「pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

In the thermal transfer printer, before a thermal head 10 transfers the ink composition in a yellow area 31 to a recording sheet, the thermal head 10 is pre-heated up to the transfer temperature, and the ink composition of black which constitutes a mark pattern 35 is sublimated at the time of the pre-heating the thermal head to record given used information 41 on the mark pattern 35.例文帳に追加

サーマルヘッド１０がイエロー領域３１のインク成分を記録紙に転写する前に、その転写温度までサーマルヘッド１０を予熱し、その予熱の際にマークパターン３５を構成するブラックのインク成分を昇華させることにより、マークパターン３５に所定の使用済み情報４１を記録させる。 - 特許庁

This air conditioning control device 30 controlling air conditioners 10a-10i disposed in the air conditioning target space RM, and eliminating the uneven air conditioning in the air conditioning target space, includes a wind direction pattern storing area 35c, a first operation processing section 36c, and a wind direction pattern determining section 36f.例文帳に追加

本発明に係る空調制御装置３０は、空調対象空間ＲＭに設置された空調機１０ａ−１０ｉを制御し、空調対象空間における空調ムラを解消させる空調制御装置であって、風向パターン記憶領域３５ｃと、第１運転処理部３６ｃと、風向パターン決定部３６ｆとを備える。 - 特許庁

An integrated control CPU prevents an advance notice performance to be continuously carried out throughout a plurality of pattern variation games from being carried out when a special mode in which the pattern variation games are respectively displayed in each of the display areas obtained by dividing the display area of an image display section into the display areas.例文帳に追加

統括制御用ＣＰＵは、画像表示部の表示領域を複数に分割した各表示領域においてそれぞれ図柄変動ゲームを表示させる特別モードが設定されている場合には、複数の図柄変動ゲームに亘って連続的に実行される予告演出を実行させないようにした。 - 特許庁

The manufacturing method of a letterpress for printing used for a letterpress printing method comprises: a process to form a convex pattern of a photocurable photopolymer on a substrate of a letterpress material; and a process to form at least one or more layers having a photocatalytic function on the whole area of the photopolymer after the convex pattern is formed.例文帳に追加

凸版印刷法に用いられる印刷用凸版の製造方法であって、版材基材上に光硬化性の感光性樹脂の凸パターンを形成する工程と、前記凸パターン形成後の前記感光性樹脂上の全面に光触媒機能を有する層を少なくとも1層以上形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The output value of a light receiving element obtained by irradiation with light when a reflection object is not in the detection area of the optical sensor, is deducted from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected, to remove a crosstalk voltage component from the output voltage of the optical sensor when the toner patches of the gradation pattern are detected.例文帳に追加

階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、光学センサの検知領域に反射物がないときに、光を照射して得られた受光素子の出力値を差し引き、階調パターンのトナーパッチを検知したときの光学センサの出力電圧から、クロストーク電圧成分を除去する。 - 特許庁

To obtain a high quality fixed image by continuously supplying a lubricant to a sliding part, concerning a pressure-fixing device which applies pressure on a recording medium, by making the recording medium carrying an unfixed toner pattern pass through a predetermined nip area, and thereby pressure-fixes the unfixed toner pattern onto the recording medium.例文帳に追加

未定着トナー像を担持した記録媒体を所定のニップ領域を通過させることによりその記録媒体に圧力を加えその未定着トナー像をその記録媒体に加圧定着する加圧定着装置に関し、摺動部分に連続的に潤滑剤を供給することで高画質な定着画像を得る。 - 特許庁

By executing a program PG1 for correcting the uneven display in a computer, an uneven display correction system 100 displays a reference image AA as a test pattern PT in the display area of the CRT 105, photographs the displayed test pattern PT with the digital camera 1, and acquires a photographed image CC.例文帳に追加

この表示ムラ補正システム１００は、表示ムラ補正用のプログラムＰＧ１をコンピュータにおいて実行することによって、ＣＲＴ１０５の表示領域においてテストパターンＰＴとしての基準画像ＡＡを表示させ、表示されたテストパターンＰＴをデジタルカメラ１によって撮影して撮影画像ＣＣを取得する。 - 特許庁

In a reference pattern extraction method, a reference pattern having a unique signal feature is extracted in a region to be measured having an area that is smaller than that of a prescribed region optionally set into the prescribed region on an object having a plurality of prescribed regions where essentially identical machining is made.例文帳に追加

実質的に同一の加工が施された複数の所定領域を有する物体上の該所定領域内に任意に設定される該所定領域よりも小さい面積を有する被計測領域内でユニークな信号特徴を有する基準パターンを抽出する基準パターン抽出方法である。 - 特許庁

In a shield type magnetoresistance effect element using a tunnel joined element consisting essentially of a free layer 6, a barrier layer 5 and a fixed layer 4 as a magnetoresistance effect element, the uppermost and lowest layers of the tunnel joined element are made different from each other in pattern shape and the pattern area of the uppermost layer is made smaller.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子としてフリー層／バリア層／固定層を基本構成とするトンネル接合素子を用いたシールド型磁気抵抗効果素子において、トンネル接合素子を構成する層のうち最上層と最下層とでパターン形状が異なり、そのパターンの面積が最上層の方が小さいようにする。 - 特許庁

Thereafter, operation order comparing processing is carried out (S55); and when the drawn operation order coincides with the operation order operated by the player (S56), a pattern "VVV" is stationarily displayed in an identification pattern display area 10b, to open the impeller members 14a and 14b of a normal electric role object 14.例文帳に追加

その後、操作順序比較処理を行ない（Ｓ５５）、抽選による操作順序と遊技者により操作された操作順序とが一致していると（Ｓ５６）、識別図柄表示領域１０ｂに図柄“ＶＶＶ”が停止表示され、普通電動役物１４の羽根部材１４ａ，１４ｂが開状態になる。 - 特許庁

The illuminating device IL is provided with: an illuminating optical unit 10 having a plurality of illuminating optical systems 11, wherein a plurality of illuminating areas are formed on the pattern face Ma of the mask M; and an illuminating area position detecting unit 20 to detect the positions of the illuminating areas formed on the pattern face Ma.例文帳に追加

照明装置ＩＬは、複数の照明光学系１１を有し、マスクＭのパターン面Ｍａ上に複数の照明領域を形成する照明光学ユニット１０と、パターン面Ｍａに形成される複数の照明領域の位置を検出する照明領域位置検出ユニット２０とを備える。 - 特許庁

The variation pattern determination means 115 stores information indicating the kind of the limitation pattern selection reference and information indicating the temporal position of the symbol variation into a nonvolatile storage area, and notifies the information to the performance determination means 132 after the power supply restoration when the power supply to the game machine stops in the limitation period.例文帳に追加

変動パターン決定手段１１５は、限定パターン選択基準の種類を示す情報と図柄変動の時間的位置を示す情報とを不揮発の記憶領域へ格納し、限定期間において遊技機への給電が停止した場合、給電の復旧後にそれらの情報を演出決定手段１３２へ通知する。 - 特許庁

The reproducing apparatus is provided with two decoders, each of which respectively generates a target pattern corresponding to a target reproduction frame, compares a present buffer state with the target pattern, extracts a picture needing new decoding to start its input, extracts unnecessary frames, and writes a newly decoded frame to an area of the unnecessary frames in a buffer.例文帳に追加

２個のデコーダを設け、それぞれ、目標再生フレームに対応する目標パターンを作成し、現在のバッファ状態と目標パターンとを比較し、新規にデコードが必要なピクチャを抽出して入力を開始すると共に、不要なフレームを抽出し、新たにデコードされたフレームをバッファの不要フレームの領域に書き込む。 - 特許庁

When the timing of performing a first correcting operation and the timing of performing a second correcting operation overlap each other, and an image pattern for the first correcting operation and an image pattern for the second correcting operation have such a relationship not to overlap in a forming position of an intermediate transfer belt 50, both image patterns are formed on the same non-image area.例文帳に追加

第１の補正動作の実行タイミングと第２の補正動作の実行タイミングが重なり、第１の補正動作用の画像パターンと第２の補正動作用の画像パターンが、中間転写ベルト５０に形成される位置において重ならない関係にある場合、両画像パターンを同一の非画像領域に形成する。 - 特許庁

A flexible printed circuit board 243 to supply various electric signals or power in order to control operations of a pickup 242 is formed in stacking structure that a detected part 243C is printed, formed with the same material as that of a conductive pattern 243B in a predetermined area with the conductive pattern 243B and held by a synthetic resin sheet 243A.例文帳に追加

ピックアップ２４２を動作制御するために各種電気信号や電力を供給するためのフレキシブルプリント基板２４３を、導電パターン２４３Ｂと同材質で導電パターン２４３Ｂとともに所定の領域に被検出部２４３Ｃを印刷形成し、合成樹脂シート２４３Ａにて挾持する積層構造に形成する。 - 特許庁

The device and manufacturing method of the device, wherein a first conductive layer contacting a semiconductor area is formed, an insulating layer is formed on the first conductive layer in a coating process, a mask pattern is formed by radiating a laser beam to a part of the insulating layer, etching is performed with the mask pattern as a mask to form a divided first conductive layer.例文帳に追加

本発明は、半導体領域に接する第１の導電層を形成し、第１の導電層上に絶縁層を塗布法により形成し、絶縁層の一部にレーザ光を照射してマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをマスクとしてエッチングして、分割された第１の導電層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

This detector is equipped with at least one magnetic response section arranged on the surface of piston rod, in a certain pattern which has a segment with its area being gradually increased or decreased along the direction of linear stroke displacement in the piston rod, and coils fixed on the side of cylinder body to be provided depending on each pattern of the above magnetic response section.例文帳に追加

ピストンロッドの表面において、該ピストンロッドの直線的ストローク変位の方向に沿って面積が漸増又は漸減する区間を有する所定のパターンで配置された少なくとも１つの磁気応答部と、シリンダ本体の側に固定され、前記磁気応答部のパターンの夫々に対応して設けられたコイルとを具備する。 - 特許庁

The recording area (BCA) in which information is recorded by a reflection pattern is provided, in which the barcode-shaped reflection pattern is formed by forming high reflectance areas and low reflectance areas which alternately appear seen in a track line direction in a state where the high reflectance areas and the low reflectance areas respectively continue in a track pitch direction.例文帳に追加

トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域（ＢＣＡ）を備える。 - 特許庁

Therefore, since it can be detected which exposure pattern in every area is irradiated because the exposure amount is changed in every exposure pattern, the spatial code which is input to be divided into a plurality of times can be input by one time, and the reduction of the image input time can be contrived.例文帳に追加

これにより、各露光パターン毎の露光量が変化することから各領域毎にどの露光パターンが照射されたかを検出することができるようになるので、従来複数回に分けて入力していた空間コードを１回で入力することができ、画像入力時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁

The same material as that of electrode patterns 2, which are wired in a region on which a bare IC is to be mounted, is used as material of the pattern 4, so that the height of the pattern 4 is made identical to that of the electrode patterns 2, contact area between a substrate 1 and the anisotropic conducting film 3 is enlarged, and bonding strength is increased.例文帳に追加

また、接着用パターン４の材料としては、ベアーＩＣが実装される領域の配線されている電極パターン２の材料と同一材料を用いることにより、電極パターン２と同じ高さにし、基板１と異方性導電膜３との接触面積を拡大し、接着強度を強化する。 - 特許庁

Prior switching is applied to the switching section 63 to 53 of the non-selection system at a prescribed period corresponding to the normality confirmation pattern area of data 33, 43 of each system, normality confirmation sections 65, 55 confirm the normality confirmation pattern of the non-selection system, and discriminate the switching of the switching sections 53, 63 on the basis of the normality confirmation result.例文帳に追加

各系のデータ３３、４３の正常性確認パタン領域に対応する一定周期で非選択系の切替部６３又は５３に対し事前切替を実施し、非選択系の正常性確認パタンを正常性確認部６５、５５で確認し、正常性の確認結果で切替部５３、６３の切替判断を行う。 - 特許庁

To provide a sample image length measurement method by which the measurement area can be set by easily, quickly and surely performing matching of a plurality of standard images and the sample image even when the obtained sample images are various on the basis of a pattern forming condition of a pattern forming device such as a stepper.例文帳に追加

例えばステッパーのようなパターン形成装置のパターン形成条件により、得られる試料像にばらつきがある場合であっても、簡便、迅速、かつ、確実に、複数の基準画像と試料像のパターンとのマッチングを行うことにより測定領域を設定することのできる試料像測長方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor device has the solder bump 20 formed on a substrate 10, and the composition measurement pattern 30 formed on the substrate 10 for measuring the composition of the solder bump 20, the composition measurement pattern 30 having the same volume with the solder bump 20 and larger surface area than the solder bump 20.例文帳に追加

基板１０に形成されたはんだバンプ２０と、前記基板１０に形成されていて前記はんだバンプ１０の組成を測定するための組成測定パターン３０を有し、 前記組成測定パターン３０は、前記はんだバンプ２０と同体積を有し、前記はんだバンプ２０の表面積よりも大きい表面積を有する。 - 特許庁

A line 95a perpendicular to the moving direction of a carrying belt and a line 95b inclined by +45° are set as the color slurring measuring pattern for each color, and a parallelogram diamond having a side perpendicular to the carrying direction and a side inclined by +45°, which have equal length, is set as the pattern detection area 92 of the sensor.例文帳に追加

各色の色ずれ測定用パターンを、搬送ベルトの移動方向に垂直の直線９５ａと＋４５゜傾斜した直線９５ｂとし、センサーのパターン検出領域９２を、搬送方向に垂直の辺と＋４５゜傾斜した辺を有し、各辺が同じ大きさの平行四辺形の菱形とした。 - 特許庁

Then, a detection unit 108 detects a detection object based on a total feature amount concerning each composition pattern of the first cross area pattern group that is calculated by a feature amount calculation unit 107, and a strong discriminator which is stored by a discriminator storage unit 112 and is composed of a plurality of weak discriminator.例文帳に追加

そして、検出部１０８が、特徴量算出部１０７によって算出される、第１の交差領域パターングループの各構成パターンに関する総合特徴量と、識別器記憶部１１２に記憶されている、複数の弱識別器から構成される強識別器とに基づいて、検出対象を検出する。 - 特許庁

In the objective exposure system in which a substrate 4, e.g. for producing a working reticle is exposed through a master reticle with a formed pattern, the substrate 4 is provided with three first supporting members 52 which support the substrate 4 in a nearly horizontal state in three places except the illumination areas (pattern area 25, alignment mark areas MA1 and information mark areas MA2) of the substrate 4.例文帳に追加

パターンが形成されたマスターレチクルを介して、例えばワーキングレチクル製造用の基板４を露光する露光装置において、基板４を該基板４の照明エリア（パターンエリア２５，アライメントマークエリアＭＡ１，情報マークエリアＭＡ２）以外の３箇所でほぼ水平に支持する３本の第１支持部材５２を備えて構成される。 - 特許庁

A mask pattern 11a obtained by performing a photo-processing of a resist film is formed on a substrate 1, and then, a metal mask 20 having an opening part 22 formed slightly larger than a deposition area on the substrate is arranged on the mask pattern, then, for example, optical interference filters 2 and 2a are formed by introducing a vapor-deposition method and a sputtering method, etc.例文帳に追加

基板１上に、たとえばレジスト膜のフォトプロセスによって形成されたマスクパターン１１ａを形成し、その上に基板上の成膜領域よりも僅かに大きく形成された開口部２２を有するメタルマスク２０を配置して、たとえば蒸着法やスパッタリング法などによって光干渉フィルタ２、２ａを形成する。 - 特許庁

Pattern light is irradiated to a curved surface bent by press working of sheet metal (102), and a reflected image of the pattern light is converted into a power spectrum, through the use of a two-dimensional FFT (102-103) to extract coordinates of each peak value in the row direction and in the column direction of its low-frequency area by row units and by column units (105).例文帳に追加

プレス加工により曲げ加工された曲面にパターン光を照射し（１０２）、そのパターン光の反射像を２次元ＦＦＴを用いてパワースペクトルに変換し（１０２〜１０３）、その低周波数域の行方向と列方向の各ピーク値の座標を行単位、列単位で抽出する（１０５）。 - 特許庁

To enable to secure sufficient brightness at the portion near the lower part of a cut-off line in the right and left diffusion area of a low-beam light distribution pattern, even when a light source is arranged at the position separated from an optical axis downward in a vehicle headlamp of projection type constituted so as to form the low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、光源が光軸から下方に離れた位置に配置されている場合であっても、ロービーム用配光パターンの左右拡散領域におけるカットオフラインの下方近傍部分の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁

In accordance with a bit shift quantity outputted from a pattern judging block 10 and data S16 to S18, the average of the image data of the object boundary pixel positioned in one direction or image data of the object boundary pixel positioned in both of the directions is written as image data in an image area excepting for an object in a pattern in the memory.例文帳に追加

パターン判定ブロック１０が出力するビットシフト量と、Ｓ１６乃至Ｓ１８のデータとに応じて、一方向に位置するオブジェクト境界画素の画像データまたは両方向に位置するオブジェクト境界画素の画像データの平均値を、メモリにおけるパターン内のオブジェクト外の画像領域に画像データとして書き込む。 - 特許庁

When a prepaid card is set, a reader device 1 reads speed control information indicating a speed characteristic pattern from the speed control information area of a first recording track in which fixed information is recorded, controls the read speed based on the speed characteristic pattern indicated by this information, and reads the variable information of the second recording track.例文帳に追加

読書装置１は、プリペイドカードがセットされると、固定情報が記録されている第１の記録トラックの速度制御情報領域から速度特性パターンを示す速度制御情報を読み取り、この情報の示す速度特性パターンに基づき読み取り速度を制御して、第２の記録トラックの可変情報を読み取る。 - 特許庁

Additionally, the pattern A15 for the first determination is printed by printing the primer B by discharging the black ink to the right side area of the pattern A14 for the second determination and then printing a plurality of white straight lines L15 on the primer B by discharging the white ink onto the primer B.例文帳に追加

これとともに、第２判定用パターンＡ１４の右側の領域にブラックのインクを吐出することにより下地Ｂを印刷し、続いて、下地Ｂの上に、ホワイトのインクを吐出することにより下地Ｂの上に複数のホワイトの直線Ｌ１５を印刷することで、第１判定用パターンＡ１５を印刷する。 - 特許庁

This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.例文帳に追加

この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンＡが外側に透明パターンＢが形成されたフォトマスク７を用い、基板１の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁

To provide an efficient processing method and its device that realize uniform processing without bluntness of the pattern border area and can perform plural pattern processing at the same time in implementing deposition processing or etching processing of prescribed patterns using the focusing ion beam device.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、パターン境界領域の鈍りが出ない均一な加工を実現し、複数のパターン加工を同時に実行出来る効率的な加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

Utilizing coordinates of each of a plurality of characteristic points extracted from the objective captured image acquired by imaging the object and the model characteristic area image group 4 within the standard model, a deviation value indicating a deviation between the standard pattern and an objective pattern is calculated to align the object.例文帳に追加

対象物を撮像して取得した対象撮像画像から抽出された複数の特徴点それぞれの座標と、基準モデル内のモデル特徴箇所画像群４とを利用して、基準パターンと対象パターンのずれを表すずれ量を算出して対象物に関する位置合わせ処理を行うことが可能である。 - 特許庁

The sequence patterns of a semi-normal operation or a rare-case operation which are learned in the past but re-encountered are detected through a re-encounter pattern detection unit 1-5 on the basis of the ratio of the calls of each sequence to the total calls of all the sequence patterns, and the sequence information is stored in a re-encounter sequence pattern storing area 1-7.例文帳に追加

再遭遇パターン検出部１−５は、学習済みであるが、再度遭遇した準正常又はレアケースのシーケンスパターンを、シーケンスパターン毎の呼数の全シーケンスパターンの総呼数に対する割合を基に検出し、そのシーケンス情報を再遭遇シーケンスパターン保存エリア１−７に保存する。 - 特許庁

In this optical head device, the flexible printed wiring board 70 has a conductive pattern 708 formed thereon and not used for signal transmission and is in elastic contact with the top surface 60 of the driving IC 6 and also with a main cover 80 at an area where the conductive pattern 708 is formed.例文帳に追加

光ヘッド装置では、フレキシブル配線基板７０に、信号伝達に用いられない導電パターン７０８が形成されているとともに、この導電パターン７０８が形成されている領域が駆動用ＩＣ６の上面６０に弾性をもって当接し、かつ、本体カバー８０に弾性をもって当接している。 - 特許庁

A special picture of a variable display game is set so that a plurality of colors are circulated in a preset order, and when the ready-to-win occurs, an advance notice for the ready-to-win is given by displaying the special pictures having the same color in the display positions (left pattern and right pattern) on the same straight line within a display area.例文帳に追加

変動表示ゲームの特図は、予め設定した順序で複数の色彩が循環するように設定されており、リーチが発生する場合には、表示領域内の同一直線上の表示位置（左図柄と右図柄）で、同一の色彩を持つ特図を表示することでリーチの予告を行う。 - 特許庁

The game machine with a variable display displaying plural pattern display parts by arranging them in a state of a matrix, the displaying area of a pattern display part 78I (which is arrayed in a center of the matrix of 3×3 before forming 'call') under scroll display is expanded (figure (C)) on a winning line forming the 'call' state.例文帳に追加

複数の図柄表示部をマトリクス状に配置して表示する可変表示装置を有する遊技機において、リーチ状態が成立した当りライン上においてスクロール表示中の図柄表示部７８Ｉ（リーチ成立前は３×３のマトリックスの中央に配列）の表示領域を拡張した（図２（Ｃ））。 - 特許庁

The substrate for a heating element package includes a metal plate; an insulating oxide layer partially formed on the surface of the metal plate; a first conductive pattern formed in one region of the insulating oxide layer and providing a heating element mounting area; and a second conductive pattern formed in other regions of the insulating oxide layer so as to be separated from the first conductive pattern.例文帳に追加

本発明による発熱素子パッケージ用基板は、金属プレートと、前記金属プレートの表面に部分的に形成された絶縁酸化物層と、前記絶縁酸化物層の一領域に形成され、発熱素子の実装領域を提供する第１の導電パターンと、前記第１の導電パターンと離隔するように前記絶縁酸化物層の他の領域に形成された第２の導電パターンとを含む。 - 特許庁

The diaphragm unit 10 where a planar voice coil 13 to become a spiral wiring pattern is formed on the front surface of a flexible base material 11 includes: an outer terminal 15 continuously formed from the outer wiring end 132 of the spiral wiring pattern 13; and an extension part 14 which is continuously formed from the inner wiring end 133 of the spiral wiring pattern 13 and has an area larger than that of the outer terminal 15.例文帳に追加

可撓性基材１１の表面に渦巻状配線パターンとなる平面ボイスコイル１３の形成された振動板ユニット１０であって、渦巻状配線パターン１３の外側配線端１３２に続いて形成された外端子部１５と、渦巻状配線パターン１３の内側配線端１３３に続いて形成され、外端子部１５の面積より大きい面積の拡張部１４とを有する構成となる。 - 特許庁

An appropriate binarization threshold is automatically set by adopting processing that a standard deviation in a repeating pattern area is measured from the extracted image as binarization processing, that a threshold responding to the standard deviation is calculated and binarized and that the standard deviation is subsequently measured again and the threshold is binarized with a pixel decided as a repeating pattern by the binarization as a true repeating pattern part.例文帳に追加

また、２値化処理として、抽出画像から繰り返しパターン領域内の標準偏差を計測し、標準偏差に応じたしきい値を求めて２値化した後、その２値化で繰り返しパターンと判定された画素を真の繰り返しパターン部として、再度標準偏差の計測としきい値を求めて２値化するという処理を採用することで、適切な２値化しきい値を自動的に設定する。 - 特許庁

The Pachinko game machine 100 determines whether a game state is advantageous to a player and varies a pattern for showing a determined result when a game ball passes through a start area on a game board 101.例文帳に追加

ぱちんこ遊技機１００は、遊技盤１０１上の始動領域を遊技球が通過した場合に、遊技者にとって有利な遊技状態とするか否かを判定し、判定結果を示す図柄を変動させる。 - 特許庁

Though the division display means 6a divides the display part 8 into the two or more display areas 8a, 8b, 8c and 8d, since the enlarged display means 6b enlarges and displays the specified display area, the pattern is enlarged and made easy- to-see.例文帳に追加

分割表示手段６ａは表示部８を二以上の表示区域８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄに分割するが、拡大表示手段６ｂは特定の表示区域を拡大して表示するので図柄が大きくなって見やすくなる。 - 特許庁

A shading position control part 43 controls the position of the shading pattern to be an area for shading the light on the shading surface of the shade 13 through the sun shade control part 44 so that the driver's eyes is included in the shading range.例文帳に追加

遮光位置制御部４３は、運転者の目が遮光範囲に含まれるように、日除け制御部４４を介して、日除け１３の遮光面において光を遮る領域である遮光パターンの位置を制御する。 - 特許庁