「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

With respect to the tape recording medium 1 on which the servo signals are recorded, the recorded servo signals are erased by overwriting by the erasing head 5 at predetermined timing, and a servo pattern 7 left to be erased in an oblique direction is formed in the width direction of the tape recording medium 1.例文帳に追加

サーボ信号の記録されたテープ状記録媒体１に対し、消去ヘッド５によって所定のタイミングでオーバーライトしながら記録サーボ信号を消去するとともに、消残しタイミング間隔を形成することにより、テープ状記録媒体１の幅方向に対して斜め方向に消し残されたサーボパターン７を形成する。 - 特許庁

The split mask includes a stick body in which a deposition pattern is formed, a first clamping portion extending along the longitudinal direction of the stick body, and a second clamping portion extending along an oblique direction between the longitudinal direction and width direction of the stick body, and the assembling apparatus is used for the mask frame assembly including the split mask.例文帳に追加

蒸着用パターンが設けられたスティック本体と、スティック本体の長手方向に沿って延びた第１クランピング部と、スティック本体の長手方向と幅方向との間の斜め方向に沿って延びた第２クランピング部と、を備える分割マスク及びその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置である。 - 特許庁

The method of manufacturing the liquid crystal display includes supplying the liquid crystal by at least one dispenser, controlling a dropping amount of the liquid crystal by matching it with a pattern width of a sealant formed on any one roll film base material and being continuously bonded by a roll laminator comprising rollers on one side or both the sides.例文帳に追加

液晶の供給を少なくとも１台のディスペンサより行い、液晶の滴下量を何れかのロールフィルム基材上に形成されたシール材のパタン幅に合わせて制御し、片側ないし両側にローラーを具備したロールラミネーターにより連続して貼合する事を特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 特許庁

After a light-shielding layer and a resist layer to produce an exposure mask are formed in this order, a pattern is drawn in the resist layer by scanning with electron beams EB relatively in the Y direction with specified scanning width while relatively moving the scanning region EA in the X direction for every scanning period.例文帳に追加

露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってＹ方向に相対的に走査される電子ビームＥＢの走査領域ＥＡを１走査毎にＸ方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を２サイクル以上繰り返す。 - 特許庁

The information recording medium B is constituted by stacking at least a recording layer 5 on a base 1A, which has a land 2 and a groove 3 formed alternately as a fine track pattern and is provided with a Dc clevis 4 deeper than the depth Dg of the groove 3 in the groove 3 nearby one width- directional edge part 3a of the groove 3.例文帳に追加

支持体１Ａ上に、少なくとも、記録層５が積層されてなる情報記録媒体Ｂであって、支持体１Ａは、微細トラックパターンとしてランド２とグルーブ３とが交互に形成されており、かつグルーブ３の幅方向の一端縁部３ａ近傍には、グルーブ３の深さＤｇよりも深いＤｃクレビス４が設けられている。 - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

Namely, the second stamp portion 10b is made gradually narrower in accordance with the elastic deformation becoming gradually larger toward in the X direction, thereby the elastic deformation near the intersection portion 10g can be made to be deformation along two first extension lines E1, so that a pattern having the width W1 can be formed.例文帳に追加

つまり、第２スタンプ部１０ｂを、Ｘ方向に向かって徐々に大きくなる弾性変形に応じて、徐々に狭くすることにより、交差部１０ｇ近辺の弾性変形を、２本の第１の延長線Ｅ１に沿って変形させることができ、幅が幅Ｗ１となるパターンを形成することができる。 - 特許庁

This pleated skirt for students is obtained by sewing a fabric cut along a paper pattern having at least one or more darts around left and right trunk parts of the hem part so that the circumferential width of the hem part of a front body and a back body is rather short than that of the hip part and making the silhouette line of the waist-hip-hem appear beautiful.例文帳に追加

本発明は、裾部の左右胴部周辺にダーツを少なくとも１ケ以上設けた型紙に沿って裁断した生地を、前身頃及び後見頃裾部の円周幅がヒップ部より短めになるように逢着し、ウエスト−ヒップ−裾のシルエットラインが綺麗にでるようにした学生用のプリーツスカートに関するものである。 - 特許庁

The charged particle beam aligner for exposing a work to a pattern with a charged particle beam is characterized in that a region exposed en block has a maximum length of 1 mm or more on the work and the half- value width of an aperture angle distribution over the work is 1 mrad or less.例文帳に追加

荷電粒子線によってパターンを被露光物上に露光する荷電粒子線露光装置であって、一括露光する領域の大きさが、被露光物上で最大長が１mm以上とされており、かつ被露光物上での開き角分布の半値半幅が１mrad以下とされていることを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 特許庁

To provide a composition for sealing having a viscosity characteristic suitable for coating, especially viscosity which is free from the occurrence of the clogging of a nozzle of a dispenser, having good shape holding property with respect to a sealing pattern, forming a high accuracy sealing layer (in sealing width and thickness), in regard to the composition comprising spherical spacers.例文帳に追加

球状スペーサーを含有する封止用組成物において、塗布に適した粘度特性を有し、特にディスペンサーのノズル詰まりが生じない粘度を有するとともに、封止パターンの形状維持性が良好であり、しかも高精度の封止層（封止幅、封止厚み）を形成することができる封止用組成物を得る。 - 特許庁

The developing device is provided with an atmospheric pressure measuring part 101, and a control part 106 controls the projection pressure of a developing solution 105 projected from a nozzle 103 by a developing solution projection part 104 on the basis of correlation information between dimensional errors in the line width of a pattern which are generated under a plurality of atmospheric pressures and the measured atmospheric pressures.例文帳に追加

現像装置に気圧計測部１０１を設け、制御部１０６が複数の気圧下において生じるパターンの線幅の寸法との誤差を計測した気圧との相関関係情報を基に、現像液射出部１０４がノズル１０３から射出する現像液１０５の射出圧を気圧に応じて制御する。 - 特許庁

To provide a paste impartion apparatus capable of suppressing the thickness at ends in the width direction of a paste pattern from being made thiner than the thickness at a center part and suppressing the thickness at the center part from being thick excessively when paste is imparted to an electronic component, and to provide a method for manufacturing the electronic component.例文帳に追加

電子部品にペーストを付与した場合において、ペーストパターンの幅方向の端部の厚みが中央部に比べて薄くなることを抑制することが可能であるとともに、中央部の厚みが厚くなりすぎることを抑制することが可能なペースト付与装置および電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, a pattern width is adjusted by using a previously found correction table to correct variance in characteristic impedance caused when the work board 20 has variance in substrate thickness and variance in electric characteristic due to the plate thickness and material thickness varying with places of the substrate, and consequently the electric characteristic variance can be suppressed.例文帳に追加

従って、ワークボード２０の基板厚にばらつきを有する場合に生じる特性インピーダンスのばらつき、つまり基板の各所でばらつく板厚や材料厚に起因した電気特性のばらつきを抑制するため、予め求めた補正テーブルによりパターン幅を調整することによって、電気特性ばらつきを抑制できる。 - 特許庁

The spiral inductor includes a tabular insulating substrate and the spiral conductive patterns formed at least on one surface of a tabular insulating substrate, and the spiral conductive pattern is formed in such a manner that the width of the line differs along the longitudinal direction of the conductive line forming the spiral.例文帳に追加

本発明は、平板形状の絶縁基板と、上記絶縁基板の少なくとも一面に形成されるスパイラル形態の導電パターンを含み、上記導電パターンはスパイラルを成す導線の長さ方向に従って線幅が異なるように形成されることを特徴とするスパイラルインダクタを提供する。 - 特許庁

Furthermore, the padding image 15c is subjected to thinning processing to find a thinned image 15d in which the line width of the line element is one pixel, and a branch point of the line element of the irregular linear pattern is detected by collating a plurality of preregistered branch patterns 30 with the thinned image 15d.例文帳に追加

更に穴埋め画像１５ｃに対して細線化処理を行って前記線要素の線幅が１画素の細線化画像１５ｄを求め、この細線化画像１５ｄに対して予め登録されている複数の分岐パターン３０を照合することにより不規則線状パターンの線要素の分岐点を検出する。 - 特許庁

Further, in the printed circuit board where one conductor layer is formed, and the RFID tag is mounted, at the portion of the printed circuit board where no wiring conductor pattern is provided, a through hole having equivalent sizes in length and width of the RFID tag is formed and the RFID tag is inserted therein.例文帳に追加

また、少なくとも１層の導体層を形成し、ＲＦＩＤタグを装着したプリント基板において、導体層による配線パターンの設けられていないプリント基板箇所にＲＦＩＤタグと同等の縦横寸法の貫通穴が設けられ、貫通穴にＲＦＩＤタグが嵌め込まれた構造である。 - 特許庁

The manufacturing process of stacked containers under this invention enables obtaining a stacked container having a large number of storage recesses 12, by cutting off, in a width direction, a synthetic resin belt-like shaped-body 1 formed with a large number of storage recesses 12 being arranged in a reticular pattern, while satisfying the specific conditions 1 and 2.例文帳に追加

本発明の積み重ね容器の製造方法においては、多数の収納凹部１２が格子状に配置されて形成された帯状の合成樹脂製成形体１を、特定の条件１及び２を満足させて幅方向に切断することにより、多数の収納凹部１２を有する積み重ね容器を得る。 - 特許庁

A control portion 17 inputs to itself the reflection factor and desired pattern width of a wafer which is measured by a reflection factor measuring device 20 before applying a photoresist to the wafer, and computes the exposure by using the exposure function stored in the exposure function storing portion 18 to control the power to be fed to a light source 11.例文帳に追加

制御部１７は、反射率測定装置２０で測定したフォトレジスト塗布前のウェハの反射率と所望のパターン幅とを入力し、露光量関数記憶部１８に記憶されている露光量関数を用いて露光量を演算して、光源１１に供給される電力を制御する。 - 特許庁

The printer 100 decides whether the luminance changes in blocks horizontally and vertically adjacent to each other continue, based on pattern numbers of blocks recorded in the RAM 170 and links edge patterns, when the luminance changes continue, to accumulate the width of the blur that exists over the blocks.例文帳に追加

プリンタ１００は、ＲＡＭ１７０に記録された各ブロックのパターン番号に基づき、水平方向および垂直方向に隣接するブロック同士の輝度変化が連続するか否かを判断し、その輝度変化が連続する場合にエッジパターンを連結していくことで、ブロックを跨いで存在するぼやけの幅を累積する。 - 特許庁

At that time, in a first lighting mode, a specific light chip 12aB arranged to be aligned of its front end edge on a focusing line FL of the parabolic cylindrical surface, and a pair of specific chips on both right and left sides of the previous chip, are simultaneously lit, so that a landscape light distribution pattern with a narrow width of its upper and bottom parts is formed.例文帳に追加

その際、第１の点灯モードでは、上記放物柱面の焦線ＦＬ上に前端縁を揃えるようにして配置された特定発光チップ１２ａＢおよびその左右両側の１対の特定発光チップを同時点灯させ、これにより上下幅が狭い横長の配光パターンを形成する。 - 特許庁

A length of a shadow-like dark part with a distance between LED chips as a bottom side length becomes about 3 cm and the same is masked, and a strip-like region of the incident light dispersing pattern 13 becomes 1.5 cm and if the same is masked, a masking width becomes reduced to one half and an effective lighting area can be enlarged.例文帳に追加

ＬＥＤチップ２１の間隔を底辺とする影状暗部３の長さＬ１が３ｃｍ程度となり，そのマスクを行うのに対して，入射光拡散パタン１３の帯状領域幅Ｌ２が１．５ｃｍとなるから，この部分をマスクするとしてもマスク幅が１／２に縮小して有効照明面積を拡大できる。 - 特許庁

In a diffuse reflection board 22 which has a plurality of unit reflective regions P having the same external size and the same ruggedness pattern 22a formed on the surface and on which the unit reflective regions P are adjacently and repeatedly arranged along a predetermined direction, width of the unit reflective region P along the predetermined direction is made to be ≥600μm.例文帳に追加

同一の外形寸法を有すると共に表面に同一の凹凸パターン２２ａが形成された単位反射領域Ｐを複数有し、単位反射領域Ｐが所定方向に沿って隣接して繰り返し配置された拡散反射板２２において、所定方向に沿う単位反射領域Ｐの幅を６００μｍ以上とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a shadow mask in which fluctuation in resist pattern dimensions after development treatment is suppressed by making uniform the sensitivity in width direction of a resist film formed on both sides of a metal substrate, in the resist coating process for forming the resist film by coating a photoresist on both sides of the long metal substrate and drying in a drying chamber.例文帳に追加

長尺の金属基材の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥チャンバーで乾燥してレジスト膜を形成するレジスト塗布工程において、金属基材の両面に形成されたレジスト膜の幅方向の感度を均一化して現像処理後のレジストパターン寸法のバラツキを抑えたシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the embroidery structure of embroidery patterns is constituted in such a way that image are displayed by a plurality of band-like scanning line patterns L placed parallel with each other, the pattern L contains a series of stitches S and T inclined to the band width direction in the same direction in an angle range between >0° and <90°.例文帳に追加

本発明の刺繍柄の刺繍構造は、平行に配された複数の帯状の走査線柄Ｌによって画像を表現した刺繍柄の刺繍構造において、走査線柄Ｌは、その帯幅方向に対して同一方向に０°より大きく９０°より小さい範囲内で傾いた一連のステッチＳ，Ｔを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To solve the following problems: in creating an interconnection pattern data, making an increment of the width and interval of the interconnection a minimum dimensonal unit increases the data volume of the OPC (Optical Proximity Correction) voluminous, causes a step of its setting and verification substatial, increases the OPC processing time to enlarge the processing system.例文帳に追加

半導体装置における配線パターンデータ作成において、配線幅および配線間隔の変更の刻みを最小寸法単位とすると、ＯＰＣ（Optical Proximity Correction）のデータ量が膨大なものとなり、その設定および検証に工数が多大なものとなり、また、ＯＰＣ処理時間を増大すると共に処理システムの肥大化を招くことにもなる。 - 特許庁

In a structure provided with a light screening film used also for a wiring film in an uppermost layer of a multilayer wiring disposed on a pixel array of a solid-state image sensor, the opening pattern of the light screening film is formed so that its opening diameter grows gradually large (that is, a wiring width is narrow) from a central region to a circumferential edge region of a pixel array.例文帳に追加

固体撮像素子の画素アレイ部上に配置される多層配線の最上層に配線膜兼用の遮光膜を設けた構造において、この遮光膜の開口パターンを画素アレイ部の中心領域から周縁領域にかけて、徐々に開口径が大きくなる（すなわち、配線幅が狭くなる）ように形成する。 - 特許庁

To easily and reliably perform focusing control of laser light and to make a marking width to be a laser light spot diameter or below in a process for irradiating a material layer formed on a substrate which constitutes a recording medium and a master disk for manufacturing the recording medium with laser light according to a recording pattern in a manufacturing process of the recording medium and the master disk for manufacturing the recording medium.例文帳に追加

記録媒体および記録媒体製造用原盤の製造過程で、これら記録媒体および記録媒体製造用原盤を構成する基板上に形成した材料層にレーザ光を記録パターンに応じて照射する工程で、レーザ光のフォーカシング制御を容易、確実に行い、また、記録マーク幅をレーザ光スポット以下にする。 - 特許庁

The phase diffraction optical device has random phase distribution, in which a large number of unit patterns having different phase modulation functions are arranged with each unit pattern, consisting of recesses and projections having a period shorter than the wavelength of the light to be used, and different phase modulation functions in the unit patterns are obtained, by varying the width ratio of the recesses and projections in the recessed and projected part.例文帳に追加

異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。 - 特許庁

The conductor is exposed at the forward end part of the connecting cable 15 as a connection terminal 15a and the width of the connection terminal 15a is decreased from the way in the longitudinal direction to form a connection terminal part 15b which is then connected electrically through a solder 16 with a terminal pattern 12a provided on the circuit board 12.例文帳に追加

接続ケーブル１５の先端部の導体を露出させて接続端子１５ａとし、接続端子１５ａの幅を長手方向の途中から先端に向けて小さくした接続端子部分１５ｂを形成し、回路基板１２上に設けた端子パターン１２ａと接続端子部分１５ｂとをはんだ１６にて電気的に接続する。 - 特許庁

On both sides in the tape longitudinal direction of A-D bursts constituting an LTO servo pattern respectively, auxiliary pulses 10 parallel with a line orthogonal to a tape edge and having a length roughly equal to a spacing along the line orthogonal to the tape edge between both ends in the tape width direction of the respective bursts A-D are formed at prescribed spacings in the tape longitudinal direction from the respective bursts A-D.例文帳に追加

LTOサーボパターンを構成するA〜Dバーストのテープ長手方向の各々両側に、テープエッジに直交する線に対して平行であり、且つA〜Dの各バーストのテープ幅方向両端間の、前記テープエッジに直交する線に沿う間隔と略等しい長さの補助パルス10を、A〜Dの各バーストからテープ長手方向に所定間隔隔てて形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the luminous energy in two-dimensionally distributed picture drawing units, in particular, a black image can be formed with high definition and extremely little variance in the line width, and to provide a color filter having excellent display characteristics, and a display apparatus using the color filter.例文帳に追加

２次元的に分布した各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能であり、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator fixing sheet having a multi-phase electrode pattern of three phases or more, which requires only a one-side wiring not using a through-hole, has an electrode line of long extended total width, has a large static power, uses uniform static power for each of phases and can be easily manufactured: and to provide an electrostatic actuator using the fixing sheet.例文帳に追加

スルーホールを使用しない片面配線で済ませることができ、電極線の延長総幅が長く静電力が大きく、各相による静電力が均等であり、しかも製造が容易な３相以上の多相電極パターンを有する静電アクチュエータの固定シートおよびその固定シートを使用した静電アクチュエータを提供する。 - 特許庁

To reduce an electrode width and increase an electrode cross sectional aspect ratio for the purposes of expanding a light indent opening face and lowering electrode wiring resistance, a discharge passage is tilted in a coating direction relative to the cell substrate by using the coating head 5 whose nozzles are shaped like a long hole, whereby collision energy at discharge time is alleviated and a desired electrode pattern is obtained.例文帳に追加

光入射開口面の増加と電極配線抵抗の低減という目的から電極幅を低減し電極断面アスペクト比を増大させるため、長孔のノズル形状の塗布ヘッド５を用い吐出流路をセル基板に対して塗布方向に傾けることで、吐出時の衝突エネルギを緩和して所期の電極パターンが得られる。 - 特許庁

To provide a coloring light-sensitive resin composition, which has high line width stability relative to development and can form a pattern with high resolution, as well as a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure, and particularly to provide a coloring light-sensitive resin composition suitable for forming a colored pixel of a color filter or the like and a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure.例文帳に追加

現像に対する線幅安定性が高く、高解像度のパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 70 capable of forming the light distribution pattern for a high beam divided into a plurality of irradiation areas in the vehicle width direction and switching the existence of irradiation of respective irradiation areas, and a control part for controlling the vehicular lighting fixture based on information for indicating a vehicle front state.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、車幅方向で複数の照射領域に分割されそれぞれの照射領域の照射の有無が切り替えられるハイビーム用配光パターンを形成可能な車両用灯具７０と、車両前方状況を示す情報に基づいて車両用灯具を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

Analysis (G analysis) of rolling in a flat road surface model of a tire model in which the shape, structure and material of a pneumatic tire are divided into a limited number of elements and analysis (L analysis) of rolling in a road undulation model including an undulation finer than the width of narrow grooves of a partial block model indicating a part of a tread pattern having the narrow grooves formed thereon are separately executed.例文帳に追加

空気入りタイヤの形状、構造、材料を有限個の要素に分割したタイヤモデルの平滑路面モデルにおける転動の解析（Ｇ解析）と、細溝が形成されたトレッドパターンの一部を表す部分ブロックモデルの細溝の幅よりも細かい起伏を含む路面起伏モデルにおける転動の解析（Ｌ解析）とを別々に実行する。 - 特許庁

To provide a composite filter including an electromagnetic wave shielding material having each function of an electro-magnetic-wave shielding function and a near infrared absorbing function and being capable of obtaining a lower surface resistivity during the acquisition of the thinning of the line width of a pattern and being capable of preventing the whitening of an image by outdoor daylight and the lowering of contrast in the electro-magnetic-wave shielding material.例文帳に追加

電磁波遮蔽機能と近赤外線吸収機能の各機能を有し、更に、電磁波シールド材において、パターンの線幅の細線化が求められる中、より低い表面抵抗率とすることができ、且つ、外光による画像の白化、コントラスト低下の防止が可能な電磁波シールド材を含む複合フィルタを提供する。 - 特許庁

As an identification pattern of the frame, an isolated pulse having a pulse width sufficiently wider than a data isolated pulse is arranged in the head of the frame as dummy data.例文帳に追加

ｎチャネルの１ビット量子化伝送を対象とし、データ部分の各チャネルが論理“１”の場合は多重化後のチャネル長の１／ｎ以下のパルス幅の孤立パルスを当該チャネルに割り当て、論理“０”の場合は無信号とし、上記のフレームの識別パタンとしてはこのデータ孤立パルスよりは十分に広いパルス幅の孤立パルスをフレーム先頭位置にダミーデータとして配置する構成とした。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加

スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。 - 特許庁

The mask for near field exposure comprises a mask base 100 and a light shielding film 102 and has an aperture pattern having one or more openings 101 of a width smaller than a wavelength of exposure light in the light shielding film, wherein the mask base is made of a rubber elastic material (polydimethylsiloxane) which is transparent to exposure light.例文帳に追加

マスク母材１００と遮光膜１０２とからなり、該遮光膜に露光用光の波長よりも小さい幅の開口１０１を一つ以上含む開口パターンを有する近接場露光用マスクにおいて、 前記マスク母材が、前記露光用光に対して透明なゴム状弾性体（リジメチルシロキサン）によって形成された構成とする。 - 特許庁

In this pneumatic tire provided with a tread pattern having the rib 1 continuous on the whole periphery of the tire through a plurality of sipes 11, the sipe 11 has a reference face B in the width direction or oblique direction of the tire, and a recessed part 11a and a projecting part 11b respectively projected onto the opposite sides with respect to the reference face B.例文帳に追加

複数のサイプ１１を介してタイヤ全周に連続するリブ１を有するトレッドパターンを備えた空気入りタイヤにおいて、前記サイプ１１は、タイヤ幅方向又は斜め方向の基準面Ｂを有すると共に、その基準面Ｂに対して各々逆側に突出した凹部１１ａと凸部１１ｂを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine metallic pattern of a semiconductor element, based on a damascene technique which can ensure broad width of a metallic layer for improving the operational speed of the element and can easily control steps by etching only the metal layer without etching the metallic layer, anti-diffusion layer and bonding layer at the same time.例文帳に追加

金属膜の幅を広く確保可能として素子の動作速度を向上させることができ、従来のように金属膜，拡散防止膜及び接着膜を同時に蝕刻せずに、金属膜のみを蝕刻することにより工程を容易に制御可能である象嵌技法を利用した半導体素子の微細金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable wiring board including a highly reliable conductor pattern with a stable line width, for which generation of cracks, disconnection and a short-circuit or the like is prevented, to provide a ceramic compact suitably usable in manufacturing of the wiring board, and to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the wiring board.例文帳に追加

クラック、断線、ショート等の発生が防止された、線幅の安定した信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること、また、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁