「pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

Subsequently, the determination frame 406 stops at a stop pattern corresponding with a stop pattern command of a display command from a main control device, namely the fifth provisional stop pattern display area 404e and the provisional stop patterns "5", "5" and "5" are displayed enlarged as stop patterns.例文帳に追加

その後、決定枠４０６は、メイン制御装置からの表示コマンドの停止図柄コマンドに対応した停止図柄つまり第５の仮停止図柄表示領域４０４ｅで停止し、この仮停止図柄「５」「５」「５」が停止図柄となって拡大表示される。 - 特許庁

Such the constitution makes it possible for an inspector to accurately determine the inspection target area only by looking at the inspection pattern 13, and efficiently perform the quality determination of flaws and dents by referring to the flaw inspection pattern 13a and the dent inspection pattern 13b.例文帳に追加

検査者は、検査用パターン１３を見るだけで検査対象エリアを正確に特定することができ、また、傷検査用パターン１３ａと打痕検査用パターン１３ｂを参照することで、傷と打痕の良否判定を効率的に行うことができる。 - 特許庁

To provide a pattern correcting apparatus capable of correcting the pattern of a printing plate in such a manner that highly accurate positioning is made possible while avoiding an increase in the scale of the apparatus, for a printing plate relative to formation of a large area printing pattern.例文帳に追加

大面積の印刷パターン形成に関わる印刷版に対して、装置の大型化を回避しながら、高精度に位置合わせを行なうことが可能なように印刷版のパターン矯正を行なうことができる、パターン矯正装置を提供する。 - 特許庁

On such a substrate 1, the ground pattern 3 is ground away around the soldering portion 6 to form a slit 7 at which the ground pattern 3 is cut, and the outer conductor is soldered in the area surrounded with the slit 7 on the ground pattern 3.例文帳に追加

この基板１において、グランドパターン３がはんだ付け箇所６の周囲において削り取られてグランドパターン３が切断されるスリット７を形成し、外部導体がグランドパターン３上のスリット７で囲まれる領域ではんだ付けされる。 - 特許庁

Since a stop pattern does not match with a winning pattern (NO in S7) and matches with a compensation pattern (YES in S8), an extinction history information storage area 33a is referred to in S9, and whether or not extinction history information is stored is checked in S10.例文帳に追加

停止図柄は入賞図柄と一致せず（Ｓ７でＮＯ）補填図柄と一致するので（Ｓ８でＹＥＳ）、Ｓ９にて消滅履歴情報記憶エリア３３ａを参照し、Ｓ１０にて消滅履歴情報が記憶されているかをチェックする。 - 特許庁

The mask pattern include a resist pattern formed on a semiconductor device and a gel layer on a surface of the resist pattern having a zipper type junction area including hydrogen bonds between a proton donor polymer and a proton acceptor polymer.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたレジストパターンと、レジストパターンの表面上で陽子供与ポリマー及び陽子受容ポリマーが水素結合によって相互連結されたジッパー型の接合領域を持つゲル層と、を備える半導体素子製造用のマスクパターン。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which enhances productivity by forming a matched pattern in a desired pattern forming area, an identification-code forming method, a droplet ejector, a manufacturing method for an electro-optic device, and the electro-optic device.例文帳に追加

所望のパターン形成領域に整合したパターンを形成することによって生産性を向上したパターン形成方法、識別コード形成方法、液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

For the construction of this circuit board, a resist ink 4 is applied onto a conducting pattern 3 and onto the whole area of the board surface, whereon the conducting pattern 3 is in presence, and then a character printing ink 5 is applied to the locations on the resist ink 4, where it covers the edge sections 3a of the conducting pattern 3.例文帳に追加

導電パターン３およびその導電パターン３が存する板面の全域にレジストインキ４を塗布し、そのレジストインキ４上における導電パターン３のエッジ部３ａと対応する部位に文字印刷用インキ５を塗布する。 - 特許庁

By selecting a single operation pattern from among a plurality of kinds of operation patterns, and driving and controlling an operation area movement motor moving a guidance increase device operating area 38 by a selected operation pattern, the movement of the operating area 38 or a ball entry to the operating area 38 can be varied and a player's interest can be increased.例文帳に追加

複数種類の動作パターンのうちから抽選により１つの動作パターンを選択し、選択された動作パターンにより誘導増加装置作動領域３８を移動させる作動領域移動用モータを駆動制御することによって、作動領域３８の動きや作動領域３８への入球に従来にない変化を醸し出し、遊技者の興趣を向上させることができる。 - 特許庁

Inside a sensor area 151 of a substrate 101 in the surface shape recognizing sensor chip 100, a plurality of metallic patterns 104a and a grid- shaped metallic pattern 106a are formed, while a frame-shaped metallic pattern 106b surrounding the sensor area 151 is formed.例文帳に追加

表面形状認識用センサチップ１００の基板１０１のセンサ領域１５１内に、複数の金属パターン１０４ａと格子状の金属パターン１０６ａを形成するとともに、センサ領域１５１の周囲を囲う枠状の金属パターン１０６ｂを形成する。 - 特許庁

When the photomask 10 is used, it is shifted between two previously decided positions that a pattern from the area 16 can be transferred to a wafer at the first position and the pattern from the area 14 can be transferred at other position.例文帳に追加

使用においては、デュアルフォトマスクは、一つ目の位置では、ＢＩＮクロム領域からのパターンがウエハに転写されるのを可能にし、他の位置では、ＰＳＭクロム領域からのパターンが転写されるのを可能にする、２つのあらかじめ定められた位置の間でシフトされる。 - 特許庁

The color image forming apparatus includes a phase control means for changing the phase of a pattern image forming position for every rotating cycle of a rotating body 5, regarding the pattern image forming position between papers on the rotating body 5, that is, in a gap between an image processing area on a preceding page and an image processing area on a succeeding page.例文帳に追加

先行ページの画像処理エリアと後行ページの画像処理エリアとの間となる回転体５上の紙間におけるパターン画像の形成位置について、その位相を回転体５の回転周期毎に異ならせる位相制御手段を備える。 - 特許庁

This invention relates to the gray tone mask for manufacturing a thin film transistor substrate having a pattern comprising a light-shielding part, a translucent part and a semi-translucent part, the gray tone mask for forming a resist pattern in which a channel part-forming area of the thin film transistor substrate is thinner than a source drain forming area.例文帳に追加

遮光部、透光部及び半透光部からなるパターンを有する薄膜トランジスタ基板製造用グレートーンマスクであって、薄膜トランジスタ基板のチャネル部形成領域が、ソースドレイン形成領域より薄いレジストパターンを形成するためのグレートーンマスクである。 - 特許庁

The 2nd storage area comprises succeeding data in 1-byte, a 1st address, '0' when other pattern taken by a succeeding 1 byte does not exist, and an address in chain connection to other 2nd storage area storing data of other pattern when existing.例文帳に追加

第２の記憶領域は、後続する１バイトのデータと、第１のアドレスと、後続する１バイトの取り得る他のパターンが存在しない場合には０、存在する場合には、他のパターンのデータを記憶する他の第２の記憶領域とチェーン接続するためのアドレスで構成される。 - 特許庁

A gate insulating film 38 and a gate electrode 39 are formed on an upper silicon pattern 25a, and a source 36 and a drain area 37 and a channel area between them are formed on the upper silicon pattern 25a with the gate electrode 39 as a center.例文帳に追加

上部シリコンパターン２５ａ上にはゲート絶縁膜３８及びゲート電極３９が形成されており、ゲート電極３９を中心として上部シリコンパターン２５ａにはソース３６及びドレイン領域３７とその間のチャンネル領域が形成されている。 - 特許庁

A board 7 for forming an electric element opposed to the surface of the transfer substrate is moved by synchronizing with the movement of the transfer substrate 5, and the nanowire 3 is transferred on the pattern shape area 8 of the board 7 corresponding to the pattern shape area 6 of the transfer substrate 5.例文帳に追加

転写基材５の移動と同期して、転写基材の表面に対向させた電気素子形成のための基板７を移動させ、転写基材５のパターン状領域６に対応した基板７のパターン状領域８にナノワイヤ３を転写する。 - 特許庁

The game machine is constituted so as to select one operation pattern from among a plurality of kinds of operation patterns by drawing to drive-control a motor for moving an operation area for moving the operation area of an induction increasing apparatus of a special game device 36 by the selected operation pattern.例文帳に追加

複数種類の動作パターンのうちから抽選により１つの動作パターンを選択して、選択された動作パターンにより特別遊技装置３６の誘導増加装置作動領域を移動させる作業領域移動用モータを駆動制御する。 - 特許庁

A viewing-angle control area is formed of a plurality of viewing-angle controlling sub-pixels DC, and a pattern such as a checker pattern is displayed in the viewing-angle control area to lower the visibility of an image displayed by displaying sub-pixels in the wide-angle direction.例文帳に追加

複数の視野角制御用サブ画素ＤＣにより視野角制御領域が形成され、この視野角制御領域にチェッカーパターン等のパターンを表示することにより、表示用サブ画素で表示された画像の広角方向での視認性を低下させる。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the step of predicting flatness of polishing in the case of using a stopper film by using two parameters of a value of a pattern density in a first area representing a processing pressure, and a value of a pattern density in a second area representing a selection ratio.例文帳に追加

加工圧力を代表する第１の領域内のパターン密度の値と、選択比を代表する第２の領域内のパターン密度の値の２つのパラメータを用いることにより、ストッパ膜を用いる場合における研磨の平坦性予測を行う。 - 特許庁

By displaying the stored number of actuations in a predetermined index area D of a display screen of a pattern display device 6, it is possible to display the stored number of actuations in a display area of the pattern display device 6 which is gazed with the most interest by a player during a play.例文帳に追加

図柄表示装置６の表示画面の所定指標領域Ｄに始動記憶数を表示することにより、遊技者が遊技中に最も注視する図柄表示装置６の表示領域に始動記憶数を表出することが可能となる。 - 特許庁

The game machine comprises a pattern display area 23 provided within the center case 20 of a game board 10, a plurality of LEDs 21a to 21d aligned in a predetermined configuration near the pattern display area, and retention-indicating lamps formed of illuminated members 30 to 50 disposed on the front surfaces of the LEDs and each having a predetermined shape.例文帳に追加

遊技盤10のセンターケース20内に設けられた図柄表示領域23と、この近傍に所定形状に配列された複数のＬＥＤ21ａ〜21ｄおよびその前面に配設された所定形状の被照明部材30〜50よりなる保留ランプとにより構成される。 - 特許庁

An area for moving and displaying the character image 52 is turned to the left side more on the outer side than the display area of the center pattern 51b which is a final stop pattern and the direction of the moving display is from a back surface side to a front side and from the center to the left side.例文帳に追加

キャラクタ画像５２を移動表示させる領域は、最終停止図柄である中図柄５１ｂの表示領域よりも外側の左側に向いており、また、移動表示の方向は、背面側から手前側、中央から左側となっている。 - 特許庁

When the set data specified by the data of the set specifying area are new, while a user stores newly generated chord pattern data into an external memory, the data of the set specifying area are rewritten in 'self' and the pattern data and the set data are combined into a file and stored.例文帳に追加

ユーザが新規に作成したコードパターンデータを外部メモリに保存する場合、セット指定エリアのデータで指定されたセットデータが新規のものであれば、セット指定エリアのデータを「ｓｅｌｆ」に書き替えて、パターンデータとセットデータとを１ファイルにまとめて保存する。 - 特許庁

The imprinting method for transcribing an imprinting pattern formed on a mold on a pattern transcript on a substrate comprises contacting the pattern transcript with the imprinting pattern, extending a contact area of the imprinting pattern and the pattern transcript by applying a first pressure between the mold and the substrate, and controlling the positional relationship between the mold and the substrate by applying a second pressure lower than the first pressure.例文帳に追加

モールドが有するインプリントパターンを、基板上のパターン転写物に転写するインプリント方法において、 前記インプリントパターンと前記パターン転写物とを接触させ、 前記モールドと前記基板との間に、第１の圧力をかけて、前記インプリントパターンと前記パターン転写物との接触面積を広げ、前記第１の圧力よりも低い第２の圧力で、前記モールドと前記基板との位置関係を調節する。 - 特許庁

Time and effort of input are saved by assuming a large rectangle area including all the cells for conversion and a small rectangle area including a cell group which becomes a repetition pattern in the large rectangle area and specifying cell groups of the large rectangle area and the small rectangle area as arguments of a two-dimensional bar code conversion function on a table input/output picture of the spreadsheet system.例文帳に追加

表計算システムの表入出力画面上で変換対象となるセルを全て含む大矩形領域と大矩形領域内で繰り返しパターンになるセル群を包含する小矩形領域を想定し、大矩形領域と小矩形領域のセル群を２次元バーコード変換関数の引数に指定することにより入力の手間を省く。 - 特許庁

A pattern for defining the first area electrically connected to the first probe via the plated coating, and the second area electrically connected to the second probe via the plated coating and separated electrically from the first area is formed by partially removing the plated coating on the first face and the second face, and electrodes of electronic components are connected to the first area and the second area.例文帳に追加

メッキ被膜を介して第1プローブと導通する第1領域と、メッキ被膜を介して第2プローブと導通し、第1領域と電気的に隔てられた第2領域と、に画定するパターンは、第1面及び第2面のメッキ被膜を部分的に除去することにより形成され、電子部品の電極が第1領域及び第2領域と接続される。 - 特許庁

Further, on the second glass plate 2, the common electrode wiring 5_c which is part of the common electrode pattern 5 is formed in a space between the segment electrode wirings 4_b(segment electrode pattern 4 in the area 32) which are a part of the segment electrode pattern 4 disposed without overlapping the common electrode pattern 5.例文帳に追加

また、第２のガラス基板２には、セグメント電極パターン４のうちコモン電極パターン５と重ならないように配置される部分であるセグメント電極引き廻し配線４_ｂ（領域３２内のセグメント電極パターン４）間の隙間領域に、コモン電極パターン５の一部であるコモン電極引き廻しダミー配線５_ｃが形成されている。 - 特許庁

The control section of this electronic equipment 10 makes the analyzing section analyze whether a comparison voice pattern is included in an inputted voice signal or not, takes out an appropriate response voice pattern from the response voice pattern storing area 34 based on the result, and makes the voice output section output the response voice pattern.例文帳に追加

この電子機器１０の制御部は、入力された音声信号に比較音声パターンが含まれているか否かを解析部によって解析させ、その結果に基づいて応答音声パターン記憶エリア３４から適切な応答音声パターンを取り出し、その応答音声パターンを音声出力部によって出力させる。 - 特許庁

Then, by using the photomask, which has a plurality of patterns for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area, on the principal surface of a semiconductor wafer, it has the process which transfers the prescribed pattern and let the size of the pattern for the measurement be a size which is lower than the resolution limit and moreover detectable.例文帳に追加

また、パターン形成領域内にパターンの配置位置を測定する測定用パターンを複数配置したフォトマスクを用いて半導体ウエハの主面上に所定のパターンを転写する工程を有し、前記測定用パターンの寸法を、解像限界以下で、かつ、検出可能な寸法とするものである。 - 特許庁

When the character pattern 'HAND MADE' in a pattern magnifying display area 75 is touched and, then, the display windows 117 are selectively touched in the case of the configuration, the display color of the character pattern is changed into the color corresponding to the touch contents of each display window 117 so that the sewing state of the character pattern is previously confirmed.例文帳に追加

この構成の場合、模様拡大表示領域７５内の文字模様「ＨＡＮＤ ＭＡＤＥ」をタッチした後に複数の表示窓１１７を選択的にタッチすると、文字模様の表示色が表示窓１１７のタッチ内容に応じた色彩に換わるので、文字模様の縫い上り状態を事前に確認できる。 - 特許庁

At the time of position detection for detecting the projected image of the first reticle pattern RP1 through the first sensor pattern, light quantity change within a region whose area is fixed in the projected image of the second reticle pattern RP1 is monitored through the second sensor pattern, and the result of the position detection is specified based on the monitored result.例文帳に追加

前記第１レチクルパターンＲＰ１の投影像を前記第１センサパターンを介して検出する位置検出時には、前記第２センサパターンを介して前記第２レチクルパターンＲＰ１の投影像における一定面積の領域内の光量変化を監視し、その監視結果に基づいて前記位置検出の結果を規格化する。 - 特許庁

A threshold is determined based on the extraction position of a collation pattern extracted from a reduced image and the size of the collation pattern (S109), and when the collation pattern is determined to be a face (S106), and the determined threshold is larger than a predetermined value, the collation pattern is determined to be a face area (S110).例文帳に追加

縮小画像から抽出した照合パターンの抽出位置と、この照合パターンのサイズとに基づいて閾値を求め（Ｓ１０９）、照合パターンが顔であると判断し（Ｓ１０６）、且つ求めた閾値が所定の値よりも大きい場合に、この照合パターンが顔の領域であると判断する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

A radio base station 10 transmits an output data pattern corresponding to output power, and if a portable terminal 20 receives the output data pattern and returns a return data pattern to the radio base station 10 side, the radio base station 10 specifies a radio receiving area corresponding to the output power from the return data pattern.例文帳に追加

無線基地局１０により、出力パワーに応じた出力データパターンが送信され、携帯端末２０により、出力データパターンが受取られ、返信データパターンが無線基地局１０側に返信されると、無線基地局１０は、返信データパターンから出力パワーに応じた無線受信エリアの特定を行うようにする。 - 特許庁

A first beam deflection device (43, 67 and 78) moves the scanning area (31, 33) to the interested area (27, 29), and a second beam deflection device (49, 72 and 94) works as scanning in a form of bent pattern in the scanning area (31, 33).例文帳に追加

第１のビーム偏向装置（４３，６７，７８）が、関心のある領域（２７，２９）に走査領域（３１，３３）を移動し、第２のビーム偏向装置（４９，７２，９４）は、走査領域（３１，３３）の内部で曲折模様形状の走査を行うように作用する。 - 特許庁

Regarding a code pattern image having an image structure 1, dots D are formed on the surface of the recording paper, and transparent toner images TF are formed in a dot formation area where the dots D are formed and in a surrounding area contacting with the dot formation area on the surface of the recording paper.例文帳に追加

画像構造１のコードパターン画像において、記録用紙の表面にドットＤが形成され、記録用紙の表面においてドットＤが形成される領域と接する周囲の領域に透明トナー像ＴＦが形成される。 - 特許庁

Thus, the contact plug can be formed without using a diffusion layer contact pattern, and also, since the fringe of the contact plug substantially coincides with a boundary between the element isolation area and the active area, the active area can be reduced.例文帳に追加

これにより、拡散層コンタクトパターンを用いることなく、コンタクトプラグを形成できるとともに、コンタクトプラグの周縁が素子分離領域と活性領域の境界と実質的に一致することから、活性領域を縮小することが可能となる。 - 特許庁

Prior to the cache processing, the CPU 2 controls an area size of a storage area 701 for one character in the cache pattern storage area 7b according to attribute information, such as a character size and types of languages, which is a reference for characters of display targets.例文帳に追加

また、ＣＰＵ２は、キャッシュ処理に先立ち、キャッシュパターン格納エリア７ｂにおける一文字分の格納エリア７０１の領域サイズを、表示対象の文字における基準となる文字サイズ、及び言語の種類等の属性情報に応じて制御する。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank for obtaining uniformity of desired film thickness in a plane of a resist film (≤100 Å) in a prescribed critical area, even when the critical area (substantial pattern forming area) for uniformity of film thickness in a plane of a resist film is enlarged.例文帳に追加

レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To automatically track an area of interest even in an image in which an area of interest does not coincide with movements of the image such as an ophthalmic operation image, or an object in the area of interest changes in shape or pattern, or color changes owing to bleeding.例文帳に追加

眼科手術映像のような、注目領域が画像の動きと一致せず、また注目領域内の物体の形状や模様が変形したり、出血などにより色が変化したりする映像に対しても注目領域を自動的に追尾する。 - 特許庁

Fine particles 5 are selectively arranged solely in an exposed area 3 or an unexposed area 4 by laminating the photosensitive silane coupling agent on the surface of a base board 1, exposing the photosensitive silane coupling agent layer 2 in a pattern-like form and generating carboxyl groups in the exposed area 3.例文帳に追加

基板１の表面に感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行い、露光部３にカルボキシル基を発生させ、露光部３または未露光部４のみに選択的に微粒子５を配する。 - 特許庁

For imaging information from the camera 1, correlation values between density values of each of the pixels and density values of the marker pattern are calculated as to horizontal segments in a search area and an area having large correlation is extracted as a lane marker area (steps S2 to S6).例文帳に追加

カメラ１からの撮像情報に対し、探索領域内の水平方向線分について、その各画素の濃度値とマーカパターンの各濃度値との相関値を算出し、相関が強い領域をレーンマーカ領域として抽出する（ステップＳ２〜Ｓ６）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank for obtaining uniformity of desired film thickness in a plane of a resist film (≤100Å) in a predetermined critical area, even when the critical area (substantial pattern forming area) for uniformity of film thickness in a plane of a resist film is enlarged.例文帳に追加

レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, on the valid line L including the valid line L2, the pattern combination composed of the pattern '7' displayed in the display area H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.例文帳に追加

また、有効ラインＬ２を含む有効ラインＬでは、表示領域Ｈ１に表示された図柄「７」と表示領域Ｈ２，Ｈ３に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁

Because a dot pattern printed on the version-recognition area is different for each version of the form, the version recognition device recognizes the version of the form by using the pattern.例文帳に追加

バージョン認識用エリアに印刷されたドットパターンは、電子ペン用帳票のバージョン毎に異なるものであるので、バージョン認識装置は、これを利用して電子ペン用帳票のバージョンを認識する。 - 特許庁

A display screen in the center of a game area is provided with a special pattern display part L1 notifying a big win determination result, and demonstration pattern display parts D1-D3 attracting the player's attention more than that.例文帳に追加

遊技領域中央の表示画面には、大当たり判定の結果を報知する特別図柄表示部Ｌ１と、それよりも遊技者の目を惹くデモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３が設けられている。 - 特許庁