「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

In manufacturing a light emitting device, a second substrate 600a has a recess 607a and a recess 608a, thereby, the width of a seal pattern 605b can be maintained narrow and moreover, exudation of the sealing material can be prevented.例文帳に追加

凹部６０７ａ及び凹部６０８ａを有する第二の基板６００ａで発光装置を作製することで、シールパターン６０５ｂの幅を細く保つことができ、また、シール材のしみ出しを防止できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive material by a simple method capable of obtaining a highly precise wiring pattern with superior conductivity without thickening of line width as seen at a plating process.例文帳に追加

めっき処理時に見られるような線幅の太りがなく、かつ簡便な方法によって、高精細かつ高導電性の配線パターンが得られる導電性材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

That is, only by making the drop 31 land in the expanded recessed part 21 having large area, the groove 20 having narrow width can be filled with the liquid 32, so that a fine pattern is easily formed on the base material 2.例文帳に追加

つまり、面積の大きい拡大凹部２１に液滴３１を着弾させるだけで、幅が狭い溝２０に液体３２を充填できるため、基材２に微細なパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁

Further, a pattern in which a surface of a metal member is made to be uneven face is in a belt shape formed on a center portion excluding both end portions in a width direction in at least inner and outer peripheries of the annular portion 21.例文帳に追加

そして、少なくとも環状部分２１の内外周であって幅方向の両端部を除いた中央部に金属部材の表面が凹凸面となるような模様を帯状に形成する。 - 特許庁

Herein, the pattern (doll) displayed in a large figure is displayed in a dynamic manner throughout a liquid crystal display 23 without being always constrained by the vertical width of individual scroll display samples 24a-24c.例文帳に追加

ここで、大きく表示される図柄（人形）は、必ずしも個々のスクロール表示列２４ａ〜２４ｃの上下幅に拘束されず、液晶表示器２３全体に亘るダイナミックな表示がなされる。 - 特許庁

The width of the dot D itself is set to be 0.1-0.5 mm for instance, and the gap S and respective color concentrations are adjusted and set according to the light reflection by the metallic layer 5 and a design pattern, etc.例文帳に追加

ドットＤ自体の幅は、例えば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍに設定され、隙間Ｓや各色濃度は、メタリック層５による光反射や下記意匠パターンなどに応じて調整、設定がなされている。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head having excellent recording performances such as high recording magnetic field or high recording efficiency in a narrow track width of 2 μm or lower, and capable of highly accurately forming a narrow magnetic pole pattern.例文帳に追加

２μｍ以下の狭いトラック幅においても高記録磁界、高記録効率等の優れた記録性能を有し、かつ狭い磁極パターンを高精度に形成できる薄膜磁気ヘッドを提供すること。 - 特許庁

To provide a control method and a device of a member carrying track capable of always arranging a member on a sheet in a specific arrangement pattern, even when a width variation and meandering are caused in the sheet.例文帳に追加

シートに幅変動や蛇行が生じた場合でも、常に一定の配置パターンで部材を該シート上に配置することのできる部材の搬送軌道の制御方法及び装置の提供を目的とする。 - 特許庁

The dummy gate pattern 13 is cut at a predetermined position in the gate width direction in the upper part of the diffusion layer 10, and performs a high-speed operation of the MOS transistor by reducing a resistance right beneath a cut portion 13a.例文帳に追加

ダミーゲートパターン１３は、拡散層１０の上部におけるゲート幅方向の所定位置で切断され、切断部１３ａの直下で抵抗を低減して高速なＭＯＳトランジスタの動作を実現する。 - 特許庁

In the magnetic sensor, a full-bridge circuit is constituted by collectively forming (collectively depositing) the artificial lattice type giant magnetoresistive elements R1-R4 of a pattern width of 6 μm on a main surface 15a of a silicon substrate 15.例文帳に追加

磁気センサはパターン幅が６μｍである人工格子型巨大磁気抵抗素子Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４をシリコン基板１５の主面１５ａに一括形成（一括成膜）することによりフルブリッジ回路を構成した。 - 特許庁

Since resist images 23a and 23b around the patterned part 10' become wider by a shrunk width S at a time on the side of the patterned part, the patterned part 10' become narrower and a fine pattern can be formed.例文帳に追加

すると、パターン部１０´の周囲のレジスト像２３ａ、２３ｂはパターン部側で、シュリンクされた幅Ｓずつ太り、その結果パターン部１０´の幅が細くなり、微細なパターンを形成することができる。 - 特許庁

A stamper 1 is used to transfer a wiring pattern including a groove having a width of 30 μm or less to a resin on at least a front surface of the board 2.例文帳に追加

基板２の少なくとも表面にある樹脂に、溝幅が３０μｍ以下の溝を含む配線パターンを転写させるために用いるスタンパ１であり、前記配線パターンと凹凸が逆のパターンを備えている。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device excellent in work efficiency capable of reducing the time required in re-adjustment or the like even when a plurality of kinds of semiconductor mounting tapes different in width are inspected.例文帳に追加

テープ幅が異なる複数種類の半導体実装用テープを検査する場合であっても、再調整等にかかる時間を低減でき、作業効率に優れたパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a spiral pattern membrane element capable of effectively preventing adhesion from deteriorating at sealed sections while maintaining an effective membrane area without extending the coating width of an adhesive and its manufacturing method.例文帳に追加

接着剤の塗布幅を広げずに、有効膜面積を維持しながら、封止部における接着力の低下を効果的に防止することができるスパイラル型膜エレメント、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When the thin film magnetic head 1 is polished along the width direction, the height-direction dimension of the first polishing pattern 31 appearing in a polished surface is continuously increased according to its polishing amount.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッド１を幅方向に沿って研磨加工をおこなうと、その研磨量に応じて研磨面に表出する第１研磨パターン３１の高さ方向の寸法が連続的に増大することとなる。 - 特許庁

The adhesive contains the compound, and the substrate has a metallic thin film pattern having a line width of 0.01-10 μm and useful as a wire grid polarization plate, a diffraction grating, a metal-wired substrate for electronic device, etc.例文帳に追加

接着剤は、該化合物を含み、基板は、０．０１μｍ〜１０μｍの線幅の金属薄膜パターンを有し、ワイヤーグリッド偏光板、回折格子、電子デバイス用金属配線基板等に有用である。 - 特許庁

To make the width of products constant by optimizing edger pattern by PI operation whenever the products are manufactured by hot-rolling a material to be rolled and to improve yield by decreasing the amount of crops in this way.例文帳に追加

被圧延材を熱間圧延して製品を製造する毎に、ＰＩ演算によって、エッジャパターンを最適化して、製品の幅を一定にし、これによってクロップ量を減らして歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an oxide microstructure, facilitating precise formation of an oxide microstructure having a pattern with a fine width and a columnar shape with a high aspect ratio.例文帳に追加

幅が微細なパターンで、かつ、アスペクト比の高い柱状の形状を有する微細酸化物構造体を精密に形成することができる微細酸化物構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical recording apparatus capable of acquiring predetermined resolution even when a line width of an exposure pattern is close to a wavelength of exposed light, and reducing time necessary for exposing, and to provide its method.例文帳に追加

露光パターンの線幅が露光光の波長に近い場合であっても所定の解像度が得られかつ露光に要する時間が低減する、光学的な記録装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.例文帳に追加

基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

The pattern applied to the steel panel is set to an almost stripe like state formed in predetermined width in the direction crossing the flow direction of the steel panel almost at a right angle at the time of production of the decorative steel panel.例文帳に追加

また、前記鋼板に付与される絵柄は、化粧鋼板製造時の鋼板の流れ方向に対して略直交する方向に所定幅で形成された略ストライプ調に設定される。 - 特許庁

Next, a shared mask pattern provided with recessed/projected parts for upper face and for lower face for regulating the magnetic pole shape, symmetrically with respect to a center line parallel to the direction of track width, is exposed to the photoresist.例文帳に追加

次に、磁極形状を規定する上面用凹凸部と下面用凹凸部をトラック幅方向に平行な中心ラインに対して対称に有する共有マスクパターンを、フォトレジストに露光する。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

This mask is provided with a bridge 63 having a width narrower than the resolution of transfer exposure between two non-exposure patterns 61, 61' without opened holes, which are provided adjacent to each other separated by an exposure pattern 62 with open holes.例文帳に追加

本マスクは、孔の開いた露光パターン６２を隔てて隣り合う２つの孔の開いていない非露光パターン６１、６１′間に、転写露光の解像度より細い幅のブリッジ６３が設けられている。 - 特許庁

When forming a sub-mount 4, the pattern of an oxide film, which has a certain width of groove on the top, is made by growing an SiO2 film on the face (100) of a silicon substrate 41, both whose sides of top and bottom are polished.例文帳に追加

サブマウント４を形成するとき、上下両面が研磨されたシリコン基板４１の（１００）面にＳｉＯ_2膜を成長させて上面に一定幅の溝を有する酸化膜のパターンをつくる。 - 特許庁

The maximum length L of beams 1 and 3 is specified based on the amount of deformation in allowable beams and width W in the beams 1 and 3, and a mask pattern is composed by beams having length that does not exceed the maximum value.例文帳に追加

梁１、３の長さＬの上限値を、許容できる梁の変形量および梁１、３の幅Ｗに基づいて定め、上限値を越えない長さの梁によってマスクパターンを構成する。 - 特許庁

To improve reduction of half-width (θ//) in the horizontal direction of a far field pattern by current flow, in an AlGaAs based ion implantation type gain guide laser light emitting device which is formed by using a so-called off substrate.例文帳に追加

いわゆるオフ基板を使用して形成されるＡｌＧａＡｓ系イオン注入型ゲインガイドレーザ発光装置における、通電による遠視野像の水平方向の半値幅(θ//)の減少の改善を図る。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting element having no problem of optical oozing-out to a GaN substrate and the generation of crack or dislocation of an n-type clad layer while being small in the half-value width of an FFP (Far Field Pattern) in the vertical direction.例文帳に追加

ＧａＮ基板への光滲み出し、及びｎ型クラッド層のクラックや転移の発生の問題なく、垂直方向のＦＦＰ（遠視野像）全半値幅の小さな半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The metal pattern has a line width of 15-40 μm and a line pitch of 100-400 μm, the bond layer is 0.03-2.5 μm thick, the electroless metal plating layer is 0.05-1.0 μm thick, and the electroplated metal layer is 2-15 μm thick.例文帳に追加

・ 該結合体層の膜厚が０．０３〜２．５μｍ ・ 該無電解金属メッキ層の膜厚が０．０５〜１．０μｍ ・ 該電解金属メッキ層の膜厚が２〜１５μｍ であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved by overcoming the problem of development defects, provided with a superior in-plane uniformity of line width, and also superior in LWR performance, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The four-face opposed corrugated brushes 11 are smaller in the angle between protruding parts, than a three-face opposed corrugated brush, and the cleaning speed of a road sweeper can be enhanced when the brush diameter, the pattern width and the rotating speed are equal.例文帳に追加

この４面合せの波ブラシ１１は３面合せの波ブラシより、凸部間角度が小さく、ブラシ直径とパターン幅と回転数が同じ場合、清掃車の清掃速度を速くできる。 - 特許庁

A connector housing 10 of this waterproof joint connector is provided with two stories of rows of cavities 11 arranged in parallel in its width direction, and a bus bar 50 is engaged at each story for short-circuiting terminal fittings 20 in a prescribed pattern.例文帳に追加

コネクタハウジング１０には幅方向に複数列が並列するキャビティ１１が上下二段、設けられ、各段毎にバスバー体５０が嵌合し、端子金具２０を所定のパターンで短絡させている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of forming processed patterns of which, the depth is different from each other, and to provide a processed pattern having a U-shaped cross section of which, the depth and the width smoothly changes.例文帳に追加

少ない工程数で、深さの異なる加工パターンを一括形成する製造方法と、深さと幅とが滑らかに変化するＵ字型の断面形状を有する加工パターンとを提供する。 - 特許庁

To perform correlation operation, even when the minimum line width of an ABS pattern is not an integral multiple of an array interval of an ABS light-receiving element array, and enables measurement of moving distance, with high accuracy.例文帳に追加

ＡＢＳパターンの最小線幅がＡＢＳ受光素子アレイのアレイ間隔の整数倍となっていない場合でも、相関演算を行うことができ、高精度に移動距離を計測可能とする。 - 特許庁

To enhance coating workability by increasing coating width without generating color irregularity by forming a flat spray pattern uniformly mixed with coating particles having a plurality of colors sprayed at the same time.例文帳に追加

同時に噴霧される複数色の塗料粒子を均一に混在させた偏平のスプレーパターンを形成することにより、色ムラを起こすことなく、塗幅を広げて塗装作業性を向上させる。 - 特許庁

To form a pattern having a high line width accuracy by promoting chemical amplification of a resist at the time of heat-treating a substrate which is applied with the chemically-amplified resist and is exposed.例文帳に追加

化学増幅型のレジストが塗布され露光された基板を加熱処理するにあたり、レジストの化学増幅反応を促進させて線幅精度の高いパターンを形成できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The directivity and radiation pattern of the antenna are controlled with the first reflection plate 10, the second reflection plate 20 and the parasitic element 40, and the excellent F/B ratio and the wide half width can be achieved.例文帳に追加

第１反射板１０、第２反射板２０および無給電素子４０によりアンテナの指向性および放射パターンが制御され、良好なＦ／Ｂ比および広域な半値幅を実現することができる。 - 特許庁

The longitudinal frames 20, 22 are joined with both ends in vehicle width directions of transverse frames 16A, 16B, and the strength of the entire hood inner 10B is secured by forming a substantially ladder-shaped pattern as a whole.例文帳に追加

縦骨２０、２２は横骨１６Ａ、１６Ｂの車幅方向両端と接合され、全体として略梯子型のパターンを形成することにより、フードインナ１０Ｂ全体の強度を確保している。 - 特許庁

Regarding the registration pattern 121, only the colorless mark 119K is made shorter than other colored marks 119Y, 119M and 119C in terms of the mark width H in the moving direction of the belt 31.例文帳に追加

そして、レジストレーションパターン１２１は、無彩色マーク１１９Ｋだけが、他の有彩色マーク１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃに比べて、ベルト３１の移動方向におけるマーク幅Ｈが狭くなっている。 - 特許庁

As a result, the pulse width t is made to be in the range of 3 μs≤t<30 μs so that a high quality marking pattern having high visibility can be formed by improving the productivity of an X ray film.例文帳に追加

これにより、パルス幅ｔが３μｓｅｃ≦ｔ＜３０μｓｅｃとなるので、Ｘレイフィルムの生産性を向上させながら視認性が高く高品質のマーキングパターンを形成することができる。 - 特許庁

Further, since the liquid retention part 37 is so set as to have a holding width t2 for holding a solvent 50, the solvent 50 held by the liquid retention part 37 never makes an irregular pattern.例文帳に追加

また、溶媒５０を保持する保持幅ｔ２が均一になるように液体保持部３７が設けられているので、当該液体保持部３７に保持される溶媒５０が不規則なパターンになることは無い。 - 特許庁

To provide a flat panel display device having an electrode pattern which can thicken the line width of a leader part 103 with a simple design regarding the electrode of the thinned leader part 103 causing disconnection.例文帳に追加

断線の原因となる細化された引出し部１０３電極について、単純な設計で引出し部１０３の線幅を太くできる電極パターンを有するフラットパネルディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

Since a desired receiving antenna pattern defined by arbitrary beam direction and beam width can be obtained, a variable beam array antenna can be constituted depending on the traffic environment.例文帳に追加

これにより、任意のビーム方向とビーム幅によって定義される所望の受信アンテナパターンを得ることができるので、トラフィック環境に合わせてビームが可変であるアレーアンテナを構成することができる。 - 特許庁