「pattern width」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

A hard mask spacer layer and a hard mask layer are formed on an MTJ element, and a first parallel line pattern (first photoresist film) of a first size width is formed on the hard mask layer.例文帳に追加

ＭＴＪ素子上に、ハードマスクスペーサ層およびハードマスク層を形成し、ハードマスク層上に第１サイズの幅の第１平行ラインパターン（第１フォトレジスト膜）を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a heterojunction bipolar transistor in which an emitter electrode pattern of submicron size with a high aspect ratio can be formed with good line width controllability.例文帳に追加

アスペクト比の高いサブミクロンサイズのエミッタ電極パタンを線幅制御性良く形成することを可能とするヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The ratio L/S of width L of the projection-shaped magnetic layer pattern in the circumferential direction thereof to an interval S between the projection-shaped magnetic layer patterns in the circumferential direction thereof is defined as L/S <1.例文帳に追加

突起状磁性層パターンの円周方向の幅Ｌと、突起状磁性層パターン同士の円周方向の間隔Ｓとの比Ｌ／ＳをＬ／Ｓ＜１とする。 - 特許庁

A striped light-shielding pattern P5 comprising two lines, which has a width of 4.0-12.0 μm, a length of ≥12.0 μm, and a light transmissive part T5 at center, is formed.例文帳に追加

幅４．０μｍ〜１２．０μｍを有し、長さ１２．０μｍ以上で、その中央に光透過部Ｔ５を設けた二本線ストライプ状の遮光パターンＰ５を形成した。 - 特許庁

When the second shadow pattern is selected, the shadow having the width of one pixel in the horizontal direction is displayed at the position spacing one pixel in the horizontal direction from the graphic.例文帳に追加

第２シャドーパターンが選択された場合には、グラフィックから水平方向に１画素おいた位置に水平方向に１画素分の幅をもったシャドーが表示される。 - 特許庁

To provide a circuit board that can allow a larger current to flow even if the width of a wiring pattern is not spread and can improve manufacturing properties.例文帳に追加

配線パターンの幅をわざわざ広げなくても、より大きな電流を流すことが可能になり、しかも製造性を向上することが可能な回路基板を提供する。 - 特許庁

Since the dehydrator 22 has a number of laterally extending suction holes 25 on the upper face in a staggered zigzag pattern, the papermaking mat is uniformly sucked and dehydrated in the direction of width.例文帳に追加

本脱水装置２２においては、上面に横長吸引孔２５の多数個を千鳥状に配しているから、抄造マットＭは幅方向で均一に吸引脱水される。 - 特許庁

To provide a method of exactly calculating the irradiation energy on a prescribed area of a sensitized substrate by deriving a representative figure which reflects the length/width ratio of an original pattern.例文帳に追加

縦横比を反映した代表図形を求めることにより、感応基板の所定部分における照射エネルギーを正確に計算する方法を提供する。 - 特許庁

In a width direction W of the original board 20, the circuit pattern parts 21A are closely arranged with each other, and a part of boundary lines is connected.例文帳に追加

一方、回路パターン部２１Ａは、元基板２０の幅方向Ｗについては、相互に密接して、その境界線の一部が接続される態様で配列されている。 - 特許庁

To provide a light beam emitting window width for a light source which obtains sufficiently a contrast of a light intensity pattern such as a talbot image from a constitutional parameter of an encoder such as a scale pitch.例文帳に追加

スケールピッチなどエンコーダの構成パラメータから、タルボットイメージ等明暗パターンのコントラストが十分に得られる光源の光ビーム出射窓幅を提供する。 - 特許庁

At least one of the first shade 38 and the second shade 40 has a vehicle widthwise width such that light is shielded beyond the central area of the low-beam light distribution pattern to be formed.例文帳に追加

第１シェード３８と第２シェード４０の少なくとも一方は、形成するロービーム用配光パターンの中央領域を越えて遮光する車幅方向の幅を有する。 - 特許庁

A discrepancy between the array pitch W of the face bars 55 and the pattern pitch D of an exterior wall 41 is thereby corrected by adjusting the width dimension of the adjusting clearances 57, 57B.例文帳に追加

従って、調整用隙間５７Ａ、５７Ｂの幅寸法を調整することで、面材５５の配列ピッチＷと外壁４１の模様ピッチＤとのずれが修正される。 - 特許庁

To provide a multilayered printed circuit board, capable of forming a thick width of the pattern of conductor wirings at a low cost and easily controlling an impedance by improving transmission efficiency.例文帳に追加

導体配線のパターンの幅を太く形成でき伝送効率を向上させてインピーダンスコントロールを容易に行える低コストの多層配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

When forming the resist pattern 66, the copying machine 100 sets a width P and interval L in a transportation direction of the resist pattern 66 so that the resist pattern 66 of at least one color does not exist simultaneously on all of contact regions with a plurality of photoreceptors 1 lying on the transportation belt 7.例文帳に追加

そして，複写機１００は，レジストパターン６６を形成する際，少なくとも１色のレジストパターン６６については，搬送ベルト７上に複数ある感光体１との接触領域の全てに同時に存在することがないように，レジストパターン６６の搬送方向の幅Ｐおよび間隔Ｌを設定する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a space pattern excellent in heat resistance with good acid generation efficiency under a thick film condition of ≥3.0 μm and capable of forming a space pattern having ≤0.8 μm width and a high aspect ratio with good perpendicularity and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.例文帳に追加

３．０μｍ以上の厚膜条件下で、耐熱性に優れ、酸の発生効率がよいスペースパターンの形成が可能で、幅０．８μｍ以下の高アスペクト比のスペースパターンを垂直性よく形成することが可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

In a power supply board 1, a solder mound 4 is added to the area across the entire length and width of one conductor pattern 31 forming an electric path where a current is supplied at all times to increase a current value capacitance of the conductor pattern 31, resulting in preventing early degradation and burning out of the conductor pattern 31.例文帳に追加

電源基板１において、電流が常時供給される電路を形成している１つの導体パターン３１の全長及び全幅に亘る領域に半田盛り４を追加してその導体パターン３１の電流値容量を増大させることによりその導体パターン３１の早期劣化及び焼き切れを防止する。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin capable of forming an overcrowded pattern and an isolated pattern both excellently in shapes when a fine resist pattern of ≤0.35 μm is formed, excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and having no change in resin composition in each molecular weight region, a method of synthesizing the same and a positive-type photoresist composition using the same.例文帳に追加

０．３５μｍ以下の微細なレジストパターンを形成する場合に、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成でき、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、各分子量域において樹脂組成の違いのないフェノールノボラック樹脂、その合成方法およびそれを用いたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Thereafter, etching is applied to form the first hologram pattern 42 and the second hologram pattern 43, thereby being able to form a diffraction grating, as a diffraction grating of a hologram pattern of each area, wherein a duty ratio being a ratio of the width of a protruding part to the grating interval is suitable and the values of duty ratios between the respective areas are almost equal.例文帳に追加

その後エッチングして第１ホログラムパターン４２および第２ホログラムパターン４３を形成することにより、各領域のホログラムパターンの回折格子として、凸部の幅と格子間隔との比であるデューティ比が好適であり、かつ各領域間のデューティ比の値が略等しいものを形成することができる。 - 特許庁

To provide a developer for circuit formation which achieves sharpness of line edges of a circuit pattern, narrowing of the minimum line width of the circuit pattern, image density capable of imparting satisfactory conductivity to the circuit pattern, and perfect prevention of toner scattering by an electrophotographic process, and to provide a circuit forming method using the same.例文帳に追加

本発明は、電子写真法により、回路パターンのラインエッジのシャープさ、回路パターンの最少ライン幅の狭幅化、回路パターンに十分な導電性を付与し得る画像濃度、トナー飛散の完全防止を実現する回路形成用現像剤及びそれを用いた回路形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a wiring pattern M112 having a bent part having locally different line width in a line system, the layout is divided into a rectangle pattern M114 having a large area and a node part M113 connecting the rectangle pattern, and M113 and M114 are separated by a slit S113 of ≤0.22×λ/NA dimension.例文帳に追加

ライン系で局所的に線幅が異なる屈曲した部位を有する配線パターンＭ１１２において、当該レイアウトを大面積のレクトアングルパターンＭ１１４とそれらを接続するノード部Ｍ１１３に分割し、Ｍ１１３とＭ１１４とを０．２２×λ／ＮＡ以下の寸法範囲内Ｓ１１３で分離する。 - 特許庁

In this method, the step to create pattern presence data for every nozzle width of the powder spray 33 correspondingly with a position for the movement of the printed matter 40 based on plate cylinder pattern information and the step to control injection timing for each nozzle 33a based on the pattern presence data and the position for the movement of the printed matter 40 per each nozzle 33a, are provided.例文帳に追加

刷版絵柄情報に基づいて、パウダースプレー３３の各ノズル幅毎の絵柄有無データを印刷物４０の移動位置に対応して作成するステップと、各ノズル３３ａについての絵柄有無データと印刷物４０の移動位置とに基づいて、各ノズル３３ａの噴射タイミングを制御するステップと、を含む。 - 特許庁

A step absorption layer 20 having a second pattern 30a is formed on a surface of the outside green sheet 11a along a longitudinal direction Y of a gap-pattern 30, the width of the pattern W2 is smaller than that of the gap W1, the step absorption layer 20 is colored so as to be identifiable from the outside green sheet 11a.例文帳に追加

外側グリーンシート１１ａの表面には、第２パターン３０ａを持つ段差吸収層２０を、隙間パターン３０の長手方向Ｙに沿って形成し、パターン幅Ｗ２が、隙間幅Ｗ１よりも小さく、段差吸収層２０が外側グリーンシート１１ａに対して識別可能な着色が成されている。 - 特許庁

Silver paste pattern is printed by expanding silver paste by a squeegee, and when the screen for printing is removed, the silver paste becomes loose due to the viscosity of the silver paste to flow into an area where the silver paste pattern is not printed by a second shielding part 5, making the thickness of an end part of the silver paste pattern in a width direction thinner.例文帳に追加

銀ペーストをスキージによって押し広げることで銀ペーストパターンが印刷され、印刷用スクリーンを取外すと、第２遮蔽部５によって銀ペーストパターンが印刷されなかった領域に、銀ペーストの粘性によって銀ペーストがだれて流れ込み、銀ペーストパターンの幅方向の端部の厚みがより薄くなる。 - 特許庁

This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.例文帳に追加

観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for measuring the core width of the magnetic read head by reading a magnetic pattern comprising one or more island-like areas which have a desired magnetization direction in a magnetic recording medium, is designed to calculate the core width of the magnetic read head based on the read output read from the magnetic pattern when a part of the magnetic patterns pass through the magnetic read head.例文帳に追加

磁気記録媒体において所望の磁化方向を有する１つ以上の島状領域からなる磁気パターンを読み取ることにより磁気リードヘッドのコア幅を測定する方法であって、磁気パターンの一部が磁気リードヘッドを通過する際に、磁気リードヘッドが磁気パターンから読み出すリード出力をもとに磁気リードヘッドのコア幅を算出する。 - 特許庁

A time ratio of the first time t1 and the second time t2 is adjusted such that a line width CD1 of the first resist pattern is equal to a first predetermined value CD1t, and the total time T of the first time t1 and the second time t2 is adjusted such that a line width CD2 of the second resist pattern is equal to a second predetermined value CD2t.例文帳に追加

第１の時間ｔ１と第２の時間ｔ２との時間比率は、第１のレジストパターンの線幅ＣＤ１が第１の所定値ＣＤ１ｔに等しくなるように調整され、第１の時間ｔ１と第２の時間ｔ２との合計時間Ｔは、第２のレジストパターンの線幅ＣＤ２が第２の所定値ＣＤ２ｔに等しくなるように調整される。 - 特許庁

In the color image forming apparatus, a toner images 31 for patterns for determination of respective colors has a constitution in which a plurality of narrow width pattern toner images 35 are arranged along a moving direction D1 of a transfer belt at smaller intervals than a diameter of a spot SP of light applied by an optical sensor, the narrow width pattern toner images 35 having a smaller dimension in the moving direction D1 than the diameter of the spot SP.例文帳に追加

カラー画像形成装置において、各色の判定用パターンのトナー画像３１は光センサから照射された光のスポットＳＰの径よりも転写ベルトの動く方向Ｄ１の寸法が小さい複数の細幅パターンのトナー画像３５を、スポットＳＰの径よりも小さい間隔で転写ベルトの動く方向Ｄ１に沿って並べた構成を有する。 - 特許庁

A method for preparing the connected lines wherein two stock lines respectively consisting of a pattern part and blank parts on both sides thereof are synthesized and one connected line with a shape wherein two pattern parts are arranged through a blank part between the lines with a specified width designated being different from a simple synthesized width of a blank part of two stock lines between them is prepared, is provided.例文帳に追加

本発明は、それぞれ模様部とその両側の余白部とからなる２つの素材罫を合成し、２つの模様部がその間に２つの素材罫の余白部の単純合成幅とは異なる指定された所定幅の罫間余白部を介して並置された形の１つの接合罫を作成する接合罫の作成方法に関する。 - 特許庁

Or, the electromagnetic wave shielding member is composed of a pattern of the electromagnetic wave shielding ink comprising two or more ink lines each of which has a width of L and crosses with each other to form a mesh and the film base material mounted with the pattern, and the area of the intersections of the ink lines each having a width of L is twice to 30 times as wide as L×L.例文帳に追加

また、電磁波シールド用の部材は、電磁波遮蔽性インキからなるメッシュ等の２本以上の線幅Ｌのラインが交差するパターンがフィルム基材の一面上に配設された、電磁波遮蔽性を有する電磁波シールド用の部材であって、線幅Ｌのラインの交点部分の面積がＬ×Ｌの２倍〜３０倍である。 - 特許庁

In this radar system provided with a transmission antenna having L_t of beam width, and the receiving antenna of L_r (L_r>L_t) of beam width having a plurality of receiving elements of element space d, the element space d is determined not to generate a main beam 17 in one reception pattern and the grating lobe 18 therein concurrently in a main beam in a transmission pattern.例文帳に追加

ビーム幅がＬ_ｔである送信アンテナと、素子間隔がｄである複数の受信素子を有しビーム幅がＬ_ｒ（ただしＬ_ｒ＞Ｌ_ｔ）である受信アンテナとを備えるレーダ装置において、１つの受信パターンの主ビーム１７とグレーティングローブ１８が、同時に送信パターンの主ビーム１６の中に発生しないように素子間隔ｄを決定する。 - 特許庁

The pulse width control circuit 13 feed-back-controls DC power while controlling pulse width modulation, based on a function table in variable value control which lets a current flow gradually according to a specified envelop pattern and a function table in fixed value control after variable value control, based on the conduction pattern corresponding to the AC power voltage from a three-phase commercial AC power source 5.例文帳に追加

パルス幅制御回路１３は、三相商用交流電源５からの交流電源電圧に対応した導通パターンに基づいて、所定の包絡線パターンに従って徐々に電流を流す追値制御の関数テーブルと追値制御後の定値制御の関数テーブルとに基づいてパルス幅変調制御しつつ、直流電力をフィードバック制御する。 - 特許庁

In a portion of a ground solid pattern 151 of a power supply layer 15 wherein it overlaps with an oscillation circuit pattern 161 of a wiring layer 16 when projected in a substrate vertical direction, a pattern punch 152 is formed wherefrom a portion of the same width or a larger range of the oscillation circuit pattern 161 is removed to reduce a floating capacity to a negligible value.例文帳に追加

電源層１５のグランドベタパターン１５１のうち配線層１６の発振回路パターン１６１と基板垂直方向に投射したときに重なる部分について当該発振回路パターン１６１と同一幅またはそれよりも広範囲の部分を除去したパターン抜き部１５２を形成するようにして、浮遊容量を無視できる値に低減するようにしている。 - 特許庁

When performing on a circuit board the input/output impedance matching of approximately lower than 1 Ω relative to the power amplification element for power amplifying the high-frequency signals of 500 MHz or higher, in order to narrow the pattern width of the transmission line being pattern-formed on a pattern wiring layer of the circuit board, a ground layer is additionally formed in a dielectric layer immediately below the pattern concerned.例文帳に追加

５００ＭＨｚ以上の高周波信号を電力増幅する電力増幅素子に対して回路基板上で概ね１Ω未満の入出力インピーダンスマッチングを行う場合に、前記回路基板のパターン配線層にパターン形成される伝送線路のパターン幅が狭まるように、該当パターン直下の誘電体層内にグランド層を追加形成するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

Consequently, even in such a case that the top section of the pattern becomes extremely narrower in width than a designed value in a fine pattern portion or is not left, the edge sections are irradiated with light and reflected light rays from the edge sections are received by means of a one-dimensional CCD element 11.例文帳に追加

これにより、ファインパターン部分においてトップ部が設計値よりも極端に細くなったり、トップ部が残っていないような場合であっても、エッジ部に対して光が照射され、その反射光が１次元ＣＣＤ素子１１で受光される。 - 特許庁

Also, line impedance with the same pattern width matches by making the tester board substrate 101 a film substrate with the same material and thickness as the film substrate 70 and a phase difference is eliminated by mutually equalizing line lengths of the line pattern on the substrate 70.例文帳に追加

またテスタボード基板１０１をフィルム基板７０と同じ材質で同じ厚みのフィルム基板にすることで、同一のパターン幅で線路のインピーダンスを合わせ、さらにフィルム基板７０上線路パターンの線路長を互いに等しくして位相差を無くす。 - 特許庁

To provide a method and a device for adjusting a drawing condition to reliably decrease changes in the line width of an image pattern when the image pattern is drawn on an image recording medium by using a plurality of two-dimensionally arranged drawing elements.例文帳に追加

二次元状に配列された複数の描画要素を用いて画像記録媒体に画像パターンを描画する際、画像パターンに生じる線幅変動を確実に低減させることのできる描画状態調整方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The bar code demodulation system comprises a data table generating means 1 for converting the dot pattern of a bar code into a data table where the pattern is expressed by dot numbers corresponding to each bar width in order of arrangement, and a demodulating means 2 for demodulating the bar code according to the data table.例文帳に追加

バーコードのドットパターンを、その配列順序に沿って各バー幅に対応するドット数で示したデータテーブルに変換するデータテーブル生成手段１と、このデータテーブルに基づいて上記バーコードの復調を行う復調手段２とを備える。 - 特許庁

In this light scattering pattern 4, the width is gradually expanded toward the other end side from one end provided with a light emitting source 3, and the light scattering pattern 4 becomes discontinuous from one end side provided with the light emitting source 3 toward an intermediate part.例文帳に追加

この光散乱パターン４は発光源３を設けた一端側から他端側に向かってその幅が徐々に拡大するとともに、発光源３を設けた一端側から中間部にかけて光散乱パターン４が不連続になっている。 - 特許庁

To provide a metal die for magnet roll and a method of manufacturing a magnet roll, which can be mold a magnet roll having complicated magnetic force pattern, which is represented by a magnetic force pattern having the peak part of narrow half-value width and higher magnetic force and plateau type part.例文帳に追加

狭い半値幅の、高い磁力のピーク部分や、台地状の部分をもつ磁力パターンに代表される、複雑な磁力パターンをもつマグネットロールを成型することのできるマグネットロール用金型およびマグネットロールの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition for a UV ray laser, the composition capable of forming a pattern having high sensitivity of line width and excellent linearity and heat resistance, and to provide a pattern forming method, a method for manufacturing a color filter, a color filter and a display device.例文帳に追加

線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるパターンを形成しうる紫外光レーザー用着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a solid state imaging apparatus capable of suppressing generation of a junction leakage current even when the layout pattern width of a floating diffusion layer becomes small and a polysilicon pattern is arranged circumferentially along the floating diffusion layer, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

浮遊拡散層のレイアウトパターン幅が小さくなり、かつその周囲にポリシリコンパターンが浮遊拡散層に沿って配置された場合でも、接合リーク電流の発生を抑制することができる固体撮像装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and a control method thereof capable of sufficiently coping with furthermore fining of a pattern by preventing alteration of the resist so as to suppress variations in the line width of the pattern, even when exposure such as electronic beam exposure takes much processing time per one substrate.例文帳に追加

電子ビーム露光のように、基板１枚あたりの処理時間が非常に長い場合でも、レジストの変質を防止してパターンの線幅変動を抑止し、パターンの更なる微細化に十分対応可能な信頼性の高い露光を実現する。 - 特許庁