microscopeを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8962件
In an MR guided surgical system which is carried out in the bore of an MR magnet, there is provided a microscope system for viewing a required part of a patient which includes stereoscopic viewing components arranged for use in generating 2D and 3D images displayed to a surgeon.例文帳に追加
磁石のボア内で行われるMRガイド手術システムにおいて、外科医に表示される2Dと3D画像を生成する際に使用するために配置された立体視部品を含む、患者の必要とされる部分を表示するための顕微鏡システムが提供される。 - 特許庁
The magnification of the microscope is varied to make an image of an object reference scale 10 and an ocular lens reference scale 6a optically match each other one over the other to determine a zoom position corresponding to the optical superposition match of a zoom system 4 in use.例文帳に追加
使用されるズームシステム4の当該光学的重畳一致に対応するズーム位置を決定するために、物体参照尺度10の像と接眼レンズ参照尺度6aとを中間像面7において光学的に重畳一致させるように、顕微鏡の倍率を変更する。 - 特許庁
Also, the scanning type probe microscope is equipped with a cantilever, having an elastomer for supporting the probe, an exciting means for exciting the cantilever and an exciting signal changeover means, for changing over at least two exciting signals inputted to the exciting means.例文帳に追加
また、探針と試料を相対的に走査する走査形プローブ顕微鏡において、探針を支持する弾性体を有するカンチレバーと、カンチレバーを加振する加振手段と、加振手段に入力する少なくとも2つの加振信号を切り換える加振信号切換手段と、を備えることである。 - 特許庁
To provide a sample stage for a focused ion beam processing device, using an easy method for inexpensively making a plane-observed semiconductor thin sample, and to provide a method using the same for making the transmission type electron microscope plane-observed semiconductor thin sample.例文帳に追加
簡易な方法で安価に平面観察用半導体薄片試料を作製することを可能にする集束イオンビーム加工装置の試料ステージおよびこの試料ステージを用いた透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法の提供。 - 特許庁
To provide an NC-AFM capable of stably performing approach and the surface observation of a sample with proper resolving power even with respect to any sample in a non-contact atomic force microscope and the operation program thereof.例文帳に追加
本発明は非接触原子間力顕微鏡及び非接触原子間力顕微鏡の動作プログラム関し、どのような試料においても、適した分解能で安定にアプローチ及び試料表面観察をすることができるNC−AFMを提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a microscope sample preparing technique, wherein by solving the problem of ions injected by ion irradiation and remaining in the vicinity of the surface of a sample when of preparing a sample to be observed through the use of FIB, the sample is properly observed without being affected by the ions.例文帳に追加
FIBを用いて観察試料を作製する場合に、イオン照射によって注入され、試料表面近傍に残留するイオンの問題を解決し、その影響を受けることなく本来の試料観察ができる顕微鏡試料作製手法を提示することにある。 - 特許庁
To provide a method and a device for adjusting automatic axis of an electron lens of a scanning electron microscope capable of automatically adjusting an axis of the electron lens in high precision.例文帳に追加
本発明は走査型電子顕微鏡における電子レンズの自動軸調整方法及び装置に関し、電子レンズの軸調整を高精度で高速に自動で行なうことができる電子顕微鏡における電子レンズの自動軸調整方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁
To realize the reciprocation without the tilt of components to be positioned with simple means in a device for precisely positioning, in particular, the objective lens or the objective lens revolver of a microscope in a vertical direction.例文帳に追加
構成部品を精密位置決めするための装置、特に顕微鏡の対物レンズまたは対物レンズレボルバーを鉛直方向に精密位置決めするための装置において、位置決めされる構成部品の傾動のない往復運動が簡単な手段により可能であるように構成し、改良する。 - 特許庁
To provide a semiconductor process simulation device which adopts an impurity diffusion model under the consideration of a dislocation loop for reducing a time and labor required for extracting the physical quantity of the dislocation loop from a transmission electron microscope picture.例文帳に追加
転位の輪を考慮に入れた不純物拡散モデルを取り入れた半導体プロセスシミュレーション装置において、転位の輪の物理量を透過電子顕微鏡写真から抽出する時間と労力を低減した半導体プロセスシミュレーション装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
This method for inspecting the carbon aggregate in the epoxy resin composition including carbon black is characterized by observing the molding surface comprising the composition by an infrared microscope having imaging element spectral sensitivity of 400 to 1,200 nm.例文帳に追加
カーボンブラックを含むエポキシ樹脂組成物中のカーボン凝集物を検査する方法において、該組成物からなる成形品表面を、撮像素子分光感度が400nm〜1200nmの赤外線顕微鏡で観察することを特徴とするエポキシ樹脂組成物中のカーボン凝集物検査方法。 - 特許庁
A horny layer cell discrimination method includes dying the horny layer cell taken from skin with a stain solution that contains 30-50% by mass of ethanol including Sudan Black B from a direction of a region contacting its surrounding and discriminating its hydrophobicity/hydrophilicity under the optical microscope.例文帳に追加
皮膚より採取した角層細胞をズダンブラックBの色素を含む、エタノールを30〜50質量%を含有する染色液で外界接触部分方向から染色し、光学顕微鏡下において、角層細胞の疎水性−親水性を鑑別することを特徴とする、角層細胞の鑑別法。 - 特許庁
Nominal magnification of the microscope at the zoom position is determined, the actual magnification and nominal magnification are related to each other through a computer, and through the computer relating, magnification calculations for other zoom positions are made.例文帳に追加
前記ズーム位置における顕微鏡の公称倍率を決定し、前記実際倍率と前記公称倍率との計算機的な関係付けを行い、前記公称倍率と前記実際倍率との前記計算機的な関係付けに基づき他のズーム位置のための倍率計算を行うこと、を特徴とする。 - 特許庁
To improve reliability of an electron beam application device by preventing a rapid change of state to an electron source with regard to a high voltage power source of a Schottky electron source adopted in the electron beam application device such as an electron microscope or an electron beam picture drawing device.例文帳に追加
電子顕微鏡や電子線描画装置などの電子線応用装置において採用されるショットキー電子源の高圧電源に関し、電子源に急激な状態変化をもたらさないようにすることで、電子線応用装置の信頼性向上を目的とする。 - 特許庁
The microscope comprises an observatory optical system 10 composed of an objective lens 11, an imaging lens 12 and an eyepiece 13, an index image projection section 30 projecting two index images and a half mirror 26 connecting an optical path of the index image projection section 30 with an optical path of the observatory optical system 10.例文帳に追加
顕微鏡は、対物レンズ11と結像レンズ12と接眼レンズ13からなる観察光学系10と、二つの指標像を投射する指標像投射部30と、指標像投射部30の光路を観察光学系10の光路に結合するハーフミラー26とを有している。 - 特許庁
In this method of preparing the sample for direct observation in the transmission electron microscope, of an interface between the iron oxide and solid carbon for analyzing the reduction process of the iron oxide by the solid carbon, the iron oxide which is an observation object is broken and carbon is deposited on the broken face.例文帳に追加
酸化鉄の固体炭素による還元過程を解析するために酸化鉄と固体炭素の界面を透過電子顕微鏡内で直接観察する試料の作製方法であって、観察対象物である酸化鉄を破断しその破断面に炭素を蒸着することとする。 - 特許庁
The endoscopic observation system 2 is constituted of an endoscope imaging device 51, an endoscope unit 10 with a microscope imaging device 52 and an endoscope side observation device 13 which conducts a remote communication with the pathologic diagnosis system 4 by using an endoscope side remote communicator 12 through the remote communication circuit 3.例文帳に追加
内視鏡観察システム2は、内視鏡像撮像装置51及び、顕微像撮像装置52を設けた内視鏡装置10と、遠隔通信回線3を介して内視鏡側遠隔通信機12で病理診断システム4と遠隔通信する内視鏡側観測装置13とから構成される。 - 特許庁
A mask mark M (MX, MY) on the mask and a pallet mark MP (MPX, MPY) on the wafer pallet are simultaneously imaged with the microscope imaging apparatus including two pairs of focusing optical systems from the direction orthogonal to the mask and wafer surface to measure two-dimensional position displacement between these marks.例文帳に追加
マスク及びウエハの面と直交する方向からマスク上のマスクマークM(M_X 、M_Y )とウエハパレット上のパレットマークMP(MP_X 、MP_Y)とを2組の結像光学系を有する顕微鏡撮像装置によって同時に撮像し、これらのマーク間の二次元の位置ずれ量を測定する。 - 特許庁
A microscope 11 is provided with an objective lens 22 for making the fluorescence developed from the sample 13 incident on an observation optical system for imaging the sample 13, and an image guide 25 comprising a plurality of optical fibers and making the fluorescence developed from the sample 13 incident on the objective lens 22.例文帳に追加
顕微鏡11には、標本13から発現した蛍光を標本13の像を結像させるための観察光学系に入射させる対物レンズ22と、複数の光ファイバからなり、標本13から発現した蛍光を対物レンズ22に入射させるイメージガイド25とが設けられている。 - 特許庁
Regarding the optical microscope including a finite objective lens or a pair of infinite objective lenses and an imaging lens, by dividing an optical path behind the imaging lens into two and making a difference in optical path lengths, two images having different focuses are projected on the light receiving surface of an image acquisition apparatus such as a CCD camera.例文帳に追加
有限系対物レンズ、あるいは、一対の無限系対物レンズと結像レンズを備えた光学顕微鏡において、結像レンズ以降の光路を二つに分け、光路長に差を与えることにより、二つの焦点の異なる像をCCDカメラ等の画像取得装置の受光面に投影する。 - 特許庁
To provide an inexpensive device with a simple structure and an easy operation capable of enlarging an analyzing area of sample and enhancing a resolving power of ion at an electric field evaporation position to an atom level in an atom probe or a scanning type atom probe in which an electric field ion microscope and an ion detector are combined.例文帳に追加
電界イオン顕微鏡とイオン検出器を組み合わせたアトムプローブあるいは走査型アトムプローブにおいて、試料の分析領域を拡大すると共にイオンの電界蒸発位置の分解能を原子レベルまで向上させ得る、簡素な構造で安価で操作が容易な装置を構成する。 - 特許庁
The visual inspection device for inspecting an appearance of the V groove which is formed in the silicon substrate and on which the optical fiber is mounted by using a microscope is provided with a coaxial vertical illumination means and a spread illumination means installed outside.例文帳に追加
シリコン基板上に形成された光ファイバ搭載用のV溝の外観を顕微鏡下で検査する装置において、同軸落射照明手段と外部取り付け拡散照明手段を設けたことを特徴とする検査装置、及びこれを使用することを特徴とするV溝外観の検査方法。 - 特許庁
To provide a scanning electron microscope device having a function to produce precisely and rapidly an imaging recipe having an equal or better performance than an imaging recipe produced manually by SEM operators based on their own unique know-how, and to provide an imaging method using the same.例文帳に追加
SEMオペレータが独自のノウハウに基づきマニュアルで生成した撮像レシピと同等あるいはそれ以上の性能をもつ撮像レシピを正確にかつ高速に生成する機能を備えた走査型電子顕微鏡装置ならびにそれを用いた撮像方法を提供する。 - 特許庁
With the help of a means of inputting a space size or a distance d an operator wishes to observe, and by calculating observation conditions alleviating influence of high contrast and superposed false images based on the values, desired modulation is applied on acceleration voltage or the like of the electron microscope.例文帳に追加
操作者が観測を希望する空間的な大きさまたは距離dを入力する手段と、この値に基づく像が高いコントラスト、且つ重畳する偽像の影響を低減せしめる観察条件を算出し、それに基づき電子顕微鏡の加速電圧等に所望の変調をかける。 - 特許庁
A previously selected reference pattern region is measured at a certain timing during measurement of a measurement region of sample characteristics with a scanning probe microscope, and the displacement of a probe is corrected while necessarily specifying the displacement in an XYZ axis from a measured image of the reference pattern.例文帳に追加
走査プローブ顕微鏡による試料特性の測定領域を測定中のあるタイミングで予め選択されたリファレンスパターン領域の測定を行い、リファレンスパターンの測定像から適宜XYZ軸方向の位置ずれ量を特定して探針の位置ずれ補正を行う。 - 特許庁
To provide a stereoscopic microscope which can obtain light observation images on both a main and a subordinate observation side, holds a main and a subordinate observation lens barrel at a proper distance to obtain the sufficient degree of freedom of the subordinate observation side, and holds the proper height and shift of an eye point.例文帳に追加
主観察側及び副観察側ともに明るい観察像を得ることができ、しかも、主観察鏡筒と副観察鏡筒とが適切な距離を保ち、副観察側の自由度を十分保ち、かつ、適切なアイポイントの高さ及びシフトを保つことが可能な実体顕微鏡を提供する。 - 特許庁
This scanning charged particle microscope provides with a passing opening limiting the passage of charged particle beams arranged between a charged particle source and a scanning deflecting device, wherein the passing opening has a member for limiting the passage of the charged particle beams in at least the center of the opening.例文帳に追加
荷電粒子線の通過を制限する通過開口を、荷電粒子源と走査偏向器の間に配置し、当該通過開口は、少なくともその開口中心に荷電粒子線の通過を制限する部材を備えてなることを特徴とする走査形荷電粒子顕微鏡を提供する。 - 特許庁
The composite electrolyte membrane consisting of polymer electrolyte and polymer nonelectrolyte, has a structure formed by dispersing the polymer electrolyte in the polymer nonelectrolyte granularly or a structure formed in layers respectively, when observing a section of the electrolyte membrane with a transmission electron microscope.例文帳に追加
すなわち、プロトン伝導度を燃料電池用電解質膜として使用できるよう保ちつつ、メタノールなどの水素含有液体透過性(クロスオーバー)をできるだけ小さくした電解質膜であり、なおかつ電極とのプロトン伝導経路を十分に形成しうる電解質膜を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide an illuminating device capable of more uniformly illuminating all over (throughout) an illumination area with less vignetting, simultaneously, which is made as compact as possible so that the structure height of an adaptable microscope may not be increased in the undesirable state.例文帳に追加
従来の同様の装置と比べて、照明領域をより一様にかつよりけられが少なく隈なく(完全に)照明することが可能であると同時に、適用される顕微鏡の構造高さを望ましくない態様で大きくしてしまわないように可及的にコンパクトに構成可能な照明装置。 - 特許庁
To provide a scanning probe microscope capable of separately measuring frictional force deriving from surface force such as adsorptive force corresponding to the surface conditions of a sample and frictional force caused by the coefficient of friction of the surface of the sample.例文帳に追加
試料表面の摩擦力を測定する際に、試料の表面状態に対応した吸着力等の表面力に基づく摩擦力と、試料表面の摩擦係数に基づく摩擦力とを分離して測定することが可能な走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁
To obtain an optical microscope apparatus where a plurality of optical devices are selectively arranged on an optical path, and where a plurality of optical devices in accordance with various observation methods are arranged and set by flexible and easy operation while avoiding the complication and the scale increase of the device.例文帳に追加
複数の光学素子を選択的に光路に配置する光学顕微鏡装置において、装置の複雑化及び大型化を避けつつ各種観察法に応じた複数の光学素子の配置設定を柔軟かつ容易な操作により行うことができるようにする。 - 特許庁
The ceria-zirconia based compound oxide satisfies A/B<1.5 wherein A is an average particle diameter estimated from surface area and B is an average particle diameter ratio measured by observation with an electron microscope, and a specific surface area of the compound oxide after firing at 1,000°C for 3 h is ≥40 m^2/g.例文帳に追加
セリア−ジルコニア系複合酸化物を表面積から推定される平均粒子径Aと電子顕微鏡観察から測定される平均粒子径比Bの比A/Bが<1.5であり、かつ1000℃で3時間焼成後の比表面積が40m^2/g以上とする。 - 特許庁
The host system 2 determines a setting and an operation which are to be reproduced on the basis of the post-changeover wizard screen and the history data recorded in the operation history record unit 4 when the wizards screen to be executed are changed over, and controls the microscope apparatus 1 in accordance with the present setting and present operation.例文帳に追加
ホストシステム2は、実行させるウィザード画面を切り替えた時に、切り替え後のウィザード画面と操作来歴記録部4に記録された来歴データとに基づいて再現させる設定及び操作を決定し、当該設定及び操作に応じて顕微鏡装置1を制御する。 - 特許庁
The electron scanning microscope is provided with a plurality of apertures through which electron beams are capable of passing through and a mechanism in which the plurality of apertures are changed from one to another with the electron beams, and the method of static charge control of the sample is carried out by the changeover of the apertures.例文帳に追加
上記目的を達成するために、電子ビームが通過可能な開口を複数備え、前記電子ビームに対して前記複数の開口を切り替える機構を備えた走査電子顕微鏡、及び開口の切り替えによって、試料の帯電を制御する方法を提案する。 - 特許庁
This microscope is provided with a light source, an objective lens condensing luminous flux from the light source on a sample, a scanning optical system for scanning the sample with the luminous flux from the light source, a photodetector 109 for detecting the luminous flux from the sample and an arithmetic part arithmetically operating the output of the photodetector 109.例文帳に追加
光源と、光源からの光束を標本上に集光する対物レンズと、光源からの光束を標本上で走査させるための走査光学系と、標本からの光束を検出するための光検出器109と、光検出器の出力を演算する演算部とを有する。 - 特許庁
To form the cross section of an ink transfer part by a focusing ion beam device, in the observation of the transfer and penetration of the ink transferred to a printed matter wherein ink is printed on paper or a written matter written by using a ball point pen or a marking pen, to observe the same by an electron microscope or an electron probe microanalyser.例文帳に追加
紙に印刷された印刷物や、ボールペンやマジックなどを用いて筆記された筆記物に転移したインキ等の転移及び浸透状態を、集束イオンビーム装置等により断面を作製し、該断面を電子顕微鏡或いはエレクトロンプローブマイクロアナライザーにより観察する。 - 特許庁
To produce steel in which the generation of the change of the structure in which the size of crystal grains different from a mother phase whitely shown by an optical microscope is refined to several tens nm is suppressed in case hardening steel and having an excellent life, particularly, an excellent rolling life even under high vibration and high loads and to provide a method for producing it.例文帳に追加
肌焼鋼において光学顕微鏡で白く見える母相と異なった結晶粒の大きさが数10nmに微細化した組織変化の発生を抑制し、高振動・高荷重下でも優れた寿命、特に転動寿命を有する鋼およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The microscope unit 100 has, in its housing 101: an observing optical system 300 for observing a specimen; a support/drive system 400 supporting the specimen and the observing optical system and electrically driven; and a temperature adjustment device 500 keeping the inside of the unit at a specified temperature.例文帳に追加
顕微鏡ユニット100は、試料を観察する観察光学系300と、試料および観察光学系を支持すると共に、電動駆動する支持・駆動系400と、当該ユニット内部を、指示された温度に維持する温度調整装置500とを、筐体内101に有する。 - 特許庁
A microscope body 8 is vertically moved by activating a vertical direction moving unit 7A in order to respectively observe the anterior segment and eyeground segment of the eye E to be examined and the observation focus position of at least either of the focus position of the anterior segment and the focus position of the eyeground segment is stored in a memory 61.例文帳に追加
被検眼Eの前眼部や眼底部をそれぞれ観察するために、上下方向移動ユニット7Aを動作させて顕微鏡本体8を上下方向に移動させ、前眼部フォーカス位置および眼底部フォーカス位置の少なくとも一方の観察フォーカス位置をメモリ61に記憶する。 - 特許庁
A inspecting pattern, which is etched through the intermediary of the checking resist patterns 31a and 31b, is observed visually through an optical microscope, it is determined whether or not space between the checking patterns is within an proper range, and it is inspected as to whether the wiring pattern 20 of a product is properly etched.例文帳に追加
検査用レジストパターン31a,31bを介してエッチングされる検査パターンを光学顕微鏡を通して目視し、この検査パターン間の間隔が所定の適正範囲内になっているか否かを判定することにより、製品の配線パターン20が適正にエッチングされているか否かを検査する。 - 特許庁
In the optical microscope 6, some spots 2 on an object 1 are observed by using an optical transmission screen 3 with modifiable lighting arranged on the path 9 of an optical beam and capable of forming a screen picture substantially coincident with the spots on the object in the object surface 7.例文帳に追加
光学顕微鏡6は、光学ビームの通路9に配置されて物体のスポットと実質的に一致したスクリーン映像を物体面7の中に発生する事のできる照射変更自在型光学伝送スクリーン3を使用して物体1の数スポット2を観察する事のできる顕微鏡である。 - 特許庁
To provide a magnetic recording head measuring device realizing the measurement with high sensitivity and high resolution while having high frequency response in the system for measuring the magnetic force by generating the high frequency magnetic field from the recording head for the subject of measurement by utilizing a magnetic force microscope.例文帳に追加
磁気力顕微鏡を利用して、測定対象の記録ヘッドから高周波の磁界を発生させて磁気力を測定する方式において、高周波応答で、高感度かつ高分解能の測定を実現した磁気記録ヘッド測定装置を提供することにある。 - 特許庁
A space is thereby generated between a support film 7 for the mesh 6 for the transmission electron microscope and the observation area including the specified portion 2 desired to be observed, and reworking is allowed further from both sides of the specified portion 2 by the FIB 3, using the space, after the observation.例文帳に追加
これにより、透過型顕微鏡用メッシュ6の支持膜7と観察したい特定箇所2を含む観察領域との間に空間ができることにより、この空間を用いて、観察した後に更に特定箇所2の両側からFIB3で再加工できることとなる。 - 特許庁
Since the microscope 16 is focused to the bottom face B of a pattern at the end point of etching, a signal indicative of focusing to the bottom face B of a pattern at the end point of etching can be detected by the detector 21 when the pattern depth reaches the etching end point depth D.例文帳に追加
顕微鏡16はエッチング終点におけるパターン底面Bに合焦するように設定されているので、パターン深さがエッチング終点深さDとなったときに、検出器21によりエッチング終点時のパターン底面Bへの合焦を示す信号が検出可能となる。 - 特許庁
This microscope is equipped with an ultraviolet-ray intercept means 23a for intercepting the radiation of the DUV beam to the sample 29 by giving a command to a driving circuit 22 for driving a motor M4 and closing a shutter 13, when the radiation time of the DUV beam irradiated to the sample 29 reaches an arbitrary set time.例文帳に追加
標本29に照射しているDUV光の照射時間が任意の設定時間に達すると、駆動回路22に指令を発してモータM_4を駆動し、シャッター13を閉じて、DUV光の標本29への照射を遮蔽する紫外光遮蔽手段23aを備えた。 - 特許庁
An electromagnetic brake 15 is attached to a Z-axis motor 10 which causes the Z-axis stage 5 provided with an objective lens 7 to be raised and lowered and an eyepiece 8 or the like, and the brake 15 is made to act, when the main body power source 25 of the measurement microscope is turned off by a Z-axis control part 16.例文帳に追加
対物レンズ7及び接眼レンズ8などが設けたZ軸ステージ5を昇降させるZ軸モータ10に電磁ブレーキ15を取り付け、Z軸制御部16によって測定顕微鏡の本体電源25が遮断したときに電磁ブレーキ15を働かせる。 - 特許庁
The confocal microscope with such a correction device exhibits a confocal screen, which illustrates a specimen mark (10), whereby the plane-parallel plate (9) is placed in front of the detector unit (2) in the light path (1), in order to center the illustration of the aperture diaphragm on the detector unit.例文帳に追加
このような補正装置を有する共焦点顕微鏡が、試料スポット(10)を結像する共焦点絞りを有し、その際に開口絞りの結像を検出ユニットの上にセンタリングするために検出ユニット(2)の光路(1)中に平行平面の板(9)が予め配置されている。 - 特許庁
An imaging control unit composed of a TG 4, an AFE 5, a synchronizing control section 6 and a system control section 7 controls an imaging device 3 under a predetermined imaging condition, and picks up an observation image of a sample, formed on a light receiving surface of the imaging device 3, under a microscope.例文帳に追加
TG4、AFE5、同期信号生成部6、及びシステム制御部7で構成される撮像制御部は、所定の撮像条件の下で撮像素子3を制御して、撮像素子3の受光面に結像した標本の顕微鏡での観察像の画像を撮像させる。 - 特許庁
A two-dimensional area 5 on a substrate 3 and a two-dimensional area 6 on a tilt plane 4 are scanned by the probe of a scanning probe microscope to calculate the angle formed by the two 2 dimensional areas 5 and 6 in this measuring method of the tilt angle 2 of the tilt plane 4 formed on the substrate 3.例文帳に追加
基板3上に形成された傾斜面4の傾斜角2の計測手法において、基板3上の2次元領域5と傾斜面4上の2次元領域6とを走査プローブ顕微鏡のプローブにより走査し、2つの2次元領域5と6のなす角を算出する。 - 特許庁
Of the electron source used for an electron-optical equipment, such as, electron microscope and electron-beam lithographic apparatus, an electron-emitting section part consists of a surface-layer part and a base material part, of which the surface-layer part is of transition metal carbide, and the base material part is made of diamond single crystal.例文帳に追加
電子顕微鏡、電子ビーム描画装置等の電子光学機器に使用される電子源であって、電子放出部分は表層部と基材部からなり、該表層部は遷移金属炭化物であり、該基材部はダイヤモンド単結晶であることを特徴とする電子源により解決される。 - 特許庁
Otherwise, the foreign substance P is irradiated with an electron beam to deposit a solid material on the foreign substance P in a deposition gas atmosphere in which the solid material is generated by irradiation with the electron beam, and a force by the probe of an AFM (atomic force microscope) is applied to the solid material.例文帳に追加
又は、電子ビームが照射されることにより固体材料が生成されるデポジションガス雰囲気中において、異物Pに電子ビームを照射して異物P上に固体材料を堆積させ、この固体材料に対してAFMの探針により力を印加する。 - 特許庁
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