成された試料をＦＩＢにより切断し、断面を観察する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of simply measuring the amount of a nitrogen element diffused in a silicon substrate in a process of forming a gate electrode film by a plasma nitriding process, and to provide a method of forming a gate electrode film by a plasma nitriding process having less effect on device characteristics.例文帳に追加

プラズマ窒化処理によりゲート電極膜を形成するプロセスにおいてシリコン基板中に拡散した窒素元素量を簡便に測定する方法を提供し、さらにデバイス特性に与える影響の小さいプラズマ窒化プロセスによるゲート電極膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The production method and the preservation method of the avocado fruit flesh processed product comprise the process (A) of deactivating enzyme, the process (B) of contact with the carbon dioxide gas and/or the ammonia gas under the atmosphere containing no oxygen and the process (C) of preservation with no oxygen supplied of the avocado fruit flesh processed product produced via the processes (A) and (B).例文帳に追加

酵素失活工程（Ａ）、酸素不含有雰囲気下での炭酸ガス及び／又はアンモニアガスとの接触工程（Ｂ）、及び工程（Ａ）及び（Ｂ）を経て製造されたアボカド果肉加工品の酸素非供給下での保存工程（Ｃ）を含む製造及び保存方法。 - 特許庁

The method of treating waste such as garbage including a pre-drying process for drying a fed raw garbage, a water absorption process for supplying water to the dried raw material, and a post-drying process for drying the water-absorbed raw material, and the apparatus for the method are provided.例文帳に追加

投入された厨芥原料を乾燥する前乾燥工程と、乾燥された原料に水を補給する吸水工程と、吸水後の原料を乾燥する後乾燥工程を包含する、厨芥等の廃棄物の処理方法、および処理のための装置が提供される。 - 特許庁

Moreover, as this method for inspecting water stain deposited on a transparent film, a water stain inspection method is used which is characterized by comprising a water stain imaging process for imaging the water stain, a contrast improvement process for improving the contrast of the water stain, and a defect determination process for determining the water stain to be a defect.例文帳に追加

また、透明フィルムに付着した水しみを検査する方法において、水しみを撮像する水しみ撮像工程、水しみのコントラストを改善するコントラスト改善工程、水しみを欠陥として判定する欠陥判定工程を有することを特徴とする水しみ検査方法を用いる。 - 特許庁

To provide a heat-treating equipment, a heat-treating method and a manufacturing method of a semiconductor device in which reduction of life time of minority carrier in a wafer during the whole heat treatment process is avoided, a hydrogen treatment process is omitted from the manufacturing process of a semiconductor device, and a temperature of hydrogen treatment can be lowered.例文帳に追加

本発明は、全熱処理工程中においてウェハー中の少数キャリアのライフタイムの劣化を回避して、半導体装置の製造工程から水素処理工程を省いたり水素処理の低温化ができる熱処理装置、熱処理方法及び半導体装置製造方法を得る。 - 特許庁

The method of depositing a membrane includes a membrane-depositing process, in which electrolyte membranes (25, 26) having a proton conductivity are deposited by a gas phase depositing method on a hydrogen-separation membrane (21) with hydrogen permeability and the depositing process includes a changing process for changing a depositing condition during depositing the electrolyte membranes (25, 26).例文帳に追加

成膜方法は、水素透過性を有する水素分離膜（２１）上にプロトン伝導性を有する電解質膜（２５，２６）を気相成膜法により成膜する成膜工程を含み、成膜工程は、電解質膜（２５，２６）の成膜の途中で成膜条件を変更する変更工程を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor wafer includes a first injection process for forming a silicon crystal by a floating zone method and injecting N type impurity of prescribed concentration, and a second injection process for performing neutron irradiation and injecting phosphorus in a prescribed concentration onto the silicon crystal after the first injection process.例文帳に追加

フローティングゾーン法によりシリコン結晶を形成し、所定濃度のＮ型不純物を注入する第１の注入工程と、第１の注入工程の後、シリコン結晶に中性子照射を行い、所定濃度のリンを注入する第２の注入工程を備える。 - 特許庁

ASPHALT DISSOLVING AGENT, ASPHALT AMOUNT MEASURING METHOD AND ASPHALT PAVING PROCESS USING THE ASPHALT DISSOLVING AGENT, MODIFIED ASPHALT COMPOSITION CONTAINING THE ASPHALT DISSOLVING AGENT AND THE PRODUCTION METHOD, CRACK REPAIR PROCESS AND WATERPROOFING TREATING PROCESS USING THE MODIFIED ASPHALT COMPOSITION例文帳に追加

アスファルト溶解剤、このアスファルト溶解剤を用いたアスファルト量測定方法およびアスファルト舗装方法、このアスファルト溶解剤を含有する改質アスファルト組成物およびその製造方法、ならびにこの改質アスファルト組成物を用いたクラック補修方法および防水処理方法 - 特許庁

In a nucleation process as a previous process, a nucleation process S1 for generating a crystalline nucleus on the substrate is performed by a reactant thermal CVD method or the plasma CVD method using higher-order silane-based gas represented by Si_nH_2n+2 (n=2, 3...) and germanium halide gas for deposition gas.例文帳に追加

また前工程として、前記核生成工程では、Ｓｉ_nＨ_2n+2（ｎ＝２，３,…)で表される高次シラン系ガスとハロゲン化ゲルマニウムガスとを成膜ガスに用いた反応性熱ＣＶＤ法またはプラズマＣＶＤ法によって基板上に結晶核を生成するための核生成工程Ｓ１を行う。 - 特許庁

A producing method of a sintered material is provided with a process for forming a compact containing metallic powder and a binder through e.g. a metallic powder injection molding method (MIM), a process for applying degreasing treatment to this compact and a process for obtaining the sintered material by sintering the obtd. degreased material.例文帳に追加

本発明の焼結体の製造方法は、例えば金属粉末射出成形（ＭＩＭ）法により金属粉末と結合材とを含む成形体を成形する工程と、この成形体に脱脂処理を施す工程と、得られた脱脂体を焼結して焼結体を得る工程とを有している。 - 特許庁

Regarding the method of manufacturing the microlens, the method includes a process of forming a 1st lens pattern, a process of forming a 2nd lens pattern on a portion of the 1st lens pattern in a manner which controls an asymmetric curvature of the microlens, and a process of reflowing the 1st and 2nd lens patterns.例文帳に追加

マイクロレンズの製造方法は、第１レンズパターンを形成する段階、マイクロレンズの非対称曲率を制御するように第１レンズパターンの一部分上に第２レンズパターンを形成する段階、及び第１レンズパターン及び第２レンズパターンをリフローさせる段階を含む。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the process of forming an element on the back side of a semiconductor substrate 1, the process of bonding the back side of the semiconductor substrate 1 and a holding substrate 4, the process of thinning down the semiconductor substrate 1 from the surface, the process of forming an element on the surface side of the semiconductor substrate 1, and the process of removing the holding substrate 4.例文帳に追加

半導体基板１の裏面側の素子形成を行う工程と、前記半導体基板１の裏面と保持基板４と接着する工程と、前記半導体基板１を表面より薄化する工程と、前記半導体基板１の表面側の素子形成を行なう工程と、前記保持基板４を除去する工程とを備える。 - 特許庁

This method for producing the raw cream comprises a sterilization process of sterilizing separate cream obtained by separating raw material milk and having 40-46 mass% of milk fat, a homogenizing process (a) of homogenizing the separate cream after the sterilization process, and a homogenizing process (b) of homogenizing the separate cream before the sterilization process.例文帳に追加

本発明は、原料乳を分離して得られる乳脂肪含量が４０〜４６質量％の分離クリームを殺菌する殺菌工程と、前記殺菌工程の後に前記分離クリームを均質化する均質化工程（ａ）と、さらに前記殺菌工程の前に前記分離クリームを均質化する均質化工程（ｂ）を有することを特徴とする生クリームの製造方法である。 - 特許庁

In relation to a circuit board of which the front and back sides are electrically connected through copper-plated vias, in this manufacturing method of a board for a semiconductor package, a surface roughening process of solder resist 8, a palladium removal process of a copper exposure part on a solder ball mounting surface, and a surface treatment process comprises an organic rustproofing process, electroless gold plating, electroless tin plating and a solder process.例文帳に追加

銅メッキされたビアにより表裏導通された回路基板において、ソルダーレジスト８の表面粗化処理、更に半田ボール搭載面の銅露出部のパラジウム除去処理、および表面処理工程が、有機防錆処理、無電解金メッキ、無電解スズメッキ、半田処理からなる半導体パッケージ用基板の製造方法。 - 特許庁

The method for preventing dirt is to simultaneously use (A) a piperidine-1-oxyl compound and (B) 2, 6-di-tert-butyl-4-methylphenol and/or p-tert-butyl catechol in the presence of oxygen in the production process, the purification process, the recovery process, the storing process or the transport process for producing the diene compound and derivatives of the same.例文帳に追加

ジエン化合物及びその誘導体の製造工程、精製工程、回収工程、貯蔵工程あるいは輸送工程において、酸素存在下、特定の（Ａ）ピペリジン−１−オキシル化合物と（Ｂ）２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールおよび／又はｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコールを同時に用いることを特徴とする汚れ防止方法。 - 特許庁

To provide a method and a system for solving a problem for checking a succeeding process path relating to a plurality of works which are in standby for conveyance, a problem that a work cannot be conveyed because the other work occupies a next process even if one process is completed, and a problem that the work cannot be conveyed even if a process is empty because a preceding process is still under processing.例文帳に追加

搬送待ちとなっている複数のワークに対して，今後の工程経路を確認する課題，ある工程が完了しても次の工程が別のワークで塞がってワーク搬送できない課題，工程が空いていても前の工程がまだ処理中で搬送できない課題，これらを解決する方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

Preferably, the method comprises (1) a process for inoculating a pathogenic germ in a transurethral manner into an animal in which a spiral elastic body tool is detained in a bladder, (2) a process, after the process (1), for administering an immunosuppressant to the animal and (3) a process, after the process (2), for closing the urethral opening of the animal by a physical means.例文帳に追加

好ましくは、下記の工程：(1)膀胱内にラセン状の弾性体用具が留置された動物に対して経尿道的に病原菌を接種する工程；(2)上記工程(1)の後、該動物に免疫抑制剤を投与する工程；及び(3)上記工程(2)の後、該動物の尿道口を物理的手段により閉塞する工程を含む。 - 特許庁

This method includes a substrate rotating process of rotating one substrate held by a spin chuck, a preceding pure water supply process of supplying pure water on the substrate surface rotated by the substrate rotating process, and a chemicals liquid supply process of supplying a chemical liquid on the substrate surface rotated by the substrate rotating process.例文帳に追加

この方法は、スピンチャックで１枚の基板を保持して回転させる基板回転工程と、この基板回転工程によって回転されている基板の表面に純水を供給する前純水供給工程と、基板回転工程によって回転されている基板の表面に薬液を供給する薬液供給工程とを含む。 - 特許庁

This method for producing onion processed food comprises a micronizing process of micronizing bulb of onion, a cold water treatment process of removing with cold water glucide contained in the onion micronized product obtained by the micronizing process and a compression process of compressing the onion micronized product from which glucide is removed in the cold water treatment process.例文帳に追加

タマネギの鱗茎を微細化する微細化工程と、前記微細化工程により得られるタマネギ微細化物中に含まれる糖質を冷水により除去する冷水処理工程と、前記冷水処理工程で糖質を除去された前記タマネギ微細化物を圧搾する圧搾工程と、を含むタマネギ加工食品の製造方法である。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device has a process for forming an insulating film above a semiconductor substrate; a process for forming a recessed part in the insulating film; a process for forming a barrier metal layer on an inner surface of the recessed part; a process for forming a seed layer containing Ru and Cu on the barrier metal layer; and a process for forming a copper layer on the seed layer.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板の上方に、絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜に凹部を形成する工程と、凹部の内面に、バリアメタル層を形成する工程と、バリアメタル層上に、ＲｕとＣｕを含むシード層を形成する工程と、シード層上に銅層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

This manufacturing process managing method is to analyze factors of a manufacturing process with fault phenomenons as a top event, to form a cause and effect relationship in many branched by associating the cause and effect relationship with basic causes, to prepare a process fault tree with management items for coping with each of the basic causes attached respectively as a terminal and to manage a manufacturing process on the basis of the process fault tree.例文帳に追加

故障現象をトップ事象として製造工程の要因を分析し因果関係を基本原因に関連させて多分枝に構成し、各基本原因に対処する管理項目をそれぞれ端末として付加した工程フォールトツリーを作成し、前記工程フォールトツリーに基づいて製造工程を管理する製造工程の管理方法。 - 特許庁

In the wooden board manufacturing method comprising the forming process wherein a wooden material, such as chips and fibrillated fibers mixed with an adhesive, is evenly laid into a fixed thickness and the hot press process wherein the wooden material laid into the fixed thickness is hot-pressed into a predetermined thickness, the high-frequency preliminary heating process is arranged as a previous process of the hot press process.例文帳に追加

接着剤を混合したチップや解繊したファイバーなどの木質材を一定の厚みに敷きならすフォーミング工程、一定の厚みに敷きならされた木質材を所定の厚みに熱圧するホットプレス工程によって製造される木質ボードの製造法において、ホットプレス工程の前工程として高周波予備加熱工程を配置する。 - 特許庁

This method to manufacture ablation devices includes a process to provide a mandrel 324, a process to attach an electrode to the mandrel 324, a process to coat the mandrel 324 with uncured emulsion, a process to cure the emulsion to form a balloon shape coating all over the mandrel 324, and a process to detach the coating from the mandrel 324.例文帳に追加

剥離装置を製造する方法であって、マンドレル３２４を提供する工程と、このマンドレル３２４に電極を取り付ける工程と、マンドレル３２４を未硬化のエマルジョンで被覆する工程と、エマルジョンを硬化させてマンドレル全体に亘って袋状の被覆を形成する工程と、この被覆をマンドレルから取り外す工程とを含む。 - 特許庁

In the method for producing the deinked pulp of printed wastepaper, comprising a disintegration process, the immersion process and a deinking process, the immersion process has a stage in which treatment using hydrogen peroxide and ozone is carried out under a neutral condition of pH 6-8 and the pulp concentration is 8-40% in the stage of the treatment using hydrogen peroxide and ozone in the immersion process.例文帳に追加

離解工程、浸漬工程、脱インキ工程を含む印刷古紙の脱インキパルプの製造方法において、該浸漬工程がｐＨ６〜８の中性条件下で過酸化水素およびオゾンを併用して処理される段を有し、浸漬工程中の過酸化水素およびオゾンを併用して処理される段のパルプ濃度が８〜４０％である脱インキパルプの製造方法。 - 特許庁

This method for producing the cyclohexanone oxime comprises (1) a process of ammoximating cyclohexanone with hydrogen peroxide and ammonia in the presence of a titanosilicate and a silicon compound other than the titanosilicate, and (2) a process of calcining the titanosilicate used in the process (1) under an atmosphere of an oxygen-containing gas, and using the titanosilicate calcined in the process (2) in the process (1).例文帳に追加

工程（１）：チタノシリケートとチタノシリケート以外の珪素化合物の存在下にシクロヘキサノンを過酸化水素とアンモニアでアンモキシム化する工程、及び工程（２）：工程（１）で使用したチタノシリケートを酸素含有ガスの雰囲気下に焼成する工程を有し、工程（２）で焼成したチタノシリケートを工程（１）で使用する方法により、シクロヘキサノンオキシムを製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer printed-wiring board includes a roughening process for roughening a surface 4a by bringing a chemical roughening liquid into contact with the surface 4a of the wiring circuit 4, an oxidation process for oxidizing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the roughening process, and a reduction process for reducing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the oxidation process.例文帳に追加

実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法は、配線回路４の表面４ａに化学粗化液を接触させて表面４ａを粗化する粗化工程と、粗化工程の後に配線回路４の表面４ａを酸化する酸化工程と、酸化工程の後に配線回路４の表面４ａを還元する還元工程とを含む。 - 特許庁

The method comprises the following processes: a process in which cement and water are added to incineration ash; a process in which the resultant admixture of incineration ash, cement and water is kneaded; a process in which the resultant kneaded admixture is molded; a process in which the molded admixture is cured; and a process in which the hardened product of the admixture obtained after curing is pulverized.例文帳に追加

焼却灰にセメントと水とを添加する工程と、該工程で得られた焼却灰とセメントと水の混合物を混練する工程と、該工程で混練された混合物を成形する工程と、該成形された混合物を養生する工程と、該養生により得られた前記混合物の硬化体を粉砕する工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing porous material consists of a modifying process of a slurry containing a structure component, which does not melt in firing, and a melting component which melts in firing, a process for admixing a gelling agent and air foams into the slurry, a forming process, a drying process, and a firing process for firing materials at temperatures of 400 to 1300°C.例文帳に追加

焼成時に熔融しない骨格成分と、焼成時に熔融する熔融成分とを含有するスラリーを調製する工程と、該スラリーにゲル化剤および気泡を混入する工程と、成形する工程と、乾燥する工程と、４００〜１３００℃の焼成温度で焼成する工程と、を具備することを特徴する多孔質材の製造方法。 - 特許庁

This method has the first process for stimulating a user registration, the second process for storing the user information input in the user registration by the first process, the third process recording a history of coupon down-loading by a registered user, and the fourth process for providing the history of the coupon down-loading to a client.例文帳に追加

ユーザー登録を促す第１の工程と、この第１の工程によりユーザー登録の際に入力されるユーザー情報を格納する第２の工程と、登録したユーザーによるクーポンダウンロードの履歴を記録する第３の工程と、登録されたクライアントからのアクセスを受ける際、前記クーポンダウンロードの履歴を当該クライアントに提供する第４の工程を有する。 - 特許庁

In this method of separating and recovering the resin and metal from the cylindrical empty cartridge including the resin and metal, has a first process for roughly crushing the empty cartridge, a second process for finely crushing the roughly-crushed matter obtained in the first process, and a third process for separating the resin and metal from the finely-crushed matter obtained in the second process.例文帳に追加

樹脂及び金属を含む円筒状の殻薬莢から樹脂及び金属を分離回収する方法であり、前記殻薬莢を粗破砕する第１工程、第１工程で得られた粗破砕物を細破砕する第２工程、第２工程で得られた細破砕物から樹脂と金属を分離する第３工程を有する分離回収方法。 - 特許庁

The manufacturing method of white chaff ash comprises a pre-treating process of treating chaff with a lignin decomposition agent, a carbonizing process of heating chaff subjected to the pre-treating process at 250-350°C for 30 minutes or more, and a calcining process of calcining the chaff subjected to the carbonizing process at 480°C or more for 30 minutes or more.例文帳に追加

この発明に係る白色系籾殻灰の製造方法は、籾殻をリグニン分解剤で処理する前処理工程と、前記前処理工程を経た籾殻を２５０〜３５０℃で３０分以上加熱する炭化工程と、前記炭化工程を経た籾殻を４８０℃以上の温度で３０分以上焼成する焼成工程と、を包含することを特徴とする。 - 特許庁

The micro process method comprises the processes of supplying a raw fluid in the micro process system containing a micro fluid device 2 having a microchannel 21 where the process is carried out, and a transport channel 25 communicating with the microchannel 21, and at the same time, of transporting the process fluid flown out from the microchannel 21 via the process, through the transport channel 25.例文帳に追加

本発明のマイクロプロセス方法は、プロセスが行われる微小流路２１を有するマイクロ流体デバイス２及び微小流路２１に連通する移送流路２５を含むマイクロプロセス系内に原流体を供給しつつ、前記プロセスを経て微小流路２１から流出されるプロセス流体を、移送流路２５を通して移送する工程を具備する。 - 特許庁