「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electromagnetic wave shielding material with a pattern line width further miniaturized to prevent moire even if a contrast improving layer is also used when the material for a front filter for display is used where electric resistance is low irrespective of the miniaturization, and the scumming of a pattern opening is prevented.例文帳に追加

ディスプレイ用前面フィルタに用いるときにコントラスト向上層を併用してもモアレが出ないよう、パターンの線幅をより一層微細化した電磁波シールド材であって、そのように細線化しても低い電気抵抗であり、かつパターン開口部の地汚れが防止された電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

Since the grid pattern of each division is subjected to boundary treatment, pattern elements are connected on both sides of a splitting line, thereby, when mutually complementary masks are switched in the exposure, even if a relative displacement occurs, a poor exposure hardly occurs due to the spreading of the width of space.例文帳に追加

各分割領域の格子パターンに対し境界処理が行われているので、分割線の両側でパターン要素が接続され、これにより、露光において互いにコンプリメンタリーなマスクを切り替えた場合、相対的な位置ずれが生じても、スペース幅が広がることによる露光不足が生じ難い。 - 特許庁

In the electrostatic coating by expanding a pattern width of a sprayed coating material flow Pa, static electricity is applied on the coating material by increasing the flow rate in an air forcibly feeding passage 41 by a pattern air adjusting means 25 to turn an air flow switch 42 to energize a high voltage producing apparatus 22 by the electricity.例文帳に追加

霧化塗料流Ｐａのパターン幅を拡大して静電塗装を行う際には、パターンエア調節手段２５によりエア圧送路４１のエア流量を増大させると、エアフロースイッチ４２が高電圧発生装置２２への通電を行い、塗料Ｐが静電印加される。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative-tone development, of which variation of line width (LWR), exposure latitude (EL), and degree of focal margin (DOF) are excellent, in order to more stably form a highly precise fine pattern for manufacturing a highly integrated and highly precise electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material with a high sensitivity, a high resolution, a small line width roughness, and an excellent post-exposure pattern shape, especially a positive resist material using a high polymer suitable as a base resin of a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

高感度、高解像度で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a substrate 1 having lands for soldering 5A to be connected with the other substrate 4 by soldering, and wires 3A extending from the lands 5A form a wide-width ground pattern 2A, the distance L from the ground pattern 2A to the lands 5A is made not shorter than 5 mm.例文帳に追加

他の基板４の端子とハンダ付けによって接続されるハンダ付け用ランド５Ａを有し、ハンダ付け用ランド５Ａから延在した配線３Ａが幅広のグラウンドパターン２Ａを形成している基板１において、グラウンドパターン２Ａからハンダ付け用ランド５Ａまでの距離Ｌを５ｍｍ以上離間させる。 - 特許庁

A foreign matter inspection device including analysis means which can measure the pattern width and can acquire the luminance distribution for image data of an alignment mark, and image processing means which enables integration processing, subtraction processing, binarization processing, expansion processing and contraction processing includes processing the image data to make the alignment mark clear, and then pattern-matching the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The setting of the length of the optical path of an illumination light IL at this parallel flat board 47 is changed, by changing the said parallel flat board 47 into the one of different thickness, based on the difference of line width between the image of an isolated line pattern Pa and the image of an L/S pattern Pb being measured in advance.例文帳に追加

予め計測された孤立線パターンＰａの像とＬ／ＳパターンＰｂ像との線幅差に基づいて、前記平行平面板４７を異なる厚さのものに変更することにより、この平行平面板４７における照明光ＩＬの光路長を設定変更する。 - 特許庁

To make surely performable comparison without treating the whole as comparison exclusion areas in a detailed image pattern part even when a comparison exclusion area with sufficient width is set so that difference between normal image patterns from each other can not occur to a relatively rough image pattern part.例文帳に追加

比較的粗い画像パターンの部分に対して正常な画像パターンどうしで差異が生じないように十分な幅の比較除外領域を設定した場合でも、微細な画像パターンの部分においてすべてを比較除外領域とすることなく確実に比較を行う。 - 特許庁

The pneumatic tire with a block pattern has sipes 2 that extend from one circumferential end of each block 1 of the block pattern in block width directions at a slant or at fixed angles to the tire axis in substantially V-shape pairs in the block 1 with one beyond the other in each pair.例文帳に追加

ブロックパターンが形成されている空気入りタイヤにおいて、ブロックパターンの各ブロック１の周方向端部から夫々タイヤ軸方向に対し一定角度で傾斜してブロック幅方向に延び、実質的にブロック内に人文字または入文字の形状を形成するサイプ２を備える。 - 特許庁

By paying attention to the fact that film reduction of the resist pattern is accompanied by surface roughening (roughness) of a resist upper surface, a film reduction index value is calculated by quantifying the degree of roughness of a portion corresponding to the resist upper surface, on an electron microscope image of the resist pattern used in conventional line width measurement.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りがレジスト上面の面荒れ（ラフネス）を伴うことに着目し，従来の線幅計測に用いているレジストパターンの電子顕微鏡像上で，レジスト上面に相当する部位のラフネスの程度を定量化することによって膜減り指標値を算出する。 - 特許庁

On a thin film pattern forming section of the substrate 1, a bank shape projection section 2 extending along a thin film pattern to be formed with a width of W having an edge at a side edge, is provided and thin film forming material ink 3 is dropped and coated from a nozzle 4 of an ink jet device on the bank shape projection section 2.例文帳に追加

基板１の薄膜パターン形成部に、幅がＷで側縁にエッジを有して形成すべき薄膜パターンに沿って延在する堤状突部２を設け、この堤状突部２の上にインクジェット装置のノズル４から薄膜形成材料インク３を滴下して塗布する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of enhancing coating uniformity by reducing blots in coating; extremely improving a pattern shape by containing a cosolvent with a specific structure so that reverse taper in vacuum drying is prevented; and also preventing a problem of pattern width nonuniformity from being posed.例文帳に追加

塗布時の染みを減らし、塗布均一性を向上させ、真空乾燥時に逆テーパ状とならないように特定構造の共溶媒を含んで、パターン形状を著しく改善するだけでなく、パターン幅の不均一問題を発生しないフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A molding roll device introduces a sheetlike molten resin extruded from an extruder 12, the sheetlike molten resin extruded from the extruder 12, between the molding roll 14 and a press roll 15, carries out gripping/molding, and obtains a pattern sheet with the pattern formed in the middle in the width direction.例文帳に追加

成形用ロール装置は、押出機１２から押出されるシート状溶融樹脂を、押出機１２から押出されるシート状溶融樹脂を成形用ロール１４と押さえロール１５間に導入して狭圧成形し幅方向の中央部にパターンが形成されたパターンシートを得るものである。 - 特許庁

A range fixing apparatus 4 fixes the coating range with the position and the dimension of the construction board which are measured by an object sensor 41 and a width sensor 42 and the range corresponding to the coating range is extracted from the coating pattern housed in the pattern storage apparatus 5.例文帳に追加

範囲決定装置４は、建築板の位置および寸法を物体センサ４１と幅センサ４２とで計測し、計測された建築板の位置および寸法により塗装範囲を決め、パターン記憶装置５に格納された塗装パターンから塗装範囲に相当する領域を抽出する。 - 特許庁

When the resist is actually exposed and developed and lithography with its resist pattern as an etching mask is performed, the quantity of light or design image data is corrected on the basis of the obtained correction data, so that a desired finished line width can be achieved even for the resist pattern having a small taper angle.例文帳に追加

実際にレジストを露光、現像して、そのレジストパターンをエッチングマスクとしたリソグラフィを行う際に、先に求めた補正データに基いて光量を補正又は設計画像データを修正することで、小さなテーパー角を有するレジストパターンであっても、所望の仕上り線幅を実現することができる。 - 特許庁

A tread part 2 includes a center vertical groove 13 continuously extended to a tire peripheral direction and having a groove width GW1 of 15-25 mm, an outer pattern part Po provided on the vehicle outer side thereof, and an inner pattern part Pi provided on the vehicle inner side of the center vertical groove 13.例文帳に追加

トレッド部２は、タイヤ周方向に連続してのびるとともに溝幅ＧＷ１が１５〜２５mmの１本の中央縦溝１３と、その車両外側に設けられた外側パターン部Ｐｏと、中央縦溝１３の車両内側に設けられた内側パターン部Ｐｉとを含む。 - 特許庁

To provide a vehicle width and height detection alarm device capable of giving and informing alarm to a driver when determining that a vehicle cannot pass due to large vehicle width or height by detecting a zebra pattern installed in a place where traffic accidents occur frequently to indicate narrow road width and limit height from images imaged by an imaging means provided in the vehicle.例文帳に追加

車両に設けた撮像手段を用いて撮像した画像から、事故多発場所に設置されている狭路幅や制限高さを示すゼブラ模様を検出し、車幅が広いこと、又は車高が高いことによって車両が通行不可能であると判断した場合には、運転者に対して警告を発して通知する車幅車高検出警告装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high definition image forming device exhibiting a high reproducibility by correcting image data so as to make a light emission pulse width a prescribed pulse width for an isolated dot pattern that lowers the reproducibility of an image due to the decrease in the light emission pulse width, an isolated dot for which laser on time is 1/4 in an SST to split one picture element into four bits.例文帳に追加

１画素を４ビットに分割するＳＳＴにおいて、レーザＯＮ時間が１／４になるような孤立ドットでは、発光パルス幅が細くなり画像の再現性が悪化してしまう孤立ドットパターンの場合に、発光パルス幅が所定のパルス幅になるように画像データを補正することにより、再現性の高い高品位な画像形成形成装置を提供する。 - 特許庁

By manufacturing a light emitting device by a second substrate 600a having a recess 607a and a recess 608a, width of a seal pattern 605b can be maintained narrow and moreover, exudation of sealing material can be prevented.例文帳に追加

凹部６０７ａ及び凹部６０８ａを有する第二の基板６００ａで発光装置を作製することで、シールパターン６０５ｂの幅を細く保つことができ、また、シール材のしみ出しを防止できる。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head having excellent recording performance such as high recording magnetic field or high recording efficiency in a narrow track width of 2 μm or lower, and capable of highly accurately forming a narrow magnetic pole pattern.例文帳に追加

２μｍ以下の狭いトラック幅においても高記録磁界、高記録効率等の優れた記録性能を有し、かつ狭い磁極パターンを高精度に形成できる薄膜磁気ヘッドを提供すること。 - 特許庁

The valley covering member is composed of a main body having a plane covering the oblique-cut valley tiles and formed into substantially an arrow splashed pattern and a three-dimension structural body capable of being attached to a short width part of the main body.例文帳に追加

谷差し部材は、斜断谷瓦を被覆する平面が略矢絣模様状に形成されている本体と、その本体の短幅部に取付け可能な三次元構造体とからなる。 - 特許庁

As a result, the unevenness of the pattern of a lib formed when the libs each having different width are mixed on the substrate 9 due to the unevenness or the like of a plurality of the discharge ports is suppressed.例文帳に追加

これにより、複数の吐出口４２２の不均一性等に起因して基板９上に幅の異なるリブが混在して形成される場合に生じるリブのパターンのムラを抑制することが実現される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a cured resin layer having good adhesion to a support, and capable of forming a pattern of a desired profile by preventing the increase of line width due to storage over time.例文帳に追加

支持体への密着性が良好な硬化樹脂層を形成可能で、保管経時による線幅太りを防止して所望形状のパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the color copying-preventive print, a color copying-preventive image in which a pattern is formed by thicknening a line width of a part of wavy lines arranged at a specific vertical feed pitch is printed.例文帳に追加

一定の縦送りピッチで並んでいる波状線の一部の線幅が太くなっていることでパターンが形成されているカラーコピー防止画像が印刷されていることを特徴とするカラーコピー防止印刷物。 - 特許庁

To provide a soap box, the width of which is reduced to make it placeable on a small washstand and easy to use, that facilitates the drying of a soap, and the side wall of which can be decorated with a pattern.例文帳に追加

石けん箱の幅を狭くしたため、狭い洗面台でも置きやすいので使用を便利にし、また、石けんの乾燥をはやくし、側壁に図柄などの施しを可能にした石けん箱の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a device, the device, and an electronic apparatus highly precisely forming a line width when forming a fine pattern on a substrate using a droplet delivery device.例文帳に追加

液滴吐出装置を用いて基板上に微細なパターンを形成する際、その線幅などを精度よく形成することができるようにした、デバイスの製造方法、さらにはデバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

The mask for vapor deposition comprises the mask layer 1 consisting of a single thin film of silicon, and a mask pattern 2 formed on the mask layer 1, having a mask opening part 3 with the shape that the opening width expands towards a vapor deposition source.例文帳に追加

単一のシリコン薄膜からなるマスク層１と、そのマスク層１に形成され、蒸着源側に向かって開口幅が広がる形状のマスク開口部３を有するマスクパターン２とを備えている。 - 特許庁

At this time, the inclination and height of the micro pipe is adjusted in advance to expose so that the exposure beam spot is applied by a constant shape and size all the time, and a spiral space pattern with uniform line width is formed.例文帳に追加

その際、露光ビームのスポットが常に一定の形状、大きさで当たるように、予めマイクロパイプの傾斜・高さを調整してから露光し、均一な線幅の螺線スペースパターンを形成する。 - 特許庁

The photomask has a transparent substrate (42) and a phase grating comprising a plurality of grooves with a certain pitch (P) formed in the substrate in such a way that the depth or width of each of the grooves of the phase grating carries an exposed pattern.例文帳に追加

透明基板(42)と、この基板に形成された一定ピッチ(P)の複数の溝からなる位相格子と、を備え、この位相格子の各溝の深さ又は幅が露光パターンを担うようにする。 - 特許庁

To provide a tape printing apparatus that is capable of forming and printing print images for producing a variety of good appearance labels by integrally using plural kinds of tapes different in width, ground color, ground pattern, material feel and the like.例文帳に追加

幅、地色、地模様、質感などが相異なる複数種類のテープを統合した多彩かつ見栄えの良いラベルを作成するための印刷画像を作成・印刷できるテープ印刷装置を提供する。 - 特許庁

Also, for the antenna patterns 20, 30, the width and length of each of them are differentiated from each other, and the antenna pattern are formed so that they can be overlapped when viewed from the thickness direction of the sheet substrate 10.例文帳に追加

また、アンテナパターン２０，３０についてそれぞれの幅および長さを異ならせ、シート基板１０の厚さ方向からみてアンテナパターン２０，３０が重なり合うように、アンテナパターン２０，３０を形成した。 - 特許庁

In this wafer development method, a developer is supplied to the surface of a resist film formed on a wafer, and during the development of the resist film, the line width of a pattern on the resist film is measured.例文帳に追加

ウェハの現像処理において，ウェハ上のレジスト膜の表面に現像液が供給されて，レジスト膜の現像が行われている際に，レジスト膜に形成されるパターンの線幅が測定される。 - 特許庁

Namely, the droplet 31 is only applied to the enlarged recess 21 having larger area to fill the groove 20 having the narrow width with the liquid 32, so the fine pattern can be easily formed on the base 2.例文帳に追加

つまり、面積の大きい拡大凹部２１に液滴３１を着弾させるだけで、幅が狭い溝２０に液体３２を充填できるため、基材２に微細なパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with the excellent exposure latitude (EL) and focus margin (DOF) capable of reducing the line width irregularity (LWR) and residual defect, a chemically amplified resist composition and a resist film.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れ、線幅バラツキ（ＬＷＲ）及び残渣欠陥を低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method, or the like, for easily forming an exposure pattern with a line width in a sub-micron size using a photoresist for g-line and i-line by using a solid laser or a gas laser which is inexpensive and stable as an exposure light source.例文帳に追加

安価で安定性のある個体レーザやガスレーザを露光光源として使用し、ｇ線用、ｉ線用のフォトレジストを使用して、簡便にサブミクロンサイズの線幅の露光パターンを形成する。 - 特許庁

According to constitution of the method, the patterning is performed for every thin film of plural quantities, by which the thin films can be thickened irrespective of a ratio of a width to a depth (an aspect ratio) of a final throughhole pattern.例文帳に追加

本発明の構成によれば、複数の薄膜毎にパターン形成を行うため、最終的な貫通孔パターンの幅と深さの比（アスペクト比）によらず、薄膜の厚膜化を行うことが出来る。 - 特許庁

The printing plate cylinder 30 has different pattern area ratios along the width direction, while a key opening degree of each ink supply blade 16 is adjusted by a control part 20 through the intermediary of a driving mechanism 16a.例文帳に追加

印刷版胴３０は幅方向に沿って絵柄面積率が異なっており、各インキ供給ブレード１６のキー開度は駆動機構１６ａを介して制御部２０により調整される。 - 特許庁

In the process 3, the pattern is divided by the number of modules in minimum width, which constitute a black bar or a white bar, a module value showing whether the respective modules show black or white is decided and the respective patterns are converted into the characters.例文帳に追加

過程３ではパターンを黒バー、または白バーを構成する最小幅のモジュールの数で分割し、各モジュールが黒か白かを示すモジュール値を決定し、各パターンを文字に変換する。 - 特許庁

To provide a substrate processing unit in which the line width of a circuit pattern being formed on a substrate can be kept at a constant level by keeping a constant time elapsing before starting heat treatment after exposure processing.例文帳に追加

露光処理が行われてから加熱処理が行われるまでの時間を一定に保ち、基板上に形成される回路パターンの線幅を一定に保つことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

To prevent variations in the width of a wiring pattern, depending on whether the neighboring wiring patterns are dense or sparse, even though dense or sparse wiring patterns are formed on a semiconductor device surface.例文帳に追加

半導体装置の表面に形成される配線用パターンの引き回しに粗密が生じても、当該粗密により配線用パターンの幅が異なることがない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser aligner for lithography that makes possible a lithography exposure of sub-micron units such as a pattern line width of 0.3 μm corresponding to a 64-bit DRAM having high integration density.例文帳に追加

高集積密度の高い６４ビットＤＲＡＭに対応するパターン線巾０．３μｍというサブミクロン単位の描画露光が可能となるリソグラフィ用レーザ露光装置を提供する事を目的とする。 - 特許庁