「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electric sewing machine capable of forming same stitches or seams of high quality when stitches of specified pattern is formed through designation of needle swing width.例文帳に追加

針振り巾を指定して所定の針振りパターンの縫い目を形成するとき、縫い目の揃った高品質なパターン縫いを行うことが可能な電子ミシンを提供する。 - 特許庁

In the expression (1), D_MIN is a minimum value in the width of a ridge and a trough of the rugged pattern and A is a positive number not larger than 20.例文帳に追加

Ｄ_Ｓ≦ＡＤ_ＭＩＮ・・・・・（１）（但し、式（１）中、Ｄ_ＭＩＮは前記凹凸パターンにおいて山部の幅及び谷部の幅のうちその最小値であり、Ａは２０以下の正数である） - 特許庁

By a radiation dosage adjuster for making the radiation dosage in the width direction of the target portion change, the uneven limit dimension profile of the pattern forming equipment is compensated.例文帳に追加

ターゲット部分の幅方向の放射線量を変化させるための線量可変装置により、平坦ではないパターン形成装置の限界寸法プロファイルが補償される。 - 特許庁

To form a magnetic domain controlling film and an electrode film by undercutting an under-layered resist of a part used for machining track width of a read head, thereby forming a hollow lift-off-pattern.例文帳に追加

リードヘッドのトラック幅加工に用いられる部位の下層レジストをアンダーカットして中空形状のリフトオフパターンを形成して磁区制御膜及び電極膜を形成すること。 - 特許庁

To provide a device for sorting a micromirror device to obtain a drawing pattern with good linearity and no recess in a width or thickness direction, in a maskless exposure apparatus.例文帳に追加

マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。 - 特許庁

In the system for monitoring around a mobile object, a sensor control device stores a sweeping pattern of a frequency sweep width corresponding to a distance measurement range provided by each distance measurement sensor.例文帳に追加

移動体周辺監視システムにおいて、センサ制御装置は、各距離測定センサによる距離測定範囲に対応した周波数掃引幅の掃引パターンを記憶している。 - 特許庁

To provide an electromagnetic shielding material having a satisfactory electromagnetic shielding characteristics and capable of achieving a thin line width of, for instance, ≤20 μm, especially ≤10 μm in a convex pattern layer.例文帳に追加

電磁波シールド特性がよく、凸状パターン層を例えば２０μｍ以下特に１０μｍ以下の線幅への細線化を可能にする電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To provide a resist coating/developing apparatus and method in which line width roughness of a resist pattern can be efficiently reduced while avoiding contamination of a process atmosphere.例文帳に追加

プロセス雰囲気の汚染を避けつつ、レジストパターンのライン幅ラフネスを効率よく低減することができるレジスト塗布現像装置およびレジスト塗布現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).例文帳に追加

形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wet developer for circuit formation with which a fine circuit pattern with high accuracy of line width can be formed by an electrophotographic method.例文帳に追加

電子写真法による回路形成用現像剤として、ライン幅精度が高く、緻密な回路パターンを形成できる回路形成用湿式現像剤を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask which prevents a density correction pattern from being transferred onto a wafer, and which is inexpensive and which has excellent uniformity of line width, and to provide a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

密度補正パターンがウェーハに転写されることを予防し、かつ安価で優れた線幅均一性を有するフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The width of the recessed part or protruding part of the irregular pattern, for example, is measured on the basis of this intensity profile, whereby the fluctuation can be extremely precisely detected.例文帳に追加

この強度プロファイルをもとに、例えば、凹凸パターンの凹部或いは凸部の幅を測定するようにすれば、その変動を非常に精度良く検出することができる。 - 特許庁

A gate electrode 15 of the MISFET is constituted of a metal layer (a tungsten layer, an aluminium layer or the like) and is constituted of only a microscopic wire pattern having a substantially constant width.例文帳に追加

ＭＩＳＦＥＴのゲート電極１５は、金属（タングステン、アルミニウムなど）から構成され、かつ、実質的に一定の幅を有する細線パターンのみから構成される。 - 特許庁

Next, while carrying the film by using the temporary sprocket holes, etching is performed to form a circuit pattern at the conductor layer on a prescribed width except for the conductor layer on the widened parts.例文帳に追加

次に、仮のスプロケットホールを用いて搬送しながらエッチングを行って、拡幅部上の導体層は残して規定幅部上の導体層で回路パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source.例文帳に追加

Ｆ_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が１００ｎｍ以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁

The wiring board 10 is provided with a conductor pattern comprising a lead 5 which is formed on an organic layer and has a thickness (t) greater than a width W.例文帳に追加

本発明の配線基板によれば、有機層上に形成された厚みｔが幅Ｗよりも大きいリード５からなる導体パターンを備えた配線基板１０である。 - 特許庁

To provide a pattern device for molding a casting mold capable of easily forming a space of the desired width between mold mating faces of a mold formed by mating upper and lower molds.例文帳に追加

上下鋳型を型合せして成形した鋳型の鋳型合せ面間に所望幅の隙間を容易に形成することができる鋳型造形用模型装置を提供する。 - 特許庁

The insulation film 11 is coated and formed like a lattice stripe pattern on a film-like substrate 12 wherein an adhesive agent 13 is provided in a specified width and length.例文帳に追加

絶縁フィルム１１は、接着剤１３を所定の幅および長さを有するフィルム状の基材１２上に格子縞状パターンに塗布形成して構成されている。 - 特許庁

To provide a dry etching system having a function of intermediate length measurement for producing a photomask in which the pattern line width of a dry-etched metal film always satisfies dimensional specifications.例文帳に追加

ドライエッチングした金属膜のパターン線幅が常に寸法規格を満たしたフォトマスクを作製する中間測長機能を備えたドライエッチングシステムを提供する。 - 特許庁

To form the line width CD of a pattern, and a sidewall angle SWA uniformly in a substrate surface in each substrate that is etched after a photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程後にエッチング処理が施された基板において、パターンの線幅（ＣＤ）とサイドウォールアングル（ＳＷＡ）とを夫々、前記基板面内で均一に形成すること。 - 特許庁

Pattern height H, bottom width BCD and tapering angle Θ are acquired, by analyzing the wavelength depending characteristic of intensity of diffracted light obtained using a standard model (S2).例文帳に追加

そして、取得した回折光強度の波長依存特性を標準モデルを用いて解析し、パターン高さＨ、ボトム幅ＢＣＤおよびテーパー角Θを取得する（Ｓ２）。 - 特許庁

A test pattern 33 of at least several dot width per line is printed in the main scanning direction and subscanning direction while developing each thermal coloring layer with maximum density.例文帳に追加

主走査方向および副走査方向に、少なくとも１ライン分で数ドット幅からなり、各感熱発色層を最大濃度で発色させたテストパターン３３を印画する。 - 特許庁

A dummy pattern with a width narrower than that of the crystal vibrator is placed in parallel with the major axis of the crystal vibrator connected to the crystal wafer 10 via a connection section 30.例文帳に追加

水晶ウエハー１０に接続部３０を解して接続された水晶振動子の長軸と平行に、水晶振動子より幅の狭いダミーパターンを配置する。 - 特許庁

Wiring 50 arranged nearest to the intersection of a cutting line and the reinforcement member 20 of a plurality of wiring which constitute the wiring pattern 18 is wiring with the widest width.例文帳に追加

配線パターン１８を構成する複数の配線のうち切断線と補強部材２０との交点の最も近くに配置される配線５０は、最も幅が広い配線である。 - 特許庁

The source electrode 101 has such a pattern that the electrode width gradually widens toward both side portions, connected to the main line of the source electrode 101, of the branched electrode portion 101a.例文帳に追加

ソース電極１０１は、ソース電極１０１の本線とつながる分岐電極部１０１ａの両側部分に向かって電極幅が漸次広くなっている。 - 特許庁

The conductor wiring layer bonding part 14a is formed as the peripheral part of the island 15 and the flat width of the conductor wiring layer bonding part is assured by pattern design.例文帳に追加

導体配線層ボンディング部１４ａはアイランド１５の周辺部に形成し、パターン設計により導体配線層ボンディング部の平坦幅を確保できるようにしたものである。 - 特許庁

The increment of the width and interval of the interconnection in creating the interconnection pattern is made larger than the minimum dimensional unit and an allowable variation is discrete.例文帳に追加

配線パターンの作成における、配線幅および配線間隔の変更刻みを最小寸法単位よりも大きな値にし、許容できる変更値を離散化させている。 - 特許庁

Moreover, the prior drawing draws the fine pattern of the line width of not larger than 10 μm, and a liquid droplet amount in the main drawing is made larger than a liquid droplet amount in the prior drawing.例文帳に追加

また、さらに、先描画が、線幅が１０μｍ以下の微細パターンを描画し、本描画における液適量を、先描画における液滴量より多くする。 - 特許庁

To provide a magnetic particle inspection method and a magnetic sheet used therefor capable of relatively easily determining a width and depth of an opening of a flaw from a magnetic particle pattern.例文帳に追加

磁粉模様から欠陥の開口部の幅や深さなどを比較的容易に判断しうる磁粉探傷法およびその磁粉探傷法に用いる磁気シートを提供すること - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition that improves edge roughness of a pattern and suppresses occurrence of development defects and a change in line width with the lapse of time.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥が抑制され、且つ引きおき経時による線幅変動が改善されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

A reflection pattern 4b of a facial shape whose width in a direction orthogonal to the longitudinal direction is continuously and substantially changed is provided to a prescribed position of the light guide body 4.例文帳に追加

導光体４の所定部位に長手方向に沿って実質的に連続して、これと直交する方向の幅が変化する面状形状の反射パターン４ｂを設ける。 - 特許庁

On this occasion, the formation is carried out so that the distance between the opening and the neighboring active region can be varied by the width of the element isolation film pattern under the selected opening.例文帳に追加

この時、開口部とこれに隣接する活性領域との間の距離を選択された開口部の下の素子分離膜パターンの幅によって変えるように形成する。 - 特許庁

The mark 14 is provided with projections 15A, 15B, and so on whose width is set to be slightly larger than a length S3 of the side of a minimum pattern 9.例文帳に追加

マスク側位置合わせマーク１４は、表面露出パターン９の最小時の辺の長さＳ３よりもわずかに長く設定された幅Ｗの突出部１５Ａ,１５Ｂ,…を有する。 - 特許庁

The printed length of the test pattern 96 is equal to or longer than a width dimension of a printing region of bar codes 98 (98a to 98c).例文帳に追加

このテストパターン９６の印字長さは、バーコード９８（９８ａ〜９８ｃ）の印字領域の幅寸法を同じ寸法、あるいはそれよりも長い寸法に形成されている。 - 特許庁

To provide an automatic vending machine in which it is unnecessary to change the width of an article delivery port according to a chamber pattern and interference between a delivery door and the other equipment is prevented.例文帳に追加

庫室パターンに応じて商品取出口の幅を変更する必要がなく、払出扉と他の機器との干渉を防止することのできる自動販売機を提供する。 - 特許庁

In a terminal part 8c, five standard patterns are arranged in parallel so that the longitudinal direction is the direction along which the gate wiring extends, making the effective pattern width 50 μm.例文帳に追加

端子部８ｃは、同じく５本の基準パターンをゲート配線の延在方向に長手方向をもつ如く並列に形成して実効的なパターン幅を５０μｍとする。 - 特許庁

A method includes a step of forming wiring patterns mutually in parallel on a semiconductor substrate, and a step of forming a spacer with the upper part width wider than the lower, on a part of a side wall of the wiring pattern.例文帳に追加

半導体基板上に相平行した配線パターンを形成し、配線パターンの側壁の一部分に上部幅が下部幅より広いスペーサーを形成する。 - 特許庁

To provide a luminaire having a reduced dimension including a width for producing indirect lighting in a wider light distribution pattern without the need for equipment such as a reflector.例文帳に追加

幅等の寸法を小さく抑えることができ、反射板等の設備を要することなく、広がりを持った配光パターンの間接照明が得られる照明器具を提供する。 - 特許庁

The magnetic sheet 3 has a first surface on which the antenna coil 2 is to be arranged and a first distance from an end of the first surface up to the antenna coil is twice or larger than the first pattern width.例文帳に追加

磁性シート３は、アンテナコイルが配置される第１の面を有し、第１の面の端からアンテナコイル２までの第１の距離が第１のパターン幅の２倍以上である。 - 特許庁

Then, a processing unit 10 outputs the width and length of the wiring pattern designated as the wiring information output target into a file identified by the file name.例文帳に追加

そして、演算処理装置１０は、配線情報出力対象として指定された配線パターンの幅と長さを上記したファイル名で特定されるファイルに出力する。 - 特許庁

To provide an optical disk unit in which influence of a variation in magnetic field generated near a wiring pattern for PWM (pulse width modulation) drive signal can be suppressed.例文帳に追加

本発明の課題は、ＰＷＭ駆動信号用配線パターン付近で発生する磁界変動の影響を抑制できる光ディスク装置を提供することである。 - 特許庁

The width of the transmission line pattern 108 around the connection pin 114 of the transmission line connector 106 is gradually changed toward the connection pin 114.例文帳に追加

伝送線路接続用コネクタ１０６の接続ピン１１４付近の伝送線路パターン１０８の幅は、接続ピン１１４に向かうに従って漸次的に変化している。 - 特許庁

To make the positional deviation of a chip-type resistor from an electrode land pattern on a circuit board surely detectable, even if the length and width of the body of the resistor are equal to each other.例文帳に追加

抵抗器本体の長さ寸法と幅寸法とが等しくても、回路器基板上の電極ランドパターンに対する位置ずれを確実に検出可能にする。 - 特許庁

To provide a tire for an automobile with a tread pattern having four or more circumferential grooves provided side by side in a tire width direction excellent in a groove wandering property.例文帳に追加

タイヤ幅方向に併設される４本以上の周方向溝を有するトレッドパターンの乗用車用タイヤにおいて、グルーブワンダリング性に優れたものを提供する。 - 特許庁

On the region including these step differences S1, S2, a first pattern difference P11 having a predetermined width over at least high and low levels is provided.例文帳に追加

これらの段差Ｓ１，Ｓ２を含む領域上において、少なくとも高いレベルと低いレベルに渡って所定幅を有する第１パターンＰ１１が設けられている。 - 特許庁