「plane pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

As for the reflective projection optical system for projecting a reduced size of a pattern on an object surface onto an image plane, the 3rd mirror and the 4th mirror from the image plane along the optical path are located between the 1st mirror from the image plane along the optical path and the 2nd mirror from the image plane along the optical path.例文帳に追加

物体面上のパターンを像面上に縮小投影する反射型投影光学系であって、前記像面から光路を辿って３番目のミラー及び前記像面から光路を辿って４番目のミラーが、前記像面から光路を辿って最初のミラーと前記像面から光路を辿って２番目のミラーの間に配置されたことを特徴とする反射型投影光学系を提供する。 - 特許庁

The high-pass filter includes a pattern wiring provided on a substrate, a capacitor provided on the pattern wiring in series, a GND electrode provided on the substrate in the same plane with the pattern wiring, and an inductor connecting the pattern wiring and GND electrode connected to one of terminals of the capacitor by air cabling using a wire.例文帳に追加

基板上に設けられたパターン配線と、パターン配線上に直列に設けられたコンデンサと、基板において、パターン配線と同一面に設けられたＧＮＤ電極と、コンデンサのいずれかの端子に接続されたパターン配線とＧＮＤ電極とを、ワイヤを用いて空中配線で接続するインダクタとを備えるハイパスフィルタを提供する。 - 特許庁

The plane type inductor 20 is formed out of a lower pattern, comprising a conductive layer formed on the base substrate 10, an annular core 22 comprising a magnetic-body layer formed on the lower pattern by a film-forming technique, and an upper pattern 23 electrically connected with the lower pattern which is a conductive layer formed on the front surface of the annular core 22.例文帳に追加

平面型インダクタ２０は、ベース基板１０に形成された導電層からなる下パターンと、下パターンの上に膜形成技術により形成された磁性体層からなる環状コア２２と、環状コア２２の表面に形成された導電層であって下パターンに電気的に接続される上パターン２３とにより形成される。 - 特許庁

With this, plane light emission giving out the irregular roughnesses and finenesses depending on directions can be formed, so that stage direction illumination such as a water surface pattern and a starry sky pattern can be easily formed at low cost without the need of any complicated light control.例文帳に追加

これにより、方向によって不規則な粗密を成す面発光を形成することができるので、水面模様や星空模様等の演出照明を、複雑な調光制御なしに、容易、かつ、安価に実現することができる。 - 特許庁

Then, the drawing pattern multiplexing apparatus 1 projects the vector relating to normal information onto a normal projection plane having the specific azimuthal angle for each drawing pattern by a normal information converting means 27.例文帳に追加

次に、図柄多重化装置１は、法線情報変換手段２７によって、法線情報に係るベクトルを、図柄ごとに特定の方位角を持つ法線投影面に投影し、投影されたベクトルに係る仰角を変換法線情報とする。 - 特許庁

In a band pass filter of a tri-plate structure, conductor patterns 15(1)b, 15(2)b extended in a broadwise direction of a laminated board 11 are formed in place of a conventional high impedance pattern formed on the same plane as an inner layer low impedance pattern.例文帳に追加

トリプレート構造のバンドパスフィルタにおいて、従来は内層の低インピーダンスパターンと同一面に形成されていた高インピーダンスパターンに代えて、積層基板１１の厚み方向に延びる導電体パターン１５(1)b, １５(2)bを形成する。 - 特許庁

Specifically, the double-terminal capacitors 21, 31 are built in the circuit blocks 2, 3, respectively, which are arranged above and below the power supply pattern 1 so as to be symmetrical with regard to the plane P including the power supply pattern 1.例文帳に追加

具体的には、二端子コンデンサ２１，３１を回路ブロック２，３内に内蔵させると共に、回路ブロック２，３を電源用パターン１を含む平面Ｐに関して面対称になるように、電源用パターン１の上下にそれぞれ配した。 - 特許庁

Consequently, when the connector 40 is packaged in a printed circuit board 10, the heat applied to the ground pin 42 is not radiated from the conduction layer 33 through the ground pattern 24, the ground plane 26, and the ground pattern 30 to an insulation layer 21.例文帳に追加

これにより、プリント基板１０にコネクター４０を実装する際、グランドピン４２に加えられた熱が導通層３３からグランドパターン２４、グランドプレーン２６、グランドパターン３０を介して絶縁層２１に放熱されてしまうことがない。 - 特許庁

The plurality of the second light sources P2 are arrayed in a second array pattern different from the first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the second light source group only is lighted as a whole.例文帳に追加

複数の第２の光源Ｐ２は、第２の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように、第１の配列パターンとは異なる第２の配列パターンで配列する。 - 特許庁

To provide a method of ultraviolet exposure capable of imparting an inclined plane to the sidewall of a resist pattern at an optional angle to a micronano pattern which is difficult to form an inclination on the sidewall, and to provide an ultraviolet exposure device.例文帳に追加

本発明の主な課題は、側壁に勾配を形成するのが困難なマイクロ・ナノパターンに対して、レジストパターンの側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる紫外線露光方法、紫外線露光装置を提供することである。 - 特許庁

In this flat antenna 10, the antenna patterns 13 and 14 with different receiving frequency bands are arranged on the same plane, and the outer antenna pattern 14 is constituted so as not to surround the inner antenna pattern 13.例文帳に追加

本発明に係る平面アンテナ１０では、受信周波数帯域の異なるアンテナパターン１３，１４が同一平面上に配置され、外側のアンテナパターン１４が内側のアンテナパターン１３を取り囲まないように構成されている。 - 特許庁

In a substrate 33, having a concavo-convex pattern corresponding to the information to be transferred in a master carrier 3 for magnetic transfer, the bottom face of a concave part 33b between a convex part 33a and a convex part 33a in the pattern has an inclined plane 33c.例文帳に追加

磁気転写用マスター担体３における転写すべき情報に応じた凹凸パターンを有する基板３３の、前記パターンにおける凸部３３ａと凸部３３ａ間の凹部３３ｂの底面が傾斜面３３ｃを有する。 - 特許庁

To obtain icon displays, display pattern parts 171, 172, and 173 of an optical modulation layer 17 are formed and control areas 114, 115, and 116 overlapping with those display pattern parts 171 to 173 in plane are formed on a liquid crystal panel 11.例文帳に追加

アイコン表示を得るために、光変調層１７の表示パターン部１７１，１７２，１７３を形成し、これらの表示パターン部に平面的に重なる制御領域１１４，１１５，１１６を液晶パネル１１に形成している。 - 特許庁

Then the image plane of the projecting optical system is detected by repeating slit scanning type spatial image measurement by using the pattern plate 90 while servo-controlling the optical axis direction and inclination of the pattern plate 90 by using the multi-point AF system.例文帳に追加

そして、多点ＡＦ系を用いてパターン板９０の光軸方向位置及び傾斜をサーボ制御しつつパターン板９０を用いてスリットスキャン方式の空間像計測を繰り返して投影光学系の像面を検出する。 - 特許庁

A liquid channel pattern is formed on a plane including the end face of the plurality of piezoelectric vibrators 11, a coating resin layer 1 is provided thereon, and then the liquid channel pattern is removed to form a plurality of pressure chambers 4, and the like.例文帳に追加

ついで、複数の圧電振動子１１の端面を含む平面上に液流路パターンを形成し、その上に被覆樹脂層１を設けたのち前記液流路パターンを除去することによって複数の圧力室４等を形成する。 - 特許庁

This crystal material has a spatial pattern of silicon atoms having repetitive pattern of a net work composed of one silicon atom and 3 silicon atoms surrounding it in a triangle state on a plane.例文帳に追加

該結晶材料は、１つのシリコン原子とそれを三角形状に取り囲む３つのシリコン原子とがほぼ同一の平面上に配置されたシリコンネットワーク構造を、シリコン原子の空間的配置における繰返しパターンとして有する。 - 特許庁

The shutter drive control unit 124 switches a first opening/closing pattern for displaying stereoscopic video and a second opening/closing pattern for displaying plane video according to the signal intensity determined by the signal intensity determination unit 123.例文帳に追加

シャッター駆動制御部１２４は、信号強度判定部１２３で判定された信号強度に応じて、立体映像を表示させる第１の開閉パターンと、平面映像を表示させる第２の開閉パターンとを切り替える。 - 特許庁

A light scattering pattern 8 disposed like a regular lattice on one main surface (light emitting surface) 6 of a flat light guiding body 2 is formed, and a light scattering pattern 8' irregularly disposed on the other main plane 7 is formed.例文帳に追加

板状導光体２の一方の主平面（光出射面）６上に規則的な格子状に配置した光散乱パターン８を形成し、他方の主平面７上に不規則に配置した光散乱パターン８’を形成する。 - 特許庁

The correction instruction means 42 receiving the data of the plane property patterns reads a machining condition correction value corresponding to its plane property pattern from a storage means (S9) and transmits the instruction of the machining condition correction value to the NC (Numerical Control) of the honing device (S10).例文帳に追加

面性状パターンのデータを受け取った補正指示手段４２は、記憶手段４４からその面性状パターンに対応する加工条件補正値を読み出し（Ｓ９）、ホーニング加工装置のＮＣにその加工条件補正値の指示を送る（Ｓ１０）。 - 特許庁

The diffraction optical device 2 is formed from an optical material such as a resin and glass by using a die in which the grating plane pattern is formed, and the device is provided with a diaphragm 3 which shields the incomplete form part of the diffraction plane of the diffraction optical device 2 from light.例文帳に追加

格子面形状が形成された金型を用い、樹脂やガラスなどの光学材料で成形された回折光学素子２であって、この回折光学素子２の回折面部分のうち不完全な形状部分を遮光する絞り３を有する。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank for obtaining uniformity of desired film thickness in a plane of a resist film (≤100 Å) in a prescribed critical area, even when the critical area (substantial pattern forming area) for uniformity of film thickness in a plane of a resist film is enlarged.例文帳に追加

レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Plane shape is measured based on the fringes being formed through interference of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face 7a of the diffraction optical element and a measuring light comprising the light reflected from the plane 8 to be inspected.例文帳に追加

回折光学素子の回折パターン面（７ａ）での反射０次回折光からなる参照光と被検面（８）での反射光からなる測定光との干渉によって形成される干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank for obtaining uniformity of desired film thickness in a plane of a resist film (≤100Å) in a predetermined critical area, even when the critical area (substantial pattern forming area) for uniformity of film thickness in a plane of a resist film is enlarged.例文帳に追加

レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア（実パターン形成領域）が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性（１００Å以下）を得るマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A concavo-convex pattern is formed on a sapphire substrate 10 and only the faces 10c-1 having the same normal vector direction in the c-plane or side faces making an angle of not more than 20 degrees with the c-plane are exposed while other faces are covered with an epitaxially grown mask 20 comprising SiO_2 (3.A).例文帳に追加

サファイア基板１０に凹凸を設けて、ｃ面又はｃ面と成す角が２０度以下の側面のうちの法線ベクトルの向きが同じ面１０ｃ−１のみを露出させ、他の面はＳｉＯ_2から成るエピ成長マスク２０で覆う（３．Ａ）。 - 特許庁

A recording surface Sxy is set on a XY plane in an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz is set on a YZ plane, a reference axis R is set on a Z axis and a three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

In the hologram recording film with additional information, two-dimensional additional information A', B' in an identical pattern is recorded as reproducible at a time on the hologram plane and in the front or back side of the hologram plane being superposed on a reproduced image I' from a volume hologram 22.例文帳に追加

体積ホログラム２２からの再生像Ｉ’に重畳して、同一パターンの平面付加情報Ａ’、Ｂ’がホログラム面とホログラム面の前方あるい後方に同時に再生可能に記録されている付加情報の付いたホログラム記録フィルム。 - 特許庁

A three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set by setting a recording surface Sxy on an XY plane of an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz on a YZ plane, and a reference axis R on a Z axis.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

As for the diffraction grating 6, the liquid crystal panel is not used, but the material which performs transmitting or light shielding according to the plane of polarization is used as the grating pattern and, therefore, electrode and the like are not required.例文帳に追加

回折格子６は液晶パネルではなく、格子パターンに偏光面に応じて透過・遮光する素材を用いており、電極などを必要としない。 - 特許庁

To provide a simple method for evaluating the in-plane distribution of the resist pattern dimensions of a photomask blank coated with a resist, and to provide a process management method for a lithography line for mask production.例文帳に追加

レジストを塗布したフォトマスクブランクのレジストパターン寸法の面内分布の簡易評価方法、及びマスク製造用リソグラフィーラインの工程管理方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, the principal surface part 3F1 has a projected part 33 projected to the side of the panel and flat areas 341 to 344 where the plane surface pattern of the projected part 33 is not formed.例文帳に追加

主面部３Ｆ１はディスプレイパネルの側に突出した凸部３３と凸部３３の平面パターンが形成されていない平滑領域３４１〜３４４とを有している。 - 特許庁

To provide a production method for photo mask, with which desired dimension or position accuracy is provided with high yield in respect to the mask patterns of different intra-plane apertures or pattern densities.例文帳に追加

面内の開口率やパターン密度が異なるマスクパターンに対して、収率良く所望の寸法精度や位置精度を得るフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The plurality of electrodes are exposed to the same plane as an external face in a directly above direction of the conductor pattern among external faces of the transfer mold resin.例文帳に追加

そして、該複数の電極は、該トランスファーモールド樹脂の外面のうち導体パターンの直上方向の外面と同一平面上に露出したことを特徴とする。 - 特許庁

To uniformize an etching rate within a plane of a light-shielding film regardless of the figure of a transfer pattern, to improve the quality of a multi-gradation photomask, and to improve the production yield.例文帳に追加

転写パターンの形状によらず遮光膜の面内におけるエッチングレートを均一化させ、多階調フォトマスクの品質を向上させ、製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a development nozzle and development method, capable of suppressing in-plane variation of resist pattern size caused by development and suppressing development loading effect in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクにおいて、現像によるレジストパターン寸法の面内バラツキの抑制、且つ現像ローディング効果を抑制することができる現像ノズルおよび現像方法を提供する。 - 特許庁

To supply a solvent vapor to a substrate with maintaining high in-plane uniformity when improving roughness of a pattern mask by supplying a solvent to a substrate.例文帳に追加

基板に溶剤を供給して、パターンマスクの荒れを改善するにあたり、高い面内均一性を確保した状態で、基板に対して溶剤蒸気を供給すること。 - 特許庁

The abutting unit 1tt constitutes the single plane by the pair of the same whereby the unit is stably disposed on the connecting pattern 2p, and is soldered to form the coil mounting substrate 10.例文帳に追加

当接部１ｔｔは一対で単一平面を構成することから接続パターン２ｐに安定的に載置されてハンダ付けされ、コイル実装基板１０を形成する。 - 特許庁

An analysis part 18 analyzes an appearance pattern of the analysis target word, and a display part 19 maps the analysis target word onto a two-dimensional plane and exhibits it to a user together with the evaluation score.例文帳に追加

分析部１８は、分析対象語の出現パターンを分析し、表示部１９は分析対象語を２次元平面にマップして評価スコアとともにユーザに提示する。 - 特許庁

And, thickness A of the mesh part 2 is set to 1 through 30 μm, and a depth B of a reentrant part 5 which has a plane form corresponding to a printing pattern form is set to 1 through 30 μm.例文帳に追加

また、メッシュ部２の厚みＡを１〜３０μmとし、印刷パターン形状に対応する平面形状を有する凹部５の深さＢを１〜３０μmとする。 - 特許庁

To provide a method for compensating for the effect of flare due to stray radiation in use of a projection system of lithographic apparatus to produce a pattern image on an image plane with a patterned radiation beam.例文帳に追加

パターン化放射線ビームで像面にパターン像を生成するために、リソグラフィ装置の投影システムの迷光放射線によるフレアの効果を補償する方法を提供する。 - 特許庁

A mounting stage 30 controls the position and posture, with respect to a reference plane, of a target work 22 on which exposure light is formed into an image and to be exposed with a predetermined mask pattern.例文帳に追加

露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２の基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージ３０である。 - 特許庁

The above process forms a desired laminate structure on a principal plane of the substrate 1 although photolithography is limited to a single step of forming the first mask pattern 4.例文帳に追加

以上の工程により、フォトリソグラフィが第１マスクパターン４を形成する１回のみに制限されるも、基板１の主面に所望の積層構造が形成される。 - 特許庁

A recessed and projected pattern output surface 124 and an image pickup element 4 and an illumination light incident plane 142 and an LED array 5 are respectively joined with a transparent adhesive material.例文帳に追加

凹凸パターン出力面１２４と撮像素子４とが、また照明光入射面１４２とＬＥＤアレー５とが、それぞれ、透明接着剤で接合される。 - 特許庁

A ratio D_0/D' of the mask pattern D_0 for the each opening to the each opening inside diameter D' is corrected in response to the density of the plurality of openings distributed in a plane of the solder resist layer.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の面内に分布する複数の開口の密度に応じて、開口用マスクパターン外径Ｄ_０と開口内径Ｄ’との比Ｄ_０／Ｄ’を補正する。 - 特許庁

In an MMIC chip 22, the second wiring pattern 21, the dielectric film 13 provided on the substrate 11, and the GND plane 12 constitute the micro stripline.例文帳に追加

ＭＭＩＣチップ２２においては、第２の配線パターン２１と基板１１に設けられた誘電体膜１３とＧＮＤプレーン１２とによってマイクロストリップ線路が構成されている。 - 特許庁