「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

An exposure unit 60 exposes printing paper 90 inclined to face all shutter elements 62a arranged in the scanning direction over a wider range than the width of the printing paper 90 based on image data of a measuring pattern image, a scanner reads the measuring image thus formed on the printing paper 90.例文帳に追加

露光部６０において、主走査方向に沿って印画紙９０の幅よりも広い範囲に亘って配列された全てのシャッタ素子６２ａと対向するように傾けられた印画紙９０に対して、測定用パターン画像の画像データに基づいて露光を施し、それによって印画紙９０に形成された測定用画像をスキャナによって読み取る。 - 特許庁

The diffractive optical elements 4 also have a diffraction grating pattern formed to provide a constant width of ultraviolet rays on each of an incident surface 41 and an outgoing surface 42 for ultraviolet rays radiated from the plurality of LED modules 1 such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are in a line elongated in the direction of arrangement of the plurality of LED modules 1.例文帳に追加

さらに、回折光学素子４は、照射対象５に照射される紫外線が複数のＬＥＤモジュール１が並んでいる方向に細長くライン状になるように、複数のＬＥＤモジュール１から放射された紫外線の入射面４１および出射面４２の各面に紫外線の幅を一定にする回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁

The width of the conductive pattern 18 and the resin film 17 of a flexible printed board 16 are made narrower on the elastic deforming part B of a load beam 11 than on other parts, thereby weakening the rigidity of the flexible printed board 16 on the elastic deforming part B, diminishing the spring constant, and reducing the static load applied to the head body.例文帳に追加

ロードビーム１１の弾性変形部Ｂ上でのフレキシブルプリント基板１６の導電パターン１８及び樹脂フィルム１７の幅寸法を、他の部分での幅寸法よりも小さくすることで、前記弾性変形部Ｂ上でのフレキシブルプリント基板１６の剛性を弱めばね定数の低減を図り、ヘッド本体に加わる静荷重を低減させることができる。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

To prevent a defect from being transferred onto a wafer substrate, by reducing the thickness of an organic film for correcting an opening-like defect by treatment on a line even when performing a washing treatment at specified timing to suppress the variations in pattern line width after exposure, and by the decreased shielding capability in charged particle beams at the defect portion.例文帳に追加

露光後のパターン線幅の変動を抑えるべく所定タイミングで洗浄処理を行う場合であっても、その線上処理によって開口状欠陥を修正する有機膜の膜厚が減少し、その欠陥部分における荷電粒子線の遮蔽能力低下により、ウエハ基板上へ欠陥が転写されてしまうのを回避できるようにする。 - 特許庁

Since a width of a wiring part and both gap parts (boundary parts) between adjacent segments forming a pattern are narrowed enough to make transparent, wiring patterns WP1-WP5 are made to be transparent and invisible when display patterns DP1-DP5 are made to be of high impedance, and only the segments forming the display patterns DP1-DP5 are displayed with cloudiness.例文帳に追加

配線部分の幅とパターンを構成する隣接セグメントの間の両間隙部（境界部）とを透明化するのに十分なだけ細くしてあるので、表示パターンＤＰ1〜ＤＰ5をハイインピーダンスにすると、配線パターンＷＰ1〜ＷＰ5は透明化して見えず、表示パターンＤＰ1〜ＤＰ5を構成するセグメントだけが白濁して表示されることになる。 - 特許庁

Moreover, as the recessed part is formed at a part other than terminal parts with terminal connection holes 3, cross-section areas of the terminal parts without the recessed part formed is relatively large to have electric resistance smaller and prevent heat generation, so that the heater as a whole including the terminal parts can be formed nearly in the same width, enabling free designing of a heater pattern.例文帳に追加

さらに、端子接続穴３を有する端子部以外の部分に凹部が形成されることで、凹部が形成されない端子部の断面積が相対的に大きくなり、電気抵抗が小さくなって発熱が防止されるので、端子部を含めてヒータ全体を略同幅に形成することができ、ヒータパターンを自在に設計することが可能となる。 - 特許庁

A head 12 for discharging the resist solution on a wiring board 2 has a plurality of nozzles arranged in the main scanning direction and a plurality of nozzles arranged over the length corresponding to the width of the wiring board on in the sub-scanning direction and the resist pattern is formed on the whole surface of the wiring board by scanning the wiring board and the head only once in the main scanning direction.例文帳に追加

配線基板２にレジスト液を吐出するヘッド１２は主走査方向に複数のノズルが並べられるとともに、副走査方向に配線基板の幅に対応する長さにわたって複数のノズルが並べられ、配線基板とヘッドとを主走査方向に１回だけ走査させて配線基板の全面にレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The piezoelectric oscillator is formed so that the width of a wiring pattern 114 connected with an electrode terminal for external connection via a via hole conductor 119, out of wiring patterns connected with integrated circuit element mounting pads 118 provided on the other main surface of a substrate 111, is wider than the widths of other wiring patterns.例文帳に追加

圧電発振器は、基板部１１１の他方の主面に設けられた集積回路素子搭載パッド１１８に接続されている配線パターンのうち、ビアホール導体１１９を介して外部接続用電極端子と接続されている配線パターン１１４の幅が、他の配線パターンの幅に比べて大きくなるように形成されている。 - 特許庁

By determining a width of the peripheral region to be 1.62λ/NA inside from the boundary with the other cell library (wherein λ is the wavelength of exposure light used for pattern exposure and NA is the numerical aperture of the lens in an exposure apparatus), the correction amount of the OPC can be adjusted with high accuracy and the time required for the OPC processing can be reduced.例文帳に追加

このとき、上記周辺領域の幅を、他のセルライブラリとの境界から内側に１．６２λ／ＮＡ（λはパターン露光に用いる露光光の波長、ＮＡは露光機のレンズの開口数）とすることにより、上記ＯＰＣの補正量を高精度に調整することができるので、ＯＰＣ処理に要する時間を削減することができる。 - 特許庁

The sense signal is validated when it is generated from the detection sensor within valid periods W1, W2 provided in a predetermined time width during a pattern variation period showing a game result, and the sense signal is invalidated when the sense signal is not generated within the valid periods (S201, S203, S205).例文帳に追加

遊技結果を示す図柄変動期間中に所定の時間幅で設けた有効期間Ｗ１、Ｗ２内に、前記検出センサからセンス信号が発生した場合には前記センス信号を有効扱いとし、前記センス信号が前記有効期間内に発生しない場合には前記センス信号を無効扱いとして処理する（Ｓ２０１、Ｓ２０３、Ｓ２０５）。 - 特許庁

A helical pattern 13 which can be optically discriminated from other recording regions among recording regions 12 of the optical disk 10 and has a helical shape of a pitch width larger than that of the guiding groove 11 for recording and which crosses the guiding groove 11 for recording at least at one point when a complete round is made along the guiding groove 11 for recording is provided.例文帳に追加

光ディスク１０の記録領域１２のうち、他の記録領域と光学的に判別可能となると共に、記録用案内溝１１よりも広いピッチ幅の螺旋状を呈して、かつ記録用案内溝１１に沿って一周させたときに、記録用案内溝１１を少なくとも一個所以上横切る螺旋紋１３が設けられている。 - 特許庁

The intensity computation is performed on a forward scatter term and a backward scatter term of an exposure intensity distribution function, the proximity effect is corrected by varying the size of a mask pattern so that the width of an exposure intensity distribution of specific energy intensity becomes equal to design size, and an area density method is used for the backward scatter intensity computation.例文帳に追加

露光強度分布関数における前方散乱項及び後方散乱項の強度計算を行い、所定のエネルギー強度における露光強度分布の幅が設計寸法と一致するようにマスクパターンの寸法を変更して近接効果補正を行うこと、また、後方散乱強度計算に面積密度法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To improve freedom in designing a waveguide width by butt-joint-joining a modulator region and a laser region, reduce reflectivity on an emission end surface of laser light by providing a bent waveguide structure in the modulator region, and accurately align angles by making a mounting marker into a linear pattern.例文帳に追加

変調器領域とレーザ領域とをバットジョイント接合させることにより、導波路幅の設計の自由度が高められ、変調器領域に曲がり導波路構造が設けられることにより、レーザ光の出射端面での反射率が低減され、及び、実装用マーカを直線状パターンにすることにより、精度の良い角度合わせをする。 - 特許庁

The embossed pattern, in its central region, is provided with a pair of front-side embosses extending from a predetermined position in the front side region in the length direction and formed to face the width directional center line of the article; and a pair of rear-side embosses extending from a position slightly separated from the front-side embosses and formed to face the center line.例文帳に追加

エンボスパターンは、中央領域においては、前側領域側の所定の位置から長さ方向に延びる、物品の幅方向中心線に対向して形成される一対の前方サイドエンボスと、該前方サイドエンボスからわずかに離間した位置から、後側領域方向に延びる、中心線に対向して形成される一対の後方サイドエンボスとを有する。 - 特許庁

In this trace circuit 1 to output trace data of a CPU, a FIFO memory 20 as a memory for output adjustment to adjust timing of output of the trace data and a developing device 11 to convert access data of the CPU into bit width for one word of the FIFO memory and to generate the bit pattern data for test to be used for the test of the FIFO memory are provided.例文帳に追加

ＣＰＵのトレースデータを出力するトレース回路１において、トレースデータの出力のタイミングを調整する出力調整用メモリであるＦＩＦＯメモリ２０と、ＣＰＵのアクセスデータをＦＩＦＯメモリの１ワード分のビット幅に変換し、ＦＩＦＯメモリの試験に用いる試験用ビットパターンデータを生成する展開器１１とを有する。 - 特許庁

A box body with a width of 50-200 cm, a height of 25-50 cm and a depth of 50-200 cm is provided with inner partition walls to form a plurality of hollow chambers, and boulders, cobble stones and other natural stones are appropriately stuck to or embedded in the whole surface on the front side, or a stone pattern is artificially and similarly to actual stones formed.例文帳に追加

巾５０ｃｍ〜２００ｃｍ、高さ２５ｃｍ〜５０ｃｍ、奥行き５０ｃｍ〜２００ｃｍの箱体内に対し、中仕切り壁を設けて複数の中空室を形成すると共に、正面側の全表面に対し玉石や栗石、その他自然石などを適宜付着或いは埋設させたり、或いは人工的に石塊模様を類似形成させたりする。 - 特許庁

The color filter comprises: a substrate 1; resin parts 2 which are formed on the substrate 1 in a pattern shape; the colored layer 3 formed on an opening part divided by the resin parts 2; and light shielding parts 4 which are thicker than the width of the resin parts 2 and are formed on the resin parts 2 so as to cover edge parts of the colored layer 3.例文帳に追加

上記目的を達成するために、基材１と、前記基材１上にパターン状に形成された樹脂部２と、前記樹脂部２により区画された開口部上に形成された着色層３と、前記樹脂部２上に、前記樹脂部２の幅より太くかつ前記着色層３の端部を覆うように形成された遮光部４とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

The present invention relates to an RFID tag including: a dielectric substrate; a conductor layer formed on one surface of the dielectric substrate; a conductor pattern formed on another surface of the dielectric substrate and having a long and slender slot; and an IC chip connected to two sides opposite each other in a width direction of the long and slender slot, respectively, for transmitting and receiving an electric wave through the long and slender slot.例文帳に追加

誘電体基板と、この誘電体基板の一方の面に設けた導体層と、前記誘電体基板の他方の面に設け、長細状スロットを有する導体パターンと、前記長細状スロットの幅方向に対向する二辺にそれぞれ接続され、前記長細状スロットを通して電波を送受信するＩＣチップとを備えたことを特徴とするＲＦＩＤタグ。 - 特許庁

In the transfer paper X for pottery for transferring an outline of a picture pattern on the pottery, the outline 10 to be printed on the transfer paper 20 is formed by a color with lower lightness than a color applied to a position adjacent to the inside of the outline 10, and at least one among change of line width, change of hue, change of chroma and change of tone is applied to the outline 10.例文帳に追加

陶磁器に絵柄の輪郭線を転写するための陶磁器用転写紙Ｘにおいて、前記転写紙２０に印刷される前記輪郭線１０を、当該輪郭線１０内側に接する位置に施される色より低い明度の色により形成し、線幅の変化、色相の変化、彩度の変化、濃淡の変化のうちの少なくとも一つを前記輪郭線１０に施すようにする。 - 特許庁

To provide a metal-ceramic circuit board having a small undulating width and variations in skirt length in a marginal part of a metal circuit pattern for the metal circuit comprising not only a pure alminum but also an aluminum alloy, and for the metal circuit formed by bonding an aluminum plate to a ceramic board through the alminum alloy, and to provide a mathod for manufacturing the same.例文帳に追加

金属回路が純粋なアルミニウムからなる場合だけでなくアルミニウム合金からなる場合や、アルミニウム合金のろう材を介してアルミニウム板をセラミックス基板に接合して金属回路を形成する場合にも、金属回路パターンの周縁の波打ち幅が小さく且つスカート長さのばらつきが小さい金属−セラミックス回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

On the printed board 4, the circuit patterns are formed in the expected pattern width by alternating a process of blowing an etchant from an etching nozzle (liquid chemical nozzle) 1 onto the printed board 4 which is being carried and a process of blowing air from an air nozzle 11 onto the printed board 4 so that the etchant is removed from on the printed board 4.例文帳に追加

搬送状態にあるプリント基板４上にエッチングノズル（薬液ノズル）１よりエッチング液を吹き付ける工程と、該エッチング液がプリント基板４上から除去されるべく、プリント基板４上にエアーノズル１１より気体を吹き付ける工程とが交互に繰返されるようにして、プリント基板４上に回路パターンが所期のパターン幅として形成されるようにしたものである。 - 特許庁

A photo-sensitive paste containing inorganic particulates and photo-sensitive organic component is applied onto a base board so that a coating film is formed, which is exposed to light and developed, and a bulkhead pattern is accomplished, and this method of manufacturing a plasma display is characterized by that the allowable width of photo-exposure in the exposing process is over 10%.例文帳に追加

無機微粒子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を露光し、現像する工程を経て隔壁パターンを形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該露光工程における露光量許容幅が１０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。 - 特許庁

First and second electrode pattern data in facing regions including display units and data of mutually relatively aligned first and second slit patterns are superposed on each other respectively to prepare first and second reticles so that the slit patterns formed at respective substrates are alternately disposed in a slit width direction when completed substrates are disposed opposite to each other and viewed from the normal direction of the substrates.例文帳に追加

表示単位を含む対向領域の第１及び第２電極パタンデータと、相互に相対的に位置合わせされた第１及び第２スリットパタンのデータとをそれぞれ重ね合わせ、完成基板を対向配置し基板の法線方向から見たときに、各基板に形成されたスリットパタンがスリットの幅方向に交互に配置するものとされた第１及び第２レチクルを作製する。 - 特許庁

This metal mold for molding a plastic disk substrate has cooling waterways 1c formed dispersively inside, the cooling waterways are so patterned that the distance (h) from the surface of a stamper 1b is 5 to 30 mm and the groove width (d) is 5 to 20 mm, and the pattern of the cooling waterways, is formed as concentric annular grooves.例文帳に追加

プラスチック製ディスク基板を作製する成形金型において、金型１の内部に複数条の冷却水路１ｃを分散形成するものとし、かつその冷却水路のパターンをスタンパ１ｂの表面からの距離ｈを５〜３０ｍｍの範囲に、また溝幅ｄを５〜２０ｍｍに設定し、かつ各冷却水路のパターンを同心円状に並ぶ環状溝として形成する。 - 特許庁

A positive electrode active material is a nickel oxyhydroxide compound including zinc and cobalt, alone or in combination, as eutectic, the surface of particles of which compound is coated with a cobalt high-order oxide, and has a half band width of 0.4 to 0.48 at the diffraction peak near a diffraction angle of 18° in the X-ray diffraction pattern, thereby achieving a battery superior in characteristics.例文帳に追加

この発明は、正極材料として、亜鉛及びコバルト単独もしくはこれらを共晶させたオキシ水酸化ニッケル系化合物であって、この粒子の表面がコバルト高次酸化物で被覆され、ｘ線回折パターンにおいて、回折角１８°付近の回折ピークの半値幅が０．４〜０．４８である正極活物質を用いることによって特性の優れた電池を実現する。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、３０ｗｔ％以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること（ステップＳ１１）と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること（ステップＳ１２）と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること（ステップＳ１４）と、を含む。 - 特許庁

In the polypropylene resin laminated foamed sheet constituted by laminating a polypropylene resin extruded foamed sheet and a polypropylene resin film, on which a pattern repeated at a definite cycle in the extrusion direction is printed, through a polypropylene resin layer by extrusion lamination, the fluctuation in width of the interval between the patterns in the extrusion direction is set to 5% or below to continuously mold the molded product by the continuous molding machine.例文帳に追加

ポリプロピレン系樹脂押出発泡シートと、押出方向に一定周期で繰り返される模様を印刷したポリプロピレン系樹脂フィルムを、押出ラミネートによりポリプロピレン系樹脂層を介して積層してなるポリプロピレン系樹脂積層発泡シートであって、押出方向における前記模様の間隔の変動幅を５％以下とすることにより、上記成形体を連続成形機にて連続的に成形することができる。 - 特許庁

Further in the photomask which has a plurality of unit mask regions having the same external size and the same mask pattern including a plurality of light transmission sections formed thereon and on which the unit mask regions are adjacently and repeatedly arranged along the predetermined direction, the photomask in which width of the unit mask region in the predetermined direction is ≥600μm is used and the diffuse reflection board is formed by using photolithography.例文帳に追加

また、同一の外形寸法を有すると共に複数の光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、所定方向における前記単位マスク領域の幅が６００μｍ以上であるフォトマスクを用い、フォトリソグラフィー法を用いて拡散反射板を形成する。 - 特許庁

In addition, the coating machine is provided with a speed distribution-adjusting means (13) which adjusts the distribution of shaping air jetting speeds, in accordance with a coating pattern to be formed, by changing the aperture shape of the outer lip (11) to partially change the aperture width of the circular slit (7).例文帳に追加

回転霧化頭（５）が取り付けられた塗装機本体（２）の先端側に、回転霧化頭（５）の背面側からシェーピングエアを吹き出す環状スリット（７）が形成されて成り、その環状スリット（７）が環状のインナーリップ（１０）及びアウターリップ（１１）で形成され、アウターリップ（１１）の開口形状を変化させて環状スリット（７）の開口幅を部分的に変化させることにより、形成しようとする塗装パターンの形状に応じてシェーピングエアの吹出速度の分布を調整する速度分布調整手段（１３）を備えた。 - 特許庁