「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

By thus doing, spreading of the pattern formed in the alumina layer 16 more than an aperture pattern 20a formed in the hard mask (Au) 20 is suppressed, consequently write-core width of the main magnetic pole 414 can be narrowed.例文帳に追加

このようにすることで、アルミナ層１６に形成するパターンがハードマスク（Ａｕ）２０に形成された開口パターン２０ａよりも広がるのを抑制することができ、ひいては主磁極４１４のライトコア幅の狭小化を図ることが可能である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper, in which the stamper is formed by controlling the width of a projecting part pattern as desired while estimating an amount of side etching during pattern transfer by an imprinting method and satisfactory mold release characteristic is obtained when applying a mold release agent.例文帳に追加

インプリント法によるパターン転写時のサイドエッチング量を見込んで凸部パターンの幅を所望の通りに制御して形成できるとともに、離型剤を塗布したときに良好な離型性が得られるスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

Loading effect and/or fogging effect for changing a CD are calculated, mask CD data are corrected in advance by the calculation, and exposure is made by correction pattern data, thus correcting line width in a pattern, without generating process loss due to additional exposures.例文帳に追加

ＣＤを変化させるローディング効果及び／またはフォギング効果を計算し、これによりマスクＣＤデータをあらかじめ補正し、補正されたパターンデータにより露光することにより、追加露光による工程損失の発生なしにパターンの線幅を補正できる。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of easily forming a resist pattern with projections narrow in width without causing troubles, such as delamination and the like, when it is manufactured, and to provide methods of manufacturing a magnetic recording medium and a magnetic head where the above method is applied.例文帳に追加

凸部の幅の狭いレジストパターンを、容易に且つ製造時の剥離等の問題なく形成できるレジストパターン形成方法、及びその方法を適用した磁気記録媒体の製造方法及び磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To easily remove the limit on the shifter width, prevent the narrowing of a gate wiring pattern, wire breaking and retraction, and distortion of a gate electrode pattern, and facilitate the shrinking processing of the device area, and improve the uniformity of the size of an extremely fine gate.例文帳に追加

シフタ幅の制限解消が容易になると共に、ゲート配線パターンの細り、断線及び後退の発生や、ゲート電極パターンの歪みを防止し、デバイス面積のシュリンク処理も容易となり、極微細ゲートの寸法均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation apparatus using an ink jet method which can easily manage the width of a resist line and can respond to fine pattern formation and can prevent the generation of a satellite (mist) and makes double-sided image formation possible.例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

A mesh pattern of resin composition having an average line width of 50 μm or less is formed on a transparent base material by gravure printing method, and a metal layer is provided on that pattern thus producing a transparent electromagnetic wave shielding material imparted with conductivity.例文帳に追加

透明基材上にグラビア印刷法により樹脂組成物からなる平均線幅５０μm 以下の網状パターンが形成され、そのパターン上に金属層が設けられ、導電性が付与されている透明電磁波遮蔽材料が提供される。 - 特許庁

The thin film magnetic head 1 is provided with a magnetic conversion element 20 having an MR membrane 15, and a first polishing pattern pair 30 including a first polishing pattern 31 extended so that the dimension of an orthogonal height direction is continuously increased along a width direction.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッド１は、ＭＲ膜１５を有する磁気変換素子２０と、直交する高さ方向の寸法が幅方向に沿って連続的に増大するように延在する第１研磨パターン３１を含む第１研磨パターン対３０とを備えている。 - 特許庁

Accordingly, a player can know about the probability of a final pattern in which the player is interested to be a jackpot pattern only by looking at the oscillation width, and therefore, the player's interest in the display of the ready-to-win patterns can be aroused.例文帳に追加

そのため、遊技者が関心を抱いている確定図柄が大当たり図柄になる度合について、前記揺動幅を見るだけで知ることが可能であるため、リーチ図柄の表示に対する遊技者の関心を喚起させることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus of forming a resist pattern by a dispenser system for forming double-sided images while easily managing the width of the resist line, coping with the fining of a pattern, and preventing the occurrence of satellites (mist).例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするディスペンサー方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The base recording strategy adjustment means includes: a pulse width dependency measurement control means 42a measuring the pulse width dependency on a difference in each reproduction signal modulation degree by reproducing each test pattern recorded for each erasure power condition; and a base pulse width selection control means 42b determining the optimum base pulse width for obtaining approximately the constant reproduction signal modulation degree independently of the erasure power condition.例文帳に追加

ベース記録ストラテジ調整手段は、各消去パワー条件毎に記録された各テストパターンを各々再生させ各再生信号変調度の差分に関するパルス幅依存性を測定するパルス幅依存性測定制御手段（４２ａ）、消去パワー条件に依存せず概ね一定の再生信号変調度が得られる最適ベースパルス幅を決定するベースパルス幅選択制御手段（４２ｂ）を含む。 - 特許庁

The Unryu Japanese paper has a pattern composed mainly of rayon fibers wherein the average of the maximum width of 500 patterns having a maximum width of ≥0.5 mm is 1.0-2.0 mm and the average length is 40-60 mm measured in order along the machine flow direction of the paper.例文帳に追加

紙のマシン流れ方向に従って順番に測定した、最大幅０．５ｍｍ以上の模様５００個の最大幅の平均値が１．０ｍｍ〜２．０ｍｍで、長さの平均値が４０ｍｍ〜６０ｍｍであるレーヨン繊維主体の模様を有する模様紙とする。 - 特許庁

To reduce the load on a designer by efficiently designing a peripheral pattern configuration (the width of a peripheral region), suitable to the kind of a semiconductor chip and to lower the cost by finding the effective number of chips on a wafer and a width with which dicing conditions are most advantageous.例文帳に追加

半導体チップの品種に適した周辺パターン構成（周辺領域の幅）の設計を効率良く行うことで、設計者負担を軽減すると共に、ウェハ上のチップ有効数およびダイシング条件が最も有利な幅を求めてコストダウン化を図る。 - 特許庁

Further, a pattern display area 142 other than the message display area 141 on a display screen 140 is contracted when the width of the area 141 is extended, and extend when the width of the area 141 is contracted.例文帳に追加

更に、表示画面１４０上のメッセージ表示領域１４１以外のパターン表示領域１４２を、メッセージ表示領域１４１の幅が拡大された場合に縮小し、メッセージ表示領域１４１の幅が縮小された場合に拡大するように構成した。 - 特許庁

To provide a conductivity paste for intaglio offset printing which can print well without producing poor transfer and disconnection accompanied therewith nor reduced reproducibility of printing shape and line width even when printing fine conductive pattern with the line width of ≤60 μm.例文帳に追加

線幅６０μｍ以下の微細な導電パターンであっても、転写不良とそれに伴う断線、あるいは印刷形状や線幅の再現性の低下等を生じることなく良好に印刷できる凹版オフセット印刷用導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

In an amplitude servo pattern 10 having a servo burst signal by burst bit strings 11, 12 arranged adjacent to direction toward track width r, phases in the direction toward the track width x of the servo burst string arranged adjacent to the direction along the track x vary by α mutually.例文帳に追加

トラック幅方向ｒに隣接して配置されたバーストビット列11，12によるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターン10において、トラック幅方向ｒに隣接配置されたサーボバースト信号のトラック方向ｘの位相が相互にαずれて異なっている。 - 特許庁

In a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of a magnetic disk device, a track width of 0.24 μm is formed by using an edge emphasis phase shift mask in which the phase of the transmissive light of one electrode pattern is reversed from that of the other transmissive light.例文帳に追加

磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転するエッジ強調型位相シフトマスクを用い、０．２４μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁

As for the vertical direction, a transition of matching with the reference pattern is similarly acquired with movement of the search window, and the width (W21, W22) of matching areas is compared with the vertical width of the search window at the height to determine whether there is a pedestrian.例文帳に追加

また、上下方向についても同様であり、探索窓を移動させながら基準バターンとの一致度の推移を取得し、一致度の高い領域の幅（Ｗ２１，Ｗ２２）とその高さにおける探索窓の縦方向の幅とを比較して、歩行者の有無を判定する。 - 特許庁

A method for forming the wiring pattern includes a step (A) of dropping a droplet having a diameter smaller than the first width and larger than second width onto the first area to form the conductive material layer covering both first and second areas.例文帳に追加

そして、配線パターン形成方法は、前記第１の幅以下かつ前記第２の幅以上の直径の液滴を前記第１領域に向けて吐出して、前記第１領域と前記第２領域とを覆う前記導電性材料層を形成するステップ（Ａ）を含む。 - 特許庁

Next, one process name is selected and the pattern data corresponding to it is shifted equivalent to the shifting width obtained by adding predetermined distance α to the maximum width yi and is displayed on a display screen 10 along with the process name (steps A4-A6).例文帳に追加

次に、１つの工程名を選択し、それに対応するパターンデータを、第２の座標軸に沿って、最大幅ｙｉに所定の距離αを加えたシフト幅の分だけシフトさせて、その工程名と共に表示画面１０上に表示する（ステップＡ４乃至Ａ６）。 - 特許庁

To provide a vehicle seat whose bank parts disposed on both sides of the seat in the width direction are attachable on and detachable from the seat body part and replaceable to a pattern different in height, design, or the like.例文帳に追加

シートの幅方向の両側に配置される土手部をシート本体部に対して着脱可能として土手部を高さや模様等の異なった形態のものに取替え可能とする。 - 特許庁

A reference pattern 102 of the length of 5 μm, the width of 1 μm, and the height (the film thickness) of 40 nm in plan view is formed on an insulating substrate 101 consisting of silicon oxide (SiO_2).例文帳に追加

酸化シリコン（ＳｉＯ_2）からなる絶縁性基板１０１の上に、平面視で長さ５μｍ，幅１μｍ，高さ（膜厚）４０ｎｍの基準パタン１０２が形成された状態とする。 - 特許庁

A plurality of reflecting parts 15 having a prescribed width comprising notches 14 exhibiting a substantially serrated shape along a direction crossing the reflector is formed with a prescribed pattern in the reflector.例文帳に追加

この反射体に、該反射体を横切る方向に略鋸歯形状を呈するギザギザ（１４、１４、…）からなる所定幅の反射部（１５、１５，…）を所定のパターンで複数個形成する。 - 特許庁

When the paste height or width of the paste pattern drawn on a substrate is changed, the flow rate of the paste and at least one of nozzle height and a drawing speed are changed synchronously.例文帳に追加

基板上に描画するペーストパターンでのペースト高さや幅を変化させる場合には、このペースト流量と、ノズル高さ，描画速度の少なくともいずれか一方とを同期して変化させる。 - 特許庁

To provide a mask and a method of monitoring mask contamination, which is capable of grasping the timing of cleaning of a mask before contamination causes a variation in the line width of a transferring pattern on a mask.例文帳に追加

コンタミネーションによるマスクの転写用パターンの線幅の変動が起きる前に、マスクの洗浄のタイミングを把握することができるマスクおよびマスクコンタミモニタ方法を提供することにある。 - 特許庁

In a model base OPC, the result of measuring the line width of a test pattern is compared with the calculation result of the model to judge whether or not the fitting residual falls within the tolerance of error (-a, +a).例文帳に追加

モデルベースＯＰＣにおいて、テストパターンの線幅の実測結果とモデルによる計算結果を比較し、まず、フィッティング残差が誤差許容範囲（−ａ、＋ａ）以内であるか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has high exposure sensitivity to g- and h-lines, is excellent in removability by development, and forms a colored pattern with no variations in a line width.例文帳に追加

ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、且つ、現像除去性に優れ、線幅にバラつきのない着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The marks 1a-1f and the marks 2a-2f are in the same pattern, the shape of each unit mark 1a, 1b,..., 1f and 2a, 2b,..., 2f is rectangular and they have the same length and width.例文帳に追加

マーク１ａ〜１ｆとマーク２ａ〜２ｆは同一のパターンであり、各々の単位マーク１ａ、１ｂ、…、１ｆ及び２ａ、２ｂ、…、２ｆの形状は矩形であり、同一の長さ、幅を有している。 - 特許庁

To provide a substrate for a display device and an image display device using the same, in which a thin film pattern of uniform film thickness is formed by combining patterns of different width.例文帳に追加

幅の異なるパターンを組み合わせて、膜厚の均等な薄膜パターンを形成した表示装置用基板とこの表示装置用基板を用いた画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To quickly and smoothly connect a connection portion of respective line segments constituting a polygonal line to conduct drawing, when a line graphic pattern such as the polygonal line is drawn using the line segments having a line width.例文帳に追加

線幅を有する線分を用いて折れ線等の線図形を描画する際に、折れ線を構成する各線分の接続部分を高速にしかも滑らかに繋いで描画する。 - 特許庁

To provide a system and method for exposure by which the fluctuation of the line width of a transferred pattern caused by the electrification of a substrate to be treated can be prevented, and to provide a method of manufacturing semiconductor device.例文帳に追加

被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the uniformity of the line width in the scanning direction of a pattern transfer image transferred to each section area can be improved as a result of the scanning exposure to each section region on the substrate W.例文帳に追加

このため、基板上の各区画領域に対する走査露光の結果、各区画領域に転写されるパターン転写像の走査方向における線幅均一性が向上する。 - 特許庁

In a wiring part 8d, two standard patterns of 10 μm are arranged in parallel so that the longitudinal direction is the direction that the gate wiring extends (horizontal direction in Figure), making the effective pattern width 20 μm.例文帳に追加

配線部８ｄは１０μｍの基準パターンをゲート配線の延在方向（図の横方向）に長手方向をもつ如く２本を並列にして実効的なパターン幅を２０μｍとする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition featuring a high resolution, reduced line edge roughness, and a minimized variation of line width with changing temperature, and a pattern forming process using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、温度変化に対しての線幅変動低減、また高解像性の化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely.例文帳に追加

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。 - 特許庁

The coil conductor 21 has a spiral portion 23 spirally formed and having a width W and a winding pitch P of a conductor pattern 25 forming the coil conductor 21 which are entirely the same.例文帳に追加

コイル導体２１は、渦巻状に形成され、コイル導体２１を形成する導体パターン２５の幅Ｗ及び巻きピッチＰが全体的に等しいスパイラル部２３を有している。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a conductive material which has a high conductivity and can form a wiring pattern in which a fattening of a wire width of a conductor circuit by an electroless copper plating is limited.例文帳に追加

導電性が高く、無電解銅めっきによる導体回路の線幅の太りが少ない配線パターンを形成することが出来る導電性材料の作製方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, uniform development can be realized in the surface of the substrate without causing any time lag in development starting time, and the line width uniformity of the resist pattern film in the surface of the substrate can be improved.例文帳に追加

これにより、基板面内で現像開始時の時間差が生じず、均一に現像することができ、基板面内のレジストパターン膜の線幅均一性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a substrate processor and processing method in which an appropriate inspection can be carried out in order to suppress variation in the line width of a pattern formed in a film on a substrate.例文帳に追加

基板上の膜に形成されたパターンの線幅の変動を抑制するために適切な検査を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

For the game machine, a special pattern start storage area M where a data width is 1 byte is set inside the RAM 116 and respective storage parts 116A-116C are set in the storage area M.例文帳に追加

ＲＡＭ１１６内にはデータ幅が１バイトの特別図柄始動記憶領域Ｍが設定され、記憶領域Ｍには各記憶部１１６Ａ〜１１６Ｃが設定されている。 - 特許庁

The pattern of the design 20 is one where basic unit forms connect to each other and continue vertically and horizontally, or one where lines of a prescribed width cross each other and continue vertically and horizontally.例文帳に追加

絵柄２０のパターンは、基本単位の形状が互いに接して縦横に連続しているもの、または、所定幅のラインが互いに交差して縦横に連続しているものである。 - 特許庁

In the electrode pattern of a series arm surface acoustic wave resonator shown in Figure 1, the vertical width of parts other than the comb- teeth of an interdigital electrode 2 configuring an IDT 11 is made wider.例文帳に追加

図１の直列腕弾性表面波共振器の電極パターンにおいて，ＩＤＴ１１を構成する櫛歯状電極２の櫛歯以外の部分の垂直方向の幅を広くとる。 - 特許庁

A defect automatic classification system recognizes an image 22 as an image of the side face of the most upper layer of the pattern by detecting an image having the width which is consistent with the calculated value.例文帳に追加

欠陥自動分類システムは、その算出された値と一致する大きさの幅の像を検出することで、像２２がパターン最上層側面の像であることを認識する。 - 特許庁

To improve flexibility in design of a tread pattern by expanding the width of a split mold with respect to a tread central part which is movable radially, and formed in an annular shape by being assembled circumferentially.例文帳に追加

半径方向に移動可能であり、周方向に組み合わさって環状をなすトレッド中央部に対する分割金型の幅を拡大し、トレッドパターンの設計の自由度を高める。 - 特許庁