「model substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A ground pattern connecting terminal 19 and a ground pattern non-connecting terminal 21 are modeled as different ones, and equivalent heat conductivity between an electronic component body model 26 and a substrate model 24 is determined based on a connection area between the ground pattern connecting terminal 19 and the substrate 13 and a connection area between the ground pattern non-connecting terminal 21 and the substrate 13.例文帳に追加

グランドパターン接続端子１９とグランドパターン非接続端子２１とを、異なるものとしてモデル化し、グランドパターン接続端子１９および基板１３間の接続面積と、グランドパターン非接続端子２１および基板１３間の接続面積とに基づいて、電子部品本体モデル２６と基板モデル２４との間の等価熱伝導率を求める。 - 特許庁

To simply and quickly perform thermal analysis of a substrate by creating a proper model without depending on a specialist concerning the thermal analysis of the substrate mounting a heat generation component in regard to a thermal analysis modelling method and a thermal analysis modelling program for creating the model performing the thermal analysis of the substrate mounting the heat generation component.例文帳に追加

本発明は、発熱する部品を実装する基板の熱解析を行なうモデルを作成する熱解析モデリング方法および熱解析モデリングプログラムに関し、発熱部品を実装する基板の熱解析を専門家に依存することなく、適切なモデルを生成して簡易かつ迅速に基板の熱解析を行なうことを目的とする。 - 特許庁

To provide an in vitro model substrate of layer lipid with high structural homogeneity and easy to measure structural change of lipid and a method for evaluation of skin damage using in the substrate concerned.例文帳に追加

本発明は、構造上の均一性が高く、且つ脂質の構造変化を測定し易い、角層脂質のin vitroモデル基板及び当該基板を用いた肌荒れの評価方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an in vitro model substrate of horny layer lipid which has higher structural uniformity and also easily measures variation is structure of lipid, and an evaluation method of skin disorders using the above substrate.例文帳に追加

本発明は、構造上の均一性が高く、且つ脂質の構造変化を測定し易い、角層脂質のin vitroモデル基板及び当該基板を用いた肌荒れの評価方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An exposure mask 5 is arranged on one side of the substrate 1 on the opposite side to one side coated with the resist 2 during the exposure in the master model forming process.例文帳に追加

マスターモデル形成工程の露光時に光硬化型レジスト２を塗布した片面と反対側において前記基板１の片面に露光マスク５を配置する。 - 特許庁

In this method, first, a model of the coating chamber is formed which takes into consideration the changes of the chamber parameters caused by the movement of the substrate through the coating chamber.例文帳に追加

この方法の場合には、最初に、コーティング・チャンバを通る基板の移動によるチャンバ・パラメータの変化を考慮に入れるコーティング・チャンバのモデルが形成される。 - 特許庁

The aerial image produced can then be input to a photoresist model to yield a "resist-modeled image" that corresponds to an image pattern to be printed onto the substrate using the reticle.例文帳に追加

生成した空間像は、フォトレジストモデルに入力し、レチクルを使用して基板に印刷される画像パターンに対応する「レジストモデル化画像」を作成できる。 - 特許庁

To provide electronic equipment operating without trouble even in the case of inserting a board to a different model of electronic equipment by stopping or contracting a function of a substrate so as not to prevent the current consumed by the substrate from exceeding the value of a current feedable by a PSU.例文帳に追加

基板の消費電流がＰＳＵの供給可能な電流の値を超えないように基板の機能を停止または縮小し、異機種の電子機器にボードを挿しても不具合無く動作するようにする。 - 特許庁

The relationship can be estimated by using, for example, a linear approximation model which linearly approximates the relationship between the flow rate of the gas and the growth rate of the film on the above substrate.例文帳に追加

この推定は、例えばガスの流量と前記基板上での膜の成長速度との関係を線形的に近似した線形近似モデルを用いて行える。 - 特許庁

The capacitor 12 has capacitance large enough to relax the capacitance variation of a parasitic capacitance model of the thermistor 10 mounted on a substrate.例文帳に追加

このコンデンサ１２の容量値は、基板への実装状態によるサーミスタ１０の寄生容量モデルの容量の変動を緩和できる十分に大きな容量値に設定されている。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which includes a black matrix layer, a color pattern layer and an electrode layer and has an identified mark for identifying a manufacturer or a product model.例文帳に追加

ブラックマトリックス層、カラーパターン層および電極層を含み、製造業者または製品モデルを識別するための識別標識を有する、カラーフィルタ基板を提供する。 - 特許庁

The model of the substrate before mounting components thereon is photographed (S1) and land, silk printing pattern and wiring pattern are detected respectively to produce binary images (S2-S3).例文帳に追加

部品実装前の基板のモデルを撮像し（Ｓ１）、生成された画像からランド、シルク印刷パターン、配線パターンをそれぞれ個別に検出して２値画像を生成する（Ｓ２〜Ｓ３）。 - 特許庁

For the extracted circuit 1, approximation with a standard substrate model is performed and the coupling coefficient of a closest structure is obtained from the coupling coefficient data 22 of a library 2 (step S2).例文帳に追加

抽出した回路１について標準基板モデルと近似させ、ライブラリ２の結合係数データ２２から、最も近い構造の結合係数を得る（ステップＳ２）。 - 特許庁

The first cleaning mechanism 3 has a spray nozzle 31 of external hybrid model 2-fluid nozzle for injecting particulate of solid carbon dioxide toward the lower surface of the substrate 9.例文帳に追加

第１洗浄機構３は、基板９の下面に向けて固形の二酸化炭素の微粒子を噴出する外部混合型の２流体ノズルである噴射ノズル３１を備える。 - 特許庁

Determination whether the aberration of lens-heating exceeds the threshold value, is obtained by, for example, prediction using a lens-heating model or measurement of a previously exposed substrate.例文帳に追加

レンズ加熱収差が閾値を超えるかどうかについての判定は、例えばレンズ加熱モデルを使用する予測、または、先行して露光された基板の計測に基づき得る。 - 特許庁

In the master model wherein a tread pattern is formed to the surface of a model substrate and a large number of uneven parts are formed to the surfaces of the blocks or ribs of the tread pattern, a large number of uneven parts are provided by bonding a molding tape 3 having uneven parts to the surfaces of the blocks or ribs.例文帳に追加

モデル基材の表面にトレッドパターンを形成すると共に、該トレッドパターンのブロック又はリブの表面に多数の凹凸を形成したマスターモデルであり、前記多数の凹凸を該凹凸を有する成形テープ３を前記ブロック又はリブの表面に貼着する。 - 特許庁

The skin model can be obtained by using a sponge as tissue culture substrates composed of two kinds of polymers having bio-compatibility different at least in cross- linking degree, inoculating a fibroblast into one substrate having a higher cross- linking degree, culturing the fibroblast, piling the other substrate having a lower cross-linking degree on the substrate, inoculating a keratinized cell into the substrate and culturing the keratinized cell.例文帳に追加

かかる皮膚モデルは、少なくとも架橋度が異なる二種の生体親和性高分子からなるスポンジを組織培養用基材とし、一方の架橋度の高い基材上に繊維芽細胞を播種し培養した後、かかる基材上に他方の架橋度の低い基材を重ぬ、その上に角化細胞を播種し培養することによって得ることができる。 - 特許庁

An electrostatic charging suppression effect monitor includes: a liquid contacting means for bringing the cleaning liquid into contact with the model piece of the same material with the substrate to be cleaned; and an electrostatic potential measuring means for measuring the electrostatic potential of the model piece brought into contact with the cleaning liquid by the liquid contacting means.例文帳に追加

洗浄用液体を被洗浄基板と同材質のモデル片と接触させる液体接触手段と、該液体接触手段で洗浄用液体と接触しているモデル片の静電電位を測定する静電電位測定手段とを備えてなる帯電抑制効果監視モニター。 - 特許庁

A plurality of environmental conditions around a substrate to affect processing when a resist pattern is formed are extracted, function models using the above environmental conditions as parameters such as a line width model CD, a film thickness model T and the like are previously formed, and these models are stored in storages 64 and 65 respectively.例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす上記各処理における基板周囲の環境条件を複数抽出し、これらをパラメータとする関数モデル、例えば線幅モデルＣＤ、膜厚モデルＴ等を予め作成し、それぞれ格納部６４，６５に記憶しておく。 - 特許庁

The position control system includes a stiffness compensation model of the substrate support, which includes a relation between a difference in a change in a position of the target portion and a change in position of the sensor or sensor target, as a result of a force exerted on the substrate support.例文帳に追加

位置制御システムは、基板サポートの堅牢性補償モデルを含み、この堅牢性補償モデルは、基板サポートに加えられた力の結果としての、ターゲット部分の位置変化の差と、センサ又はセンサターゲットの位置変化との間の関係を含む。 - 特許庁

This preparation method includes a first step S1 for dividing the semiconductor substrate into a plurality of regions, a second step S2 for generating a second impedance net model for a specified, arbitrary region, and a third step S3 for connecting the second impedance net model obtained for the entire region by a specific second connection impedance element, and for generating an optimum impedance net model.例文帳に追加

半導体基板を複数の領域に分割する第１ステップＳ１と、指定された任意の前記領域について、第２インピーダンス網モデルを生成する第２ステップＳ２と、全ての領域について求めたこの第２インピーダンス網モデルを、所定の第２接続インピーダンス要素で接続して最適化インピーダンス網モデルを生成する第３ステップＳ３とを含み、構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a three-dimensional skin model includes: (1) a step for preparing an epidermis/dermis model wherein fibroblasts and keratinocytes are layered in succession from the bottom on a substrate; (2) a step for culturing precursor adipocytes and differentiating and/or propagating them to a desired degree; and (3) a step for placing the epidermis/dermis model on the adipocytes.例文帳に追加

本発明は、三次元皮膚モデルの製造方法であって、１）支持体上に、下から順に線維芽細胞、ケラチノサイトが積層された表皮・真皮モデルを準備する工程、２）前駆脂肪細胞を培養し所望の程度に分化及び／又は増殖させる工程、３）前記表皮・真皮モデルを前記脂肪細胞上に据える工程、を含んで成る方法、を提供する。 - 特許庁

The ratio (z) of received light and the theoretical reflectance are used to set model data on a reflection spectrum on the substrate with a hypothetical film thickness and compare it with the light reception data.例文帳に追加

さらにこの受光比率ｚと前記理論上の反射率とを用いて仮定の膜厚を有する基板についての反射スペクトルのモデルデータを設定し、前記受光データと比較する。 - 特許庁

This device has a substrate model read means 601, a Y-matrix entry means 602, an internal node/external node decision means 603, a matrix contracting means 604, and an output form determining means 605.例文帳に追加

サブストレートモデル読取手段６０１、Ｙ行列エントリー手段６０２、内部ノード／外部ノード判別手段６０３、行列縮約手段６０４、出力形態決定手段６０５を有する。 - 特許庁

A through hole is detected from the image of the reference substrate before mounting S1, and a partial image including the hole and a circumferential land is cut out and is registered as a model for inspecting soldering.例文帳に追加

実装前基準基板Ｓ１の画像からは、スルーホールが検出されて、このホールおよび周囲のランドを含む部分画像が切り出され、はんだ検査用モデルとして登録される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for processing many substrates one after another whereby the process quality control effectively adapted to a many-model and small-amount production can be performed.例文帳に追加

多数の基板を１枚づつ順次処理していく基板処理装置において、多品種少量生産に有効に対応するプロセス品質管理を行える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Concerning the motion analytic method for a medium contained in a substrate having fluidity, a medium 10 is composed of (n) pieces of spheres 11 less than a constitutive number N of a tight spherical model.例文帳に追加

流動性のある基質に含まれる媒体の運動解析方法であって、媒体１０を密球体モデルの構成個数Ｎより少ないｎ個の球体１１で構成する。 - 特許庁

To estimate with higher accuracy an arsenic concentration profile formed within a semiconductor substrate through high energy ion implantation using zero tilt angle by utilizing an analysis model (Dual-Pearson function).例文帳に追加

ゼロ度のチルト角を用いた高エネルギーイオン注入により半導体基板中に形成された砒素濃度プロファイルを解析モデル（Ｄｕａｌ−ピアソン関数）を用いて高精度に予測する。 - 特許庁

In the analysis model on which the reflow analysis has executed, a reflow analysis result determination unit 144 determines whether a distance between the substrate and components at a joint part is within a predetermined range.例文帳に追加

リフロー解析結果判定部１４４は，リフロー解析実行後の解析用モデルにおいて，接合部における基板と部品との距離が所定の範囲内であるかを判定する。 - 特許庁

LIVING BODY SURFACE STATE MODEL SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, SIMPLIFIED EVALUATION METHOD OF LIVING BODY SURFACE STATE USING SUBSTRATE, DAMAGED HAIR REFORMING EFFECT SCREENING METHOD, CATIONIC AGGREGATE ACQUIRED BY SCREENING METHOD, AND HAIR COSMETIC INCLUDING CATIONIC AGGREGATE例文帳に追加

生体表面状態モデル基板、その製造方法、該基板を用いた生体表面状態の簡易評価方法、損傷毛髪改質効果スクリーニング方法、該スクリーニング方法により得られたカチオン性会合体、および該カチオン性会合体を含有する毛髪化粧料 - 特許庁

Connection nodes between them are provided, in the horizontal direction on the ground wiring and located, in the vertical direction between the boundaries one by one, and they are connected to form an equivalent circuit model of the substrate to analyze.例文帳に追加

これらの間の接続ノードは，水平方向はグランド配線上に設け，垂直方向には境界間に1個づつ設け，接続を行い基板の等価回路モデルを作成し解析を行う。 - 特許庁

If the life time of the hot carrier of an MOS transistor are respectively represented by τ, its substrate current by Isub, its drain current by Id, and a fitting parameter by m, the life time of its hot carriers is estimated, based on the life time model with equation τ∝Isub-m.Idm-2.例文帳に追加

τを寿命、I_subを基板電流、I_dをドレイン電流、mをフィッティングパラメータとして、τ ∝ I_sub^-m・I_d^m-2 の特徴を持ったホットキャリア寿命モデルにより、ＭＯＳトランジスタのホットキャリア寿命を推定する。 - 特許庁

The IC 21 is a BGA type circuit arranged on the multi-layer substrate 5d, and equipped with a plurality of general-purpose ports including a port 21a for model discrimination connected to any of the plurality of wiring layers.例文帳に追加

ＩＣ２１は、多層基板５ｄ上に配置され、複数の配線層のいずれかに接続された機種判別用ポート２１ａを含む複数の汎用ポートを有するＢＧＡタイプの回路である。 - 特許庁

To provide an electromagnetic field simulator and an electromagnetic field simulation program capable of setting an incident light of uniform strength in a general analytical model in which light enters a substrate and reflects on it.例文帳に追加

基板に光が入射して反射する一般的な解析モデルについて、強度一様な入射光を設定する事が可能な電磁界シミュレータおよび電磁界シミュレートプログラムを提供すること。 - 特許庁

Model data, which shows a theoretical reflected spectrum when the reflected light from the surface of the substrate and the reflected light on the reverse face are received, is set from this calculated result to be compared with the received- light data.例文帳に追加

さらにこの算出結果から、基板表面からの反射光と裏面反射光とが受光された場合の理論上の反射スペクトルを示すモデルデータを設定し、前記受光データと比較する。 - 特許庁

To provide electronic equipment operating without any trouble even in case of inserting a board to a different model of electronic equipment by preventing the current consumed by a substrate from exceeding the value of a current feedable by a power supplying unit.例文帳に追加

基板の消費電流が電源供給ユニットの供給可能な電流の値を超えないようにし、異機種の電子機器にボードを挿しても不具合無く動作する電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining a composition of a compound semiconductor layer on a substrate whereby a thin film structure, a wavelength dependence of a permittivity and a composition ratio are accurately and correctly determined by setting a combination model of a film thickness, a complex index of refraction and the like and finitely repeating fitting the model to a measured spectrum while changing an angle of incidence.例文帳に追加

膜厚や複素屈折率などの組み合わせモデルを設定し、測定スペクトルとのフィッティングを、入射角度を変えて有限繰り返し行うことにより、薄膜構造および、誘電率の波長依存性、組成比を精度よく正確に決定する基板上の化合物半導体層の組成決定方法を提供する。 - 特許庁

In this simulation model of BT instability of a transistor, a bias condition of at least one terminal among the drain terminal, the source terminal and the substrate terminal of the transistor is set up as an independent bias condition from other terminals; and then a model parameter of the transistor is changed in the set bias condition.例文帳に追加

トランジスタのドレイン端子,ソース端子,および基板端子のうちの少なくとも１端子のバイアス条件を他の端子と独立したバイアス条件として設定したうえで、設定したバイアス条件において前記トランジスタのモデルパラメータを変化させてなる、半導体集積回路におけるトランジスタのＢＴ劣化のシミュレーションモデル。 - 特許庁

The extraction unit 1a extracts a scope 2d related to signal transmission by a pair of signal transmission circuit models 3a, 3b disposed on a layer 2a of a substrate model 2 having a plurality of layers 2a-2c, from a power source layer and a ground layer .例文帳に追加

抽出部１ａは、複数の層２ａ〜２ｃを有する基板モデル２の層２ａに配置される一対の信号伝送回路モデル３ａ、３ｂの信号伝送に関連する範囲２ｄを、電源層およびグランド層から抽出する。 - 特許庁

The sample, wherein on a substrate the dielectric film is formed, whose dielectric constant is not less than 50 on the basis of the electrical measurement, is measured by the ellipsometer, and a model according to the sample is created, based on an effective medium approximation (EMA).例文帳に追加

基板上に電気的な測定に基づいた誘電率が５０以上の誘電体膜を形成した試料をエリプソメータで測定すると共に、試料に応じたモデルを有効媒質近似（ＥＭＡ）に基づき作成する。 - 特許庁

A master model for optical waveguide plate manufacture is manufactured by cutting a recessed groove having the same cross-section shape with a desired optical waveguide pattern 2 on the surface of a substrate 1 which is made to be a processing surface by plating steel material, by the use of a cutting tool 3.例文帳に追加

光導波路板製造用マスタモデルは、鋼材にめっきを施して加工面とした基板１の表面に、所望の光導波路パターン２と同じ断面形状の凹溝を切削加工工具３を用いて製造される。 - 特許庁

By using actually measured data for which thresholds to a plurality of the MOS FETs of different gate lengths manufactured under the same process condition are actually measured and the analysis model of the threshold of the MOS FET, the impurity density distribution within the substrate of the channel surface of the MOS FET is calculated.例文帳に追加

同一プロセス条件で製造されたゲート長の異なる複数のMOS FET に対する閾値を実測した実測データとMOS FET の閾値の解析モデルを用いて、MOSFET のチヤネル表面の基板内不純物濃度分布を算出する。 - 特許庁

Since this substrate analysis device can analyze a wiring pattern using correction model data for canceling the difference between an electrical parameter when assuming that current may have flowed from the surrounding plane toward the via and an electrical parameter in a mesh model, the wiring pattern including the via can be properly analyzed even when using a mesh with a larger size in relation to the diameter of the via.例文帳に追加

基板解析装置は、周囲のプレーンからヴィアに向けて電流が流れたと仮定したときの電気的パラメータとメッシュのモデルにおける電気的パラメータとの差を打ち消すための補正モデルデータを用いて配線パターンを解析することができるので、ヴィアの直径に対してサイズの大きいメッシュを用いた場合であっても、ヴィアを含めた配線パターンを的確に解析することができる。 - 特許庁

In the film shape acquisition device 1, for an optical model of a silicon film formed on a substrate 9 having multiple texture convexities on a top surface, thin film concavities corresponding to the multiple texture convexities and thin film convexities located above the thin film concavities are set.例文帳に追加

膜形状取得装置１では、上面に複数のテクスチャ凸部を有する基板９上に形成されたシリコン膜の光学モデルにおいて、複数のテクスチャ凸部に一致する薄膜凹部およびその上方に位置する薄膜凸部が設定される。 - 特許庁

To provide a component mounting device equipped with a plurality of mounting lanes in which the model switching work incident to change of the substrate type can be carried out without stopping the operation of a mounting lane in the production, and without compromising the safety of an operator, and to provide a component mounting method.例文帳に追加

複数の実装レーンを備えた部品実装装置において、基板種の変更に伴う機種切替え作業を、生産中の実装レーンの稼働を停止させることなく、且つオペレータの安全を損なうことなく実行することが可能な部品実装装置および部品実装方法を提供する。 - 特許庁