「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

In a structure provided with a light screening film used also for a wiring film in an uppermost layer of a multilayer wiring disposed on a pixel array of a solid-state image sensor, the opening pattern of the light screening film is formed so that its opening diameter grows gradually large (that is, a wiring width is narrow) from a central region to a circumferential edge region of a pixel array.例文帳に追加

固体撮像素子の画素アレイ部上に配置される多層配線の最上層に配線膜兼用の遮光膜を設けた構造において、この遮光膜の開口パターンを画素アレイ部の中心領域から周縁領域にかけて、徐々に開口径が大きくなる（すなわち、配線幅が狭くなる）ように形成する。 - 特許庁

To easily and reliably perform focusing control of laser light and to make a marking width to be a laser light spot diameter or below in a process for irradiating a material layer formed on a substrate which constitutes a recording medium and a master disk for manufacturing the recording medium with laser light according to a recording pattern in a manufacturing process of the recording medium and the master disk for manufacturing the recording medium.例文帳に追加

記録媒体および記録媒体製造用原盤の製造過程で、これら記録媒体および記録媒体製造用原盤を構成する基板上に形成した材料層にレーザ光を記録パターンに応じて照射する工程で、レーザ光のフォーカシング制御を容易、確実に行い、また、記録マーク幅をレーザ光スポット以下にする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a shadow mask in which fluctuation in resist pattern dimensions after development treatment is suppressed by making uniform the sensitivity in width direction of a resist film formed on both sides of a metal substrate, in the resist coating process for forming the resist film by coating a photoresist on both sides of the long metal substrate and drying in a drying chamber.例文帳に追加

長尺の金属基材の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥チャンバーで乾燥してレジスト膜を形成するレジスト塗布工程において、金属基材の両面に形成されたレジスト膜の幅方向の感度を均一化して現像処理後のレジストパターン寸法のバラツキを抑えたシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the embroidery structure of embroidery patterns is constituted in such a way that image are displayed by a plurality of band-like scanning line patterns L placed parallel with each other, the pattern L contains a series of stitches S and T inclined to the band width direction in the same direction in an angle range between >0° and <90°.例文帳に追加

本発明の刺繍柄の刺繍構造は、平行に配された複数の帯状の走査線柄Ｌによって画像を表現した刺繍柄の刺繍構造において、走査線柄Ｌは、その帯幅方向に対して同一方向に０°より大きく９０°より小さい範囲内で傾いた一連のステッチＳ，Ｔを含むことを特徴とする。 - 特許庁

On both sides in the tape longitudinal direction of A-D bursts constituting an LTO servo pattern respectively, auxiliary pulses 10 parallel with a line orthogonal to a tape edge and having a length roughly equal to a spacing along the line orthogonal to the tape edge between both ends in the tape width direction of the respective bursts A-D are formed at prescribed spacings in the tape longitudinal direction from the respective bursts A-D.例文帳に追加

LTOサーボパターンを構成するA〜Dバーストのテープ長手方向の各々両側に、テープエッジに直交する線に対して平行であり、且つA〜Dの各バーストのテープ幅方向両端間の、前記テープエッジに直交する線に沿う間隔と略等しい長さの補助パルス10を、A〜Dの各バーストからテープ長手方向に所定間隔隔てて形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the luminous energy in two-dimensionally distributed picture drawing units, in particular, a black image can be formed with high definition and extremely little variance in the line width, and to provide a color filter having excellent display characteristics, and a display apparatus using the color filter.例文帳に追加

２次元的に分布した各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能であり、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

As an identification pattern of the frame, an isolated pulse having a pulse width sufficiently wider than a data isolated pulse is arranged in the head of the frame as dummy data.例文帳に追加

ｎチャネルの１ビット量子化伝送を対象とし、データ部分の各チャネルが論理“１”の場合は多重化後のチャネル長の１／ｎ以下のパルス幅の孤立パルスを当該チャネルに割り当て、論理“０”の場合は無信号とし、上記のフレームの識別パタンとしてはこのデータ孤立パルスよりは十分に広いパルス幅の孤立パルスをフレーム先頭位置にダミーデータとして配置する構成とした。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加

スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。 - 特許庁

By determining a width of the peripheral region to be 1.62λ/NA inside from the boundary with the other cell library (wherein λ is the wavelength of exposure light used for pattern exposure and NA is the numerical aperture of the lens in an exposure apparatus), the correction amount of the OPC can be adjusted with high accuracy and the time required for the OPC processing can be reduced.例文帳に追加

このとき、上記周辺領域の幅を、他のセルライブラリとの境界から内側に１．６２λ／ＮＡ（λはパターン露光に用いる露光光の波長、ＮＡは露光機のレンズの開口数）とすることにより、上記ＯＰＣの補正量を高精度に調整することができるので、ＯＰＣ処理に要する時間を削減することができる。 - 特許庁

The sense signal is validated when it is generated from the detection sensor within valid periods W1, W2 provided in a predetermined time width during a pattern variation period showing a game result, and the sense signal is invalidated when the sense signal is not generated within the valid periods (S201, S203, S205).例文帳に追加

遊技結果を示す図柄変動期間中に所定の時間幅で設けた有効期間Ｗ１、Ｗ２内に、前記検出センサからセンス信号が発生した場合には前記センス信号を有効扱いとし、前記センス信号が前記有効期間内に発生しない場合には前記センス信号を無効扱いとして処理する（Ｓ２０１、Ｓ２０３、Ｓ２０５）。 - 特許庁

A helical pattern 13 which can be optically discriminated from other recording regions among recording regions 12 of the optical disk 10 and has a helical shape of a pitch width larger than that of the guiding groove 11 for recording and which crosses the guiding groove 11 for recording at least at one point when a complete round is made along the guiding groove 11 for recording is provided.例文帳に追加

光ディスク１０の記録領域１２のうち、他の記録領域と光学的に判別可能となると共に、記録用案内溝１１よりも広いピッチ幅の螺旋状を呈して、かつ記録用案内溝１１に沿って一周させたときに、記録用案内溝１１を少なくとも一個所以上横切る螺旋紋１３が設けられている。 - 特許庁

The intensity computation is performed on a forward scatter term and a backward scatter term of an exposure intensity distribution function, the proximity effect is corrected by varying the size of a mask pattern so that the width of an exposure intensity distribution of specific energy intensity becomes equal to design size, and an area density method is used for the backward scatter intensity computation.例文帳に追加

露光強度分布関数における前方散乱項及び後方散乱項の強度計算を行い、所定のエネルギー強度における露光強度分布の幅が設計寸法と一致するようにマスクパターンの寸法を変更して近接効果補正を行うこと、また、後方散乱強度計算に面積密度法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To improve freedom in designing a waveguide width by butt-joint-joining a modulator region and a laser region, reduce reflectivity on an emission end surface of laser light by providing a bent waveguide structure in the modulator region, and accurately align angles by making a mounting marker into a linear pattern.例文帳に追加

変調器領域とレーザ領域とをバットジョイント接合させることにより、導波路幅の設計の自由度が高められ、変調器領域に曲がり導波路構造が設けられることにより、レーザ光の出射端面での反射率が低減され、及び、実装用マーカを直線状パターンにすることにより、精度の良い角度合わせをする。 - 特許庁

The embossed pattern, in its central region, is provided with a pair of front-side embosses extending from a predetermined position in the front side region in the length direction and formed to face the width directional center line of the article; and a pair of rear-side embosses extending from a position slightly separated from the front-side embosses and formed to face the center line.例文帳に追加

エンボスパターンは、中央領域においては、前側領域側の所定の位置から長さ方向に延びる、物品の幅方向中心線に対向して形成される一対の前方サイドエンボスと、該前方サイドエンボスからわずかに離間した位置から、後側領域方向に延びる、中心線に対向して形成される一対の後方サイドエンボスとを有する。 - 特許庁

In this trace circuit 1 to output trace data of a CPU, a FIFO memory 20 as a memory for output adjustment to adjust timing of output of the trace data and a developing device 11 to convert access data of the CPU into bit width for one word of the FIFO memory and to generate the bit pattern data for test to be used for the test of the FIFO memory are provided.例文帳に追加

ＣＰＵのトレースデータを出力するトレース回路１において、トレースデータの出力のタイミングを調整する出力調整用メモリであるＦＩＦＯメモリ２０と、ＣＰＵのアクセスデータをＦＩＦＯメモリの１ワード分のビット幅に変換し、ＦＩＦＯメモリの試験に用いる試験用ビットパターンデータを生成する展開器１１とを有する。 - 特許庁

A box body with a width of 50-200 cm, a height of 25-50 cm and a depth of 50-200 cm is provided with inner partition walls to form a plurality of hollow chambers, and boulders, cobble stones and other natural stones are appropriately stuck to or embedded in the whole surface on the front side, or a stone pattern is artificially and similarly to actual stones formed.例文帳に追加

巾５０ｃｍ〜２００ｃｍ、高さ２５ｃｍ〜５０ｃｍ、奥行き５０ｃｍ〜２００ｃｍの箱体内に対し、中仕切り壁を設けて複数の中空室を形成すると共に、正面側の全表面に対し玉石や栗石、その他自然石などを適宜付着或いは埋設させたり、或いは人工的に石塊模様を類似形成させたりする。 - 特許庁

The present invention relates to an RFID tag including: a dielectric substrate; a conductor layer formed on one surface of the dielectric substrate; a conductor pattern formed on another surface of the dielectric substrate and having a long and slender slot; and an IC chip connected to two sides opposite each other in a width direction of the long and slender slot, respectively, for transmitting and receiving an electric wave through the long and slender slot.例文帳に追加

誘電体基板と、この誘電体基板の一方の面に設けた導体層と、前記誘電体基板の他方の面に設け、長細状スロットを有する導体パターンと、前記長細状スロットの幅方向に対向する二辺にそれぞれ接続され、前記長細状スロットを通して電波を送受信するＩＣチップとを備えたことを特徴とするＲＦＩＤタグ。 - 特許庁

In the transfer paper X for pottery for transferring an outline of a picture pattern on the pottery, the outline 10 to be printed on the transfer paper 20 is formed by a color with lower lightness than a color applied to a position adjacent to the inside of the outline 10, and at least one among change of line width, change of hue, change of chroma and change of tone is applied to the outline 10.例文帳に追加

陶磁器に絵柄の輪郭線を転写するための陶磁器用転写紙Ｘにおいて、前記転写紙２０に印刷される前記輪郭線１０を、当該輪郭線１０内側に接する位置に施される色より低い明度の色により形成し、線幅の変化、色相の変化、彩度の変化、濃淡の変化のうちの少なくとも一つを前記輪郭線１０に施すようにする。 - 特許庁

A positive electrode active material is a nickel oxyhydroxide compound including zinc and cobalt, alone or in combination, as eutectic, the surface of particles of which compound is coated with a cobalt high-order oxide, and has a half band width of 0.4 to 0.48 at the diffraction peak near a diffraction angle of 18° in the X-ray diffraction pattern, thereby achieving a battery superior in characteristics.例文帳に追加

この発明は、正極材料として、亜鉛及びコバルト単独もしくはこれらを共晶させたオキシ水酸化ニッケル系化合物であって、この粒子の表面がコバルト高次酸化物で被覆され、ｘ線回折パターンにおいて、回折角１８°付近の回折ピークの半値幅が０．４〜０．４８である正極活物質を用いることによって特性の優れた電池を実現する。 - 特許庁

First and second electrode pattern data in facing regions including display units and data of mutually relatively aligned first and second slit patterns are superposed on each other respectively to prepare first and second reticles so that the slit patterns formed at respective substrates are alternately disposed in a slit width direction when completed substrates are disposed opposite to each other and viewed from the normal direction of the substrates.例文帳に追加

表示単位を含む対向領域の第１及び第２電極パタンデータと、相互に相対的に位置合わせされた第１及び第２スリットパタンのデータとをそれぞれ重ね合わせ、完成基板を対向配置し基板の法線方向から見たときに、各基板に形成されたスリットパタンがスリットの幅方向に交互に配置するものとされた第１及び第２レチクルを作製する。 - 特許庁

A photo-sensitive paste containing inorganic particulates and photo-sensitive organic component is applied onto a base board so that a coating film is formed, which is exposed to light and developed, and a bulkhead pattern is accomplished, and this method of manufacturing a plasma display is characterized by that the allowable width of photo-exposure in the exposing process is over 10%.例文帳に追加

無機微粒子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を露光し、現像する工程を経て隔壁パターンを形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該露光工程における露光量許容幅が１０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。 - 特許庁

This metal mold for molding a plastic disk substrate has cooling waterways 1c formed dispersively inside, the cooling waterways are so patterned that the distance (h) from the surface of a stamper 1b is 5 to 30 mm and the groove width (d) is 5 to 20 mm, and the pattern of the cooling waterways, is formed as concentric annular grooves.例文帳に追加

プラスチック製ディスク基板を作製する成形金型において、金型１の内部に複数条の冷却水路１ｃを分散形成するものとし、かつその冷却水路のパターンをスタンパ１ｂの表面からの距離ｈを５〜３０ｍｍの範囲に、また溝幅ｄを５〜２０ｍｍに設定し、かつ各冷却水路のパターンを同心円状に並ぶ環状溝として形成する。 - 特許庁

The color filter comprises: a substrate 1; resin parts 2 which are formed on the substrate 1 in a pattern shape; the colored layer 3 formed on an opening part divided by the resin parts 2; and light shielding parts 4 which are thicker than the width of the resin parts 2 and are formed on the resin parts 2 so as to cover edge parts of the colored layer 3.例文帳に追加

上記目的を達成するために、基材１と、前記基材１上にパターン状に形成された樹脂部２と、前記樹脂部２により区画された開口部上に形成された着色層３と、前記樹脂部２上に、前記樹脂部２の幅より太くかつ前記着色層３の端部を覆うように形成された遮光部４とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a metal-ceramic circuit board having a small undulating width and variations in skirt length in a marginal part of a metal circuit pattern for the metal circuit comprising not only a pure alminum but also an aluminum alloy, and for the metal circuit formed by bonding an aluminum plate to a ceramic board through the alminum alloy, and to provide a mathod for manufacturing the same.例文帳に追加

金属回路が純粋なアルミニウムからなる場合だけでなくアルミニウム合金からなる場合や、アルミニウム合金のろう材を介してアルミニウム板をセラミックス基板に接合して金属回路を形成する場合にも、金属回路パターンの周縁の波打ち幅が小さく且つスカート長さのばらつきが小さい金属−セラミックス回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

On the printed board 4, the circuit patterns are formed in the expected pattern width by alternating a process of blowing an etchant from an etching nozzle (liquid chemical nozzle) 1 onto the printed board 4 which is being carried and a process of blowing air from an air nozzle 11 onto the printed board 4 so that the etchant is removed from on the printed board 4.例文帳に追加

搬送状態にあるプリント基板４上にエッチングノズル（薬液ノズル）１よりエッチング液を吹き付ける工程と、該エッチング液がプリント基板４上から除去されるべく、プリント基板４上にエアーノズル１１より気体を吹き付ける工程とが交互に繰返されるようにして、プリント基板４上に回路パターンが所期のパターン幅として形成されるようにしたものである。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、３０ｗｔ％以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること（ステップＳ１１）と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること（ステップＳ１２）と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること（ステップＳ１４）と、を含む。 - 特許庁

In the polypropylene resin laminated foamed sheet constituted by laminating a polypropylene resin extruded foamed sheet and a polypropylene resin film, on which a pattern repeated at a definite cycle in the extrusion direction is printed, through a polypropylene resin layer by extrusion lamination, the fluctuation in width of the interval between the patterns in the extrusion direction is set to 5% or below to continuously mold the molded product by the continuous molding machine.例文帳に追加

ポリプロピレン系樹脂押出発泡シートと、押出方向に一定周期で繰り返される模様を印刷したポリプロピレン系樹脂フィルムを、押出ラミネートによりポリプロピレン系樹脂層を介して積層してなるポリプロピレン系樹脂積層発泡シートであって、押出方向における前記模様の間隔の変動幅を５％以下とすることにより、上記成形体を連続成形機にて連続的に成形することができる。 - 特許庁

Further in the photomask which has a plurality of unit mask regions having the same external size and the same mask pattern including a plurality of light transmission sections formed thereon and on which the unit mask regions are adjacently and repeatedly arranged along the predetermined direction, the photomask in which width of the unit mask region in the predetermined direction is ≥600μm is used and the diffuse reflection board is formed by using photolithography.例文帳に追加

また、同一の外形寸法を有すると共に複数の光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、所定方向における前記単位マスク領域の幅が６００μｍ以上であるフォトマスクを用い、フォトリソグラフィー法を用いて拡散反射板を形成する。 - 特許庁

In addition, the coating machine is provided with a speed distribution-adjusting means (13) which adjusts the distribution of shaping air jetting speeds, in accordance with a coating pattern to be formed, by changing the aperture shape of the outer lip (11) to partially change the aperture width of the circular slit (7).例文帳に追加

回転霧化頭（５）が取り付けられた塗装機本体（２）の先端側に、回転霧化頭（５）の背面側からシェーピングエアを吹き出す環状スリット（７）が形成されて成り、その環状スリット（７）が環状のインナーリップ（１０）及びアウターリップ（１１）で形成され、アウターリップ（１１）の開口形状を変化させて環状スリット（７）の開口幅を部分的に変化させることにより、形成しようとする塗装パターンの形状に応じてシェーピングエアの吹出速度の分布を調整する速度分布調整手段（１３）を備えた。 - 特許庁