「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To make surely performable comparison without treating the whole as comparison exclusion areas in a detailed image pattern part even when a comparison exclusion area with sufficient width is set so that difference between normal image patterns from each other can not occur to a relatively rough image pattern part.例文帳に追加

比較的粗い画像パターンの部分に対して正常な画像パターンどうしで差異が生じないように十分な幅の比較除外領域を設定した場合でも、微細な画像パターンの部分においてすべてを比較除外領域とすることなく確実に比較を行う。 - 特許庁

By paying attention to the fact that film reduction of the resist pattern is accompanied by surface roughening (roughness) of a resist upper surface, a film reduction index value is calculated by quantifying the degree of roughness of a portion corresponding to the resist upper surface, on an electron microscope image of the resist pattern used in conventional line width measurement.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りがレジスト上面の面荒れ（ラフネス）を伴うことに着目し，従来の線幅計測に用いているレジストパターンの電子顕微鏡像上で，レジスト上面に相当する部位のラフネスの程度を定量化することによって膜減り指標値を算出する。 - 特許庁

In a substrate 1 having lands for soldering 5A to be connected with the other substrate 4 by soldering, and wires 3A extending from the lands 5A form a wide-width ground pattern 2A, the distance L from the ground pattern 2A to the lands 5A is made not shorter than 5 mm.例文帳に追加

他の基板４の端子とハンダ付けによって接続されるハンダ付け用ランド５Ａを有し、ハンダ付け用ランド５Ａから延在した配線３Ａが幅広のグラウンドパターン２Ａを形成している基板１において、グラウンドパターン２Ａからハンダ付け用ランド５Ａまでの距離Ｌを５ｍｍ以上離間させる。 - 特許庁

A foreign matter inspection device including analysis means which can measure the pattern width and can acquire the luminance distribution for image data of an alignment mark, and image processing means which enables integration processing, subtraction processing, binarization processing, expansion processing and contraction processing includes processing the image data to make the alignment mark clear, and then pattern-matching the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The setting of the length of the optical path of an illumination light IL at this parallel flat board 47 is changed, by changing the said parallel flat board 47 into the one of different thickness, based on the difference of line width between the image of an isolated line pattern Pa and the image of an L/S pattern Pb being measured in advance.例文帳に追加

予め計測された孤立線パターンＰａの像とＬ／ＳパターンＰｂ像との線幅差に基づいて、前記平行平面板４７を異なる厚さのものに変更することにより、この平行平面板４７における照明光ＩＬの光路長を設定変更する。 - 特許庁

The main body of the printed wiring board and the printed wiring board connection part are integrally constructed by arranging a first wiring pattern, an insulating film, and a second wiring pattern formed with an empty region having nothing formed therein in the width direction of the printed wiring board connection part on an insulating substrate in this order.例文帳に追加

プリント配線板本体とプリント配線板接続部とが、絶縁基板上に第１の配線パターン、絶縁膜、プリント配線板接続部の幅方向に形成されない空領域を備える第２の配線パターンが順に配置されることで一体的に構成される。 - 特許庁

An insufficient discharge pattern that does not cause discharge in at least a (n-1)th and a (n-2)th sub-fields in sequence but causes discharge in an n-th sub-field is detected from among an inputted image signal, and the width of a scan pulse is increased during the address period of the sub-field where the insufficient discharge pattern occurs.例文帳に追加

入力される映像信号から、少なくとも（ｎ−１）番目及び（ｎ−２）番目のサブフィールドで連続的に放電を起こさず、ｎ番目のサブフィール度で放電を起こす低放電パターンを検出し、低放電パターンが発生するサブフィールドのアドレス期間に走査パルス幅を増加させる。 - 特許庁

Then, the detecting means detects the toner adhesion amount of the colored patch pattern TK at each time when the image area ratio of the transparent patch pattern TW in the width direction is made variable, and a transfer electric current to be applied to a first image-transferred object is variably controlled based on the result of detection.例文帳に追加

そして、このように透明パッチパターンＴＷの幅方向の画像面積率を可変したときの有色パッチパターンＴＫのトナー付着量を検知手段でそれぞれ検知して、それらの検知結果に基いて第１転写部材に印加される転写電流を可変制御する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative-tone development, of which variation of line width (LWR), exposure latitude (EL), and degree of focal margin (DOF) are excellent, in order to more stably form a highly precise fine pattern for manufacturing a highly integrated and highly precise electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the rolling mill having at least a pair of rolls for shape control, a tension pattern in the width direction of the metallic strip is measured on the outlet side of the rolling mill and at least a pair of rolls for shape control are simultaneously shifted in the same direction as the axial direction of the roll in accordance with the tension pattern.例文帳に追加

少なくとも１対の形状制御用ロールを有する圧延機において、前記圧延機の出側で金属帯の幅方向の張力パターンを測定し、該張力パターンに応じて、前記の少なくとも１対の形状制御用ロールを、ロール軸方向に同方向に同時にシフトする。 - 特許庁

Since the grid pattern of each division is subjected to boundary treatment, pattern elements are connected on both sides of a splitting line, thereby, when mutually complementary masks are switched in the exposure, even if a relative displacement occurs, a poor exposure hardly occurs due to the spreading of the width of space.例文帳に追加

各分割領域の格子パターンに対し境界処理が行われているので、分割線の両側でパターン要素が接続され、これにより、露光において互いにコンプリメンタリーなマスクを切り替えた場合、相対的な位置ずれが生じても、スペース幅が広がることによる露光不足が生じ難い。 - 特許庁

In the electrostatic coating by expanding a pattern width of a sprayed coating material flow Pa, static electricity is applied on the coating material by increasing the flow rate in an air forcibly feeding passage 41 by a pattern air adjusting means 25 to turn an air flow switch 42 to energize a high voltage producing apparatus 22 by the electricity.例文帳に追加

霧化塗料流Ｐａのパターン幅を拡大して静電塗装を行う際には、パターンエア調節手段２５によりエア圧送路４１のエア流量を増大させると、エアフロースイッチ４２が高電圧発生装置２２への通電を行い、塗料Ｐが静電印加される。 - 特許庁

On a thin film pattern forming section of the substrate 1, a bank shape projection section 2 extending along a thin film pattern to be formed with a width of W having an edge at a side edge, is provided and thin film forming material ink 3 is dropped and coated from a nozzle 4 of an ink jet device on the bank shape projection section 2.例文帳に追加

基板１の薄膜パターン形成部に、幅がＷで側縁にエッジを有して形成すべき薄膜パターンに沿って延在する堤状突部２を設け、この堤状突部２の上にインクジェット装置のノズル４から薄膜形成材料インク３を滴下して塗布する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of enhancing coating uniformity by reducing blots in coating; extremely improving a pattern shape by containing a cosolvent with a specific structure so that reverse taper in vacuum drying is prevented; and also preventing a problem of pattern width nonuniformity from being posed.例文帳に追加

塗布時の染みを減らし、塗布均一性を向上させ、真空乾燥時に逆テーパ状とならないように特定構造の共溶媒を含んで、パターン形状を著しく改善するだけでなく、パターン幅の不均一問題を発生しないフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A molding roll device introduces a sheetlike molten resin extruded from an extruder 12, the sheetlike molten resin extruded from the extruder 12, between the molding roll 14 and a press roll 15, carries out gripping/molding, and obtains a pattern sheet with the pattern formed in the middle in the width direction.例文帳に追加

成形用ロール装置は、押出機１２から押出されるシート状溶融樹脂を、押出機１２から押出されるシート状溶融樹脂を成形用ロール１４と押さえロール１５間に導入して狭圧成形し幅方向の中央部にパターンが形成されたパターンシートを得るものである。 - 特許庁

A range fixing apparatus 4 fixes the coating range with the position and the dimension of the construction board which are measured by an object sensor 41 and a width sensor 42 and the range corresponding to the coating range is extracted from the coating pattern housed in the pattern storage apparatus 5.例文帳に追加

範囲決定装置４は、建築板の位置および寸法を物体センサ４１と幅センサ４２とで計測し、計測された建築板の位置および寸法により塗装範囲を決め、パターン記憶装置５に格納された塗装パターンから塗装範囲に相当する領域を抽出する。 - 特許庁

When the resist is actually exposed and developed and lithography with its resist pattern as an etching mask is performed, the quantity of light or design image data is corrected on the basis of the obtained correction data, so that a desired finished line width can be achieved even for the resist pattern having a small taper angle.例文帳に追加

実際にレジストを露光、現像して、そのレジストパターンをエッチングマスクとしたリソグラフィを行う際に、先に求めた補正データに基いて光量を補正又は設計画像データを修正することで、小さなテーパー角を有するレジストパターンであっても、所望の仕上り線幅を実現することができる。 - 特許庁

A tread part 2 includes a center vertical groove 13 continuously extended to a tire peripheral direction and having a groove width GW1 of 15-25 mm, an outer pattern part Po provided on the vehicle outer side thereof, and an inner pattern part Pi provided on the vehicle inner side of the center vertical groove 13.例文帳に追加

トレッド部２は、タイヤ周方向に連続してのびるとともに溝幅ＧＷ１が１５〜２５mmの１本の中央縦溝１３と、その車両外側に設けられた外側パターン部Ｐｏと、中央縦溝１３の車両内側に設けられた内側パターン部Ｐｉとを含む。 - 特許庁

To provide a high definition image forming device exhibiting a high reproducibility by correcting image data so as to make a light emission pulse width a prescribed pulse width for an isolated dot pattern that lowers the reproducibility of an image due to the decrease in the light emission pulse width, an isolated dot for which laser on time is 1/4 in an SST to split one picture element into four bits.例文帳に追加

１画素を４ビットに分割するＳＳＴにおいて、レーザＯＮ時間が１／４になるような孤立ドットでは、発光パルス幅が細くなり画像の再現性が悪化してしまう孤立ドットパターンの場合に、発光パルス幅が所定のパルス幅になるように画像データを補正することにより、再現性の高い高品位な画像形成形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicle width and height detection alarm device capable of giving and informing alarm to a driver when determining that a vehicle cannot pass due to large vehicle width or height by detecting a zebra pattern installed in a place where traffic accidents occur frequently to indicate narrow road width and limit height from images imaged by an imaging means provided in the vehicle.例文帳に追加

車両に設けた撮像手段を用いて撮像した画像から、事故多発場所に設置されている狭路幅や制限高さを示すゼブラ模様を検出し、車幅が広いこと、又は車高が高いことによって車両が通行不可能であると判断した場合には、運転者に対して警告を発して通知する車幅車高検出警告装置を提供する。 - 特許庁

The pattern applied to the steel panel is set to an almost stripe like state formed in predetermined width in the direction crossing the flow direction of the steel panel almost at a right angle at the time of production of the decorative steel panel.例文帳に追加

また、前記鋼板に付与される絵柄は、化粧鋼板製造時の鋼板の流れ方向に対して略直交する方向に所定幅で形成された略ストライプ調に設定される。 - 特許庁

When forming a sub-mount 4, the pattern of an oxide film, which has a certain width of groove on the top, is made by growing an SiO2 film on the face (100) of a silicon substrate 41, both whose sides of top and bottom are polished.例文帳に追加

サブマウント４を形成するとき、上下両面が研磨されたシリコン基板４１の（１００）面にＳｉＯ_2膜を成長させて上面に一定幅の溝を有する酸化膜のパターンをつくる。 - 特許庁

The maximum length L of beams 1 and 3 is specified based on the amount of deformation in allowable beams and width W in the beams 1 and 3, and a mask pattern is composed by beams having length that does not exceed the maximum value.例文帳に追加

梁１、３の長さＬの上限値を、許容できる梁の変形量および梁１、３の幅Ｗに基づいて定め、上限値を越えない長さの梁によってマスクパターンを構成する。 - 特許庁

To improve reduction of half-width (θ//) in the horizontal direction of a far field pattern by current flow, in an AlGaAs based ion implantation type gain guide laser light emitting device which is formed by using a so-called off substrate.例文帳に追加

いわゆるオフ基板を使用して形成されるＡｌＧａＡｓ系イオン注入型ゲインガイドレーザ発光装置における、通電による遠視野像の水平方向の半値幅(θ//)の減少の改善を図る。 - 特許庁

Next, a shared mask pattern provided with recessed/projected parts for upper face and for lower face for regulating the magnetic pole shape, symmetrically with respect to a center line parallel to the direction of track width, is exposed to the photoresist.例文帳に追加

次に、磁極形状を規定する上面用凹凸部と下面用凹凸部をトラック幅方向に平行な中心ラインに対して対称に有する共有マスクパターンを、フォトレジストに露光する。 - 特許庁

The directivity and radiation pattern of the antenna are controlled with the first reflection plate 10, the second reflection plate 20 and the parasitic element 40, and the excellent F/B ratio and the wide half width can be achieved.例文帳に追加

第１反射板１０、第２反射板２０および無給電素子４０によりアンテナの指向性および放射パターンが制御され、良好なＦ／Ｂ比および広域な半値幅を実現することができる。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

This mask is provided with a bridge 63 having a width narrower than the resolution of transfer exposure between two non-exposure patterns 61, 61' without opened holes, which are provided adjacent to each other separated by an exposure pattern 62 with open holes.例文帳に追加

本マスクは、孔の開いた露光パターン６２を隔てて隣り合う２つの孔の開いていない非露光パターン６１、６１′間に、転写露光の解像度より細い幅のブリッジ６３が設けられている。 - 特許庁

The printing plate cylinder 30 has different pattern area ratios along the width direction, while a key opening degree of each ink supply blade 16 is adjusted by a control part 20 through the intermediary of a driving mechanism 16a.例文帳に追加

印刷版胴３０は幅方向に沿って絵柄面積率が異なっており、各インキ供給ブレード１６のキー開度は駆動機構１６ａを介して制御部２０により調整される。 - 特許庁

Regarding the registration pattern 121, only the colorless mark 119K is made shorter than other colored marks 119Y, 119M and 119C in terms of the mark width H in the moving direction of the belt 31.例文帳に追加

そして、レジストレーションパターン１２１は、無彩色マーク１１９Ｋだけが、他の有彩色マーク１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃに比べて、ベルト３１の移動方向におけるマーク幅Ｈが狭くなっている。 - 特許庁

As a result, the pulse width t is made to be in the range of 3 μs≤t<30 μs so that a high quality marking pattern having high visibility can be formed by improving the productivity of an X ray film.例文帳に追加

これにより、パルス幅ｔが３μｓｅｃ≦ｔ＜３０μｓｅｃとなるので、Ｘレイフィルムの生産性を向上させながら視認性が高く高品質のマーキングパターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide an exposure method, or the like, for easily forming an exposure pattern with a line width in a sub-micron size using a photoresist for g-line and i-line by using a solid laser or a gas laser which is inexpensive and stable as an exposure light source.例文帳に追加

安価で安定性のある個体レーザやガスレーザを露光光源として使用し、ｇ線用、ｉ線用のフォトレジストを使用して、簡便にサブミクロンサイズの線幅の露光パターンを形成する。 - 特許庁

According to constitution of the method, the patterning is performed for every thin film of plural quantities, by which the thin films can be thickened irrespective of a ratio of a width to a depth (an aspect ratio) of a final throughhole pattern.例文帳に追加

本発明の構成によれば、複数の薄膜毎にパターン形成を行うため、最終的な貫通孔パターンの幅と深さの比（アスペクト比）によらず、薄膜の厚膜化を行うことが出来る。 - 特許庁

In the process 3, the pattern is divided by the number of modules in minimum width, which constitute a black bar or a white bar, a module value showing whether the respective modules show black or white is decided and the respective patterns are converted into the characters.例文帳に追加

過程３ではパターンを黒バー、または白バーを構成する最小幅のモジュールの数で分割し、各モジュールが黒か白かを示すモジュール値を決定し、各パターンを文字に変換する。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head having excellent recording performance such as high recording magnetic field or high recording efficiency in a narrow track width of 2 μm or lower, and capable of highly accurately forming a narrow magnetic pole pattern.例文帳に追加

２μｍ以下の狭いトラック幅においても高記録磁界、高記録効率等の優れた記録性能を有し、かつ狭い磁極パターンを高精度に形成できる薄膜磁気ヘッドを提供すること。 - 特許庁

The valley covering member is composed of a main body having a plane covering the oblique-cut valley tiles and formed into substantially an arrow splashed pattern and a three-dimension structural body capable of being attached to a short width part of the main body.例文帳に追加

谷差し部材は、斜断谷瓦を被覆する平面が略矢絣模様状に形成されている本体と、その本体の短幅部に取付け可能な三次元構造体とからなる。 - 特許庁

By manufacturing a light emitting device by a second substrate 600a having a recess 607a and a recess 608a, width of a seal pattern 605b can be maintained narrow and moreover, exudation of sealing material can be prevented.例文帳に追加

凹部６０７ａ及び凹部６０８ａを有する第二の基板６００ａで発光装置を作製することで、シールパターン６０５ｂの幅を細く保つことができ、また、シール材のしみ出しを防止できる。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head having excellent recording performances such as high recording magnetic field or high recording efficiency in a narrow track width of 2 μm or lower, and capable of highly accurately forming a narrow magnetic pole pattern.例文帳に追加

２μｍ以下の狭いトラック幅においても高記録磁界、高記録効率等の優れた記録性能を有し、かつ狭い磁極パターンを高精度に形成できる薄膜磁気ヘッドを提供すること。 - 特許庁

To avoid large-sizing of a whole vehicular head light 100 and form a light distribution pattern P1 small in a lateral width wP1RL without using a light-emitting element light source 1 small in a right-and-left dimension w1a of a light-emitting face 1a.例文帳に追加

発光面1aの左右方向寸法w1aが小さい発光素子光源1を用いる必要なく、車両用前照灯100全体の大型化を回避しつつ、横幅wP1RLが小さい配光パターンP1を形成する。 - 特許庁

In manufacturing a light emitting device, a second substrate 600a has a recess 607a and a recess 608a, thereby, the width of a seal pattern 605b can be maintained narrow and moreover, exudation of the sealing material can be prevented.例文帳に追加

凹部６０７ａ及び凹部６０８ａを有する第二の基板６００ａで発光装置を作製することで、シールパターン６０５ｂの幅を細く保つことができ、また、シール材のしみ出しを防止できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive material by a simple method capable of obtaining a highly precise wiring pattern with superior conductivity without thickening of line width as seen at a plating process.例文帳に追加

めっき処理時に見られるような線幅の太りがなく、かつ簡便な方法によって、高精細かつ高導電性の配線パターンが得られる導電性材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

That is, only by making the drop 31 land in the expanded recessed part 21 having large area, the groove 20 having narrow width can be filled with the liquid 32, so that a fine pattern is easily formed on the base material 2.例文帳に追加

つまり、面積の大きい拡大凹部２１に液滴３１を着弾させるだけで、幅が狭い溝２０に液体３２を充填できるため、基材２に微細なパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁

Further, a pattern in which a surface of a metal member is made to be uneven face is in a belt shape formed on a center portion excluding both end portions in a width direction in at least inner and outer peripheries of the annular portion 21.例文帳に追加

そして、少なくとも環状部分２１の内外周であって幅方向の両端部を除いた中央部に金属部材の表面が凹凸面となるような模様を帯状に形成する。 - 特許庁