「plane pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A light-shielding adhesive part 30 having a continuous plane pattern corresponding to a plane pattern of a partition 25 and bonded to an element substrate 11 (the partition 25) and a counter substrate 12 to bond the element substrate 11 and the counter substrate 12, is provided on the partition 25 between adjacent pixels PIX disposed in a pixel array 111.例文帳に追加

画素アレイ１１１に配列された隣接する画素ＰＩＸ間の隔壁２５上に、隔壁２５の平面パターンに対応した連続する平面パターンを有し、素子基板１１側（隔壁２５）と対向基板１２側の双方に接着されて素子基板１１と対向基板１２とを接着する遮光性接着部３０が設けられている。 - 特許庁

The discontinuous points are formed by proper dimension on the reference potential plane positioned near a wiring pattern formed on a semiconductor chip or a package board configuring the semiconductor device, so that the delay elements having desired characteristics can be equivalently and easily added according to the shape of not the signal line side of the wiring pattern but the reference potential plane side.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体チップやパッケージ基板上で形成された配線パターンに近い位置にある参照電位平面に適切な寸法でこの不連続点を形成して配線パターンの信号線側ではなく、参照電位平面側の形状により、所望の特性を有する遅延素子を等価的に容易に付加することが出来る。 - 特許庁

A pattern forming device 1 includes a discharge 41 for discharging the pattern forming material from the plurality of the discharge openings toward the principal plane of the substrate 9, and forms a plurality of continuous patterns on the substrate 9 by relatively moving the discharge 41 to the substrate 9 in a direction along the principal plane of the substrate 9 by a stage moving mechanism 2.例文帳に追加

パターン形成装置１は、複数の吐出口からパターン形成材料を基板９の主面に向けて吐出する吐出部４１を有し、ステージ移動機構２により基板９の主面に沿う方向に吐出部４１が基板９に対して相対的に移動することにより、基板９上に複数の連続パターンが形成される。 - 特許庁

Distribution of wave front variation caused by the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face is measured based on the interference fringe between the reference light comprising the light reflected from a reference plane 5a and a measuring light comprising the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face and then the measurements of plane shape are corrected based on the measured distribution of wave front variation.例文帳に追加

参照面（５ａ）での反射光からなる参照光と回折パターン面での反射０次回折光からなる測定光との干渉縞に基づいて、回折パターン面での反射０次回折で生じる波面変化の分布を測定し、測定した波面変化の分布に基づいて被検面の面形状の測定結果を補正する。 - 特許庁

In the circuit board 1, an inductance pattern 121 formed in a circuit board inner layer 11b includes a traverse part 121a formed to project from a first ground pattern 114a by traversing two parallel sides of the first ground pattern 114a formed on the circuit board back face 11C when perspectively viewed through a plane.例文帳に追加

そして、回路基板１において、回路基板内層１１Ｂに形成されるインダクタパターン１２１は、平面透視したときに、回路基板裏面１１Ｃに形成される第１接地パターン１１４ａの平行な２辺を横切って第１接地パターン１１４ａからはみ出すように形成された横断部１２１ａを有する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative tone development, which reduces line edge roughness, enhances in-plane uniformity of a pattern dimension and shows excellent bridge margin, so as to stably form a high precision fine pattern for manufacturing a highly integrated electronic device with high precision, and to provide a method for forming a pattern using the resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスを低減し、パターン寸法の面内均一性を高め、更にはブリッジマージンに優れたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In addition, it is manufactured through a step for forming a photo resist in plane-symmetrical manner to the glass cloth on both surface of the glass cloth, evenly exposing both surface thereof by means of a mask with a specified pattern, developing the photo resist and forming a specified photo resist pattern on both surfaces thereof, and applying electrolytic plating to form a conductor pattern.例文帳に追加

この電子部品は、ガラスクロスの両面にガラスクロス面対称にフォトレジストを形成する工程、所定のパターンのマスクを介してガラスクロスの両面を同じに露光し、現像してガラスクロスの両面に所定のフォトレジストパターンを形成する工程、及電解メッキを施して導体パターンを形成する工程を用いて製造される。 - 特許庁

Next, the drawing pattern multiplexing apparatus 1 projects the three-dimensional shape relating to the drawing pattern onto a projection plane by a normal information recording means 25, and records the elevation and azimuthal angle relating to the normal direction of each projected pixel as normal information.例文帳に追加

次に、図柄多重化装置１は、法線情報記録手段２５によって、図柄に係る三次元形状を投影面に投影し、投影された各画素の法線方向に係る仰角および方位角を法線情報として記録する。 - 特許庁

Guide lights 31 to 33 are embedded in one or more micropores 21 constituting the micropore pattern 22, and top faces of the guide lights are formed on a same plane as a surface of the screen frame so that the guide lights are fit in with a part of the pattern.例文帳に追加

微細孔模様２２を構成する微細孔２１の１又は２以上にガイドライト３１〜３３を埋め込むと共に、そのガイドライトの先端面をスクリーンフレームの表面と同一面に形成し、そのガイドライトを模様の一部に埋没させるようにした。 - 特許庁

The method comprises a step of preparing an optical mask having a reference pattern and a comparison pattern, and projecting the optical mask on a prescribed image forming plane by using an exposure beam after loading the optical mask in an exposure system wherein a prescribed exposure beam is used.例文帳に追加

基準パターン及び比較パターンを具備する光学マスクを準備して、所定の露光ビームを使用する露光システム内に光学マスクをローディングした後、露光ビームを使用して光学マスクを所定の結像面に投映する段階を含む。 - 特許庁

The first resist pattern is used as an etching mask to etch the insulating film under the condition that deposits are formed on a width-direction center part of the plane pattern part, long in the one direction, of the first opening, thereby forming a first groove corresponding to the first opening.例文帳に追加

第１のレジストパターンをエッチングマスクとして、第１の開口の一方向に長い平面パターン部の幅方向の中央部に、堆積物が堆積する条件で、絶縁膜をエッチングすることによって、開口に対応する第１の溝を形成する。 - 特許庁

A first absorption grating 21, which is a second grating, is disposed on the z axis so as to generate a moire pattern, and θx, θy are adjusted so as to provide a uniform in-plane frequency of the moire pattern detected by the FPD 20.例文帳に追加

２枚目の格子である第１の吸収型格子２１は、モアレパターンが生じるようにｚ軸上に配置され、ＦＰＤ２０により検出したモアレパターンの周波数が面内において一律になるように、θｘ、θｙが調整される。 - 特許庁

Unevenness of polishing speed is reduced by providing openings positively in the surface of a film having a high pattern density being polished for planarization thus forming a planarized film having high in-plane uniformity regardless of the pattern density and the dimensions.例文帳に追加

平坦化するために研磨されるパターン密度の高い膜の表面に開口部を積極的に設けることにより、研磨速度の不均一性を低減し、パターン密度、寸法に依存しない面内均一性の高い平坦化膜を形成する。 - 特許庁

The light-diffusing pattern rate 6 is changed discontinuously in the border 10 (or in the part of the upper surface 12 facing the border 10) of the respective flat faces 13a, 13b and the light diffusing pattern rate for making the light quantity uniform is controlled independently in each plane.例文帳に追加

また、各平面１３ａ、１３ｂの境界部１０（またはそれと対向する上面１２部分）で光拡散パターン率６を不連続に変化させ、各部分で光量均斉化のための光拡散パターン率を独立して制御する。 - 特許庁

Furthermore, a controller 16 shifts a phase of the image plane pattern relatively to a phase of the projection pattern, brings the CCD sensor 31 to photograph images at each operation of shifting the phase, and computes a shape of the object 13, based on brightness information of those images.例文帳に追加

また、コントローラ１６は、像面パタンの位相を、投影パタンの位相に対して相対的にシフトさせ、位相がシフトされるごとにCCDセンサ３１により画像を撮像させ、それらの画像の輝度情報に基づいて被検物１３の形状を算出する。 - 特許庁

To provide a woven or knitted fabric having specific shape, having plane pattern and/or three-dimensional pattern and high shape-retaining property, excellent in durability and useful in textile field such as lining fabric, interlining, outerwear or inner and interior material field such as wall paper, lace or blind.例文帳に追加

平面模様および／又は立体模様を有し、その形状保持性が高く、耐久性に優れ、裏地、芯地、外衣、インナー等の衣料用分野、壁紙、カーテン、レース、ブラインドなどのインテリア資材分野等に有用な特殊形状織編物の提供。 - 特許庁

It is desirable for the sintered body to contain MgO in addition, and if it contains MgAl_2O_4 and MgO, it is preferred that the peak intensity of MgO (200) plane in an X-ray diffraction pattern is in the range from 0.5 to 50, provided that the peak intensity of MgAl_2O_4 (311) plane is 100.例文帳に追加

この焼結体は、ＭｇＯをさらに含むことが好ましく、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４及びＭｇＯを含む場合、Ｘ線回折によるＭｇＡｌ_２Ｏ_４（３１１）面のピーク強度を１００としたときのＭｇＯ（２００）面のピーク強度が０．５〜５０であること好ましい。 - 特許庁

The semiconductor film uses a semiconductor film, having a crystal structure containing silicon as a main component where among lattice planes detected by the reflected electron diffraction pattern method, the plane {101} occupying proportion is 10% or more, and the plane {111} occupying proportion is less than 10%.例文帳に追加

珪素を主成分とし結晶構造を有する半導体膜であって、反射電子回折パターン法で検出される格子面の内、｛１０１｝面が占める割合が１０％以上であり、｛１１１｝面が占める割合が１０％未満である半導体膜を用いる。 - 特許庁

To provide a metal layered resin film for a plane antenna, with which a high-quality plane antenna can be obtained without incurring any defect such as peeling or pinhole in a portion constituting a circuit pattern even when providing a thick aluminum metal layer whose layer thickness is 1 μ or more.例文帳に追加

層厚１μ以上の厚いアルミニウム金属層を設ける場合であっても、回路パターンを構成する部分に剥がれやピンホールなどの欠点が発生することなく、良質な平面アンテナを得られる平面アンテナ用金属積層樹脂フィルムを提供すること。 - 特許庁

A vector integrating section 11 selects a plurality of motion vectors with small SSD values in the unit of plural blocks configuring an area pattern from the SSD plane created by an SSD plane creating section 10 and integrates same motion vectors, when they are in existence.例文帳に追加

ベクトル統合部１１はＳＳＤ平面作成部１０で作成されたＳＳＤ平面から、領域パターンを構成する複数個のブロック単位に、ＳＳＤ値の小さい複数個の動きベクトルを選択し、同じ動きベクトルが存在する場合には統合する。 - 特許庁

The unit has N (N is an even number of not less than 4) plane air cores 40A-40D, and each of N plane air cores is composed of a spiral conductive pattern formed on an insulating board and is laminated in the thickness direction of the insulating board.例文帳に追加

ユニットは、Ｎ（Ｎは４以上の偶数）個の平面状空芯コイル４０Ａ〜４０Ｄを有し、Ｎ個の平面状空芯コイルの各々は、絶縁基板上に形成された渦巻状の導電パターンにて構成され、絶縁基板の厚さ方向にて積層される。 - 特許庁

By the selection of the degree of polarization, that is, by the ratio of a first intensity of a first plane of polarization to a second intensity of a second plane of polarization, the change in the ratio of the width to the length of a resist pattern 38 formed on a resist layer 14 is made possible.例文帳に追加

偏光度の選択によって、すなわち、第２の偏光面の第２の強度に対する第１の偏光面の第１の強度の比によって、レジスト層１４上に形成されるレジストパターン３８の長さに対する幅の比の変更が可能になる。 - 特許庁

To reliably manufacture an elastic wave device to which required marking is performed without causing degradation of characteristics by performing marking to one principal plane of a piezoelectric substrate using laser light without damaging an electrode pattern formed on the other principal plane of the piezoelectric substrate.例文帳に追加

圧電基板の一方主面に形成された電極パターンを損傷することなく、レーザ光を用いて圧電基板の他方主面にマーキングを行い、特性の低下を招くことなく、必要なマーキングが施された弾性波装置を確実に製造できるようにする。 - 特許庁

In the processing for determining the arrangements of the dot arrangement patterns of the four planes, the repulsive potential between the dot arrangement patterns in each plane and the repulsive potentials among the dot arrangement pattern in one plane and the dot arrangement patterns in the other planes are computed.例文帳に追加

これら４つのプレーンのドット配置パターンの配置を定める処理では、それぞれのプレーンにおけるドット配置パターン同士の斥力ポテンシャルや、１つのプレーンにおけるドット配置パターンと他のプレーンにおけるドット配置パターンとの間の斥力ポテンシャルを計算する。 - 特許庁

In positioning the screen mask to a base sheet, pattern matchings of an electrode arranging pattern 6P and an opening pattern 12P formed by detecting plane shapes of electrodes 6a of the base sheet 6 and pattern holes 12a by means of a laser measuring device are performed to obtain a matching ratio and to obtain a relative position for providing the maximum matching ratio and it is outputted as a position for the mask.例文帳に追加

スクリーンマスクの基板に対しての位置合わせにおいて、基板６の電極６ａおよびパターン孔１２ａの平面形状をレーザ計測装置によって検出することにより作成された電極配置パターン６Ｐおよび開口パターン１２Ｐをパターンマッチングさせてマッチング率を求め、最大のマッチング率を与える相対位置を求めてマスク位置として出力する。 - 特許庁

A determination method for determining a replacement timing of a focus ring disposed around a substrate to improve in-plane uniformity of a pattern when the pattern is formed by etching a film on the substrate comprises a measurement step of measuring a shape or dimension of the pattern and a determination step of determining a replacement timing of the focus ring based on the shape or dimension of the measured pattern.例文帳に追加

基板上の膜をエッチングしてパターンを形成する際に、該パターンの面内均一性を高めるために該基板の周囲に配置されるフォーカスリングの交換時期を判定する判定方法において、前記パターンの形状又は寸法を測定する測定工程と、測定した前記パターンの形状又は寸法に基づいて、前記フォーカスリングの交換時期を判定する判定工程とを備える。 - 特許庁

To find the film thickness distribution of a sample at a high speed without positioning points of measurement and a specific pattern on the sample in finding the in-plane film thickness distribution of the sample by measuring the film thickness of the sample after CMP processing.例文帳に追加

ＣＭＰ加工後、膜厚を計測し面内膜厚分布を求める際、試料上の測定個所及び、特定パターンの位置決めすることなしに高速に膜厚分布を求める。 - 特許庁

Lock stitching is performed on the film 2 in a pattern manner using an enamel wire of the wire 1 of 120 μm as bobbin thread and machine sewing thread of #90 as needle thread by an electronic sewing machine to form the plane antenna.例文帳に追加

電子ミシンにより、下糸に電線１の太さ１２０μｍのエナメル線、上糸に＃９０のミシン糸を用い、フィルム２にパターン状に本縫いを行い、平面アンテナを作成した。 - 特許庁

The surface 10a of an a-plane sapphire substrate 10 is subjected to ICP (inductively coupled plasma) etching to form stripe-pattern grooves 11 whose longitudinal direction is parallel to the m-axis direction of the sapphire substrate 10 (Fig.1(a)).例文帳に追加

ａ面サファイア基板１０の表面１０ａに、ＩＣＰエッチングで長手方向がサファイア基板１０のｍ軸方向に平行なストライプ状に凹部１１を形成する（図１（ａ））。 - 特許庁

To provide a steel plate concrete structure which enables stud bearing force to be rationally evaluated compared with a case where a plurality of studs are arranged in a matrix in a plane (in a reticular pattern).例文帳に追加

複数のスタッドを縦横整列配置した場合（格子状に配列した場合）と比較し、合理的なスタッド耐力の評価を行うことが可能にした鋼板コンクリート構造を提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic inductive component wherein the number of its coil turn per unit area can be made larger than the one obtained in the case of forming its coil pattern within a plane, and its heat radiating property is excellent additionally.例文帳に追加

一平面内にコイルパターンを形成する場合よりも面積当たりのターン数を大きくとることができ、しかも放熱性に優れている電磁誘導部品を提供することにある。 - 特許庁

The hard and soft magnetic substances shaped like stripes are formed alternately one by one on a plane as a parallel stripe pattern so as to constitute a linear scale in the direction intersecting the stripes perpendicularly.例文帳に追加

ストライプ形状の硬磁性体と軟磁性体を平面上に交互に１個ずつ平行なストライプパターンとして形成し、ストライプと直交する方向のリニアスケールを構成する。 - 特許庁

A pattern drawing apparatus includes a distance detecting part 5 acquiring a detected distance to the principal plane of a substrate 9, and a focusing mechanism 471 adjusting the focus of the light beam from a head.例文帳に追加

パターン描画装置は、基板９の主面との間の検出距離を取得する距離検出部５およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構４７１を備える。 - 特許庁

The other pattern element 53B is also disposed so that a direction of a normal line raised on its light reflecting face becomes parallel with a direction linking to the corresponding light source 33B in a plane view.例文帳に追加

他方の偏向パターン素子５３Ｂも、平面視で、その光反射面に立てた法線の方向が、対応する光源３３Ｂと結ぶ方向と平行となるように配置される。 - 特許庁

To provide a substrate inspection device capable of inspecting a circuit pattern by electrostatic capacity measurement with respect to its substrate, without setting up a reference plane whose potential becomes a reference.例文帳に追加

電位の基準となる基準面を設定することなく基板に対して静電容量測定による配線パターンの検査を行うことができる基板検査装置を提供する。 - 特許庁

Luminous flux from a light source 1 generates a pattern having prescribed intensity through a relay lens 5 on a plane of incidence of a fly's eye lens 6 by a diffraction optical element 4 as a luminous flux conversion means.例文帳に追加

光源１からの光束は，光束変換手段である回折光学素子４により，リレーレンズ５を介してフライアイレンズ６の入射面に所定の強度パターンを発生する。 - 特許庁

The side-face mold member includes a reflecting face having a diffusion pattern that diffuses the light from the lamps and an upper face part extending from the reflecting face in a plane substantially parallel to the bottom portion.例文帳に追加

側面モールド部材は、ランプから発生した光を拡散させるための拡散パターンを有する反射面及び反射面から底面部と平行に延びる上部面を含む。 - 特許庁

Moreover, in the memory 31 of the pattern drawing apparatus, there is stored a point-image intensity distribution 313, acquired by the image pick-up portion 15 when a point light source is arranged at a height of the object plane.例文帳に追加

また、パターン描画装置の記憶部３１には、対象面の高さに点光源を配置した場合に撮像部１５にて取得される点像強度分布３１３が記憶されている。 - 特許庁

An input means 3 of a navigation system 1 reads a pattern 12 which is printed on an entry medium 2 and can be transformed into positional information of its entry plane, when applying a writing operation to the entry medium 2.例文帳に追加

ナビゲーションシステム１の入力手段３は、記入面の位置情報へ変換可能なパターン１２が印刷された記入媒体２への書き込みの際にパターン１２を読み取る。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor laser device and a manufacturing method of it which attains a smooth resonance plane, a good far-field pattern shape of a laser beam and furthermore the reduction of a threshold.例文帳に追加

共振面が平滑で、レーザ光のファーフィールドパターン形状の良好な、更にしきい値の低下された窒化物半導体レーザ素子及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

This outside corner column A1 is formed by using plate pieces 1a and 1a having an emboss pattern composed of a large number of non-regular projection strips 6 and recessed grooves 7 running in the direction for crossing with a contact plane.例文帳に追加

接合面に交差する方向に走る多数の規則的でない凸条６と凹溝７からなるエンボス柄を有する板片１ａ，１ａを用いて出隅柱Ａ１とする。 - 特許庁

To provide the same plane right-angle bending waveguide which is disposed intersecting a core pattern and whose groove to compose a light reflecting surface has high dimensional accuracy, and the manufacturing method thereof.例文帳に追加

コアパターンと交差して設けられ、かつ、光反射面を構成する溝の、寸法精度が良好な同一面直角曲げ導波路及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a flattened film having high in-plane uniformity having no dependency on a pattern of a ground can be formed by reducing unevenness in polishing speed.例文帳に追加

研磨速度の不均一性を低減し、下地のパターンに依存しない面内均一性の高い平坦化膜を形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To gather data associated with many pattern conversion differences such as a wafer in-plane distribution in a short time, and to suitably determine or manage manufacture precision of a semiconductor device.例文帳に追加

短時間でウエハー面内分布などの数多くのパターン変換差に係るデータを収集することができ、適切に半導体装置の製造精度判定或いは管理を行い得る。 - 特許庁

The optical axes of the plurality of laser subassemblies are arranged in a radial pattern with the predetermined position as a center, in the plane containing the fast axis of the semiconductor laser light source of the plurality of laser subassemblies.例文帳に追加

該複数のレーザ・サブアセンブリの光軸は、該複数のレーザ・サブアセンブリの半導体レーザ光源の速軸を含む面内において、該所定の位置を中心として放射状に配置されている。 - 特許庁