「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(237ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a forming method of an electrically conductive pattern of a semiconductor element by which improvement in cleaning efficiency of a cleaning process carried out after a polishing process for forming the electrically conductive pattern of the semiconductor element, reduction in manufacturing cost and improvement in use of a polishing device are achieved.例文帳に追加

半導体素子の導電パターンを形成するための研磨工程の後に実施する洗浄工程における洗浄効率の向上、生産コストの軽減、及び研磨装置の活用性の改善を可能にする半導体素子の導電パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A manufacturing method of a member for a display device comprises a process of providing a photosensitive material containing at least a photosensitive resin in a liquid state on the base material and a process of performing post exposure to the photosensitive material on the base material by using a metal halide lamp.例文帳に追加

感光性樹脂を少なくとも含有する感光性材料を液体状で基材上に設ける工程と、基材上の前記感光性材料に対してメタルハライドランプを用いてポスト露光を行う工程とを有する表示装置用部材の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the ultrasonic probe for an ultrasonic treatment device includes a preparation process for preparing a rod of material 58 formed of titanium material, and an area reduction molding process for area reduction molding of at least one end side of the material 58 by use of an area reduction molding die 52.例文帳に追加

超音波処置装置用超音波プローブの製造方法は、チタン材で形成されている棒状の素材５８を準備する準備工程と、素材５８の少なくとも一端側を減面成形金型５２を用いて減面成形する減面成形工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a device for automatically creating the working sequence of manufacturing processes of products from CAD information in product design and automatically creating documented work instructions by process according to the working sequence, which is a means to reduce the number of preparing steps of the documented work instructions by process.例文帳に追加

製品設計のＣＡＤ情報から、製品の製造工程の作業順序を自動生成し、その作業順序に従った工程別作業指示書を自動生成する装置であり、工程別作業指示書の作成工数を低減できるようにする手段を提供する。 - 特許庁

To provide an integrated monitoring and analysis device and method for integrally monitoring and analyzing problems from the monitoring of the operating state on a process of various facilities such as a production facility in a factory or the like and the grasping of a factor disturbing the normal operation in each process.例文帳に追加

工場等における生産設備等各種設備の工程上の稼働状況の監視から当該各工程毎の正常稼働を妨げる要因の把握までの問題を統合的に監視して解析するようにした統合的監視解析装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To require no highly vacuum exhausting device by having uniform electron emitting characteristics for each electron emitting element by forming an uniform concentration distribution of introduced gas in a process (activating process) to deposit carbon or a carbon compound on a conductive thin film including an electron emitting part.例文帳に追加

電子放出部を含む導電性薄膜に炭素又は炭素化合物を堆積させる工程（活性化工程）における導入ガスの濃度分布を均一化することにより、各電子放出素子の電子放出特性の均一化を実現し、高真空の排気装置を不要とする。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device 1 comprises a deposition process of sequentially depositing a first layer (barrier layer 25) formed of a nitride semiconductor and a second layer (cap layer 26) on a substrate 10, and a thermal etching process of heating and etching the second layer in a mixed atmosphere of nitrogen and hydrogen.例文帳に追加

半導体装置１の製造方法は、基板１０に窒化物半導体で形成された第１層（障壁層２５）および第２層（キャップ層２６）を順に堆積させる堆積工程と、窒素および水素の混合雰囲気中で加熱して第２層をエッチングする熱エッチング工程とを備える。 - 特許庁

To reduce a residual carrier solvent amount in a toner layer on an image supporting body before a transfer process to a printing medium and to facilitate the absorption of a carrier solvent inside the toner layer to the printing medium after the transfer process compatibly in image formation to the printing medium of a liquid development electrophotographic device.例文帳に追加

液体現像電子写真装置の印刷媒体への画像形成において、印刷媒体への転写工程以前に、画像支持体上のトナー層中の残存キャリア溶媒量低減と、転写工程以降のトナー層内キャリア溶媒の印刷媒体への吸収されやすさとを両立する。 - 特許庁

This method and device for manufacturing the flat bar with the knurled edge from the steel strip 50, is provided with a knurling process for knurling the edge face of the steel strip after a process of forming rectangular cross section in one flat bar manufacturing line.例文帳に追加

鋼帯５０からローレットエッジ付きのフラットバーを製造するローレットエッジフラットバー製造方法であって、一つのフラットバー製造ライン中の矩形断面成形工程後に、鋼帯のエッジ面をローレット加工するローレット加工工程を備えたローレットエッジフラットバー製造方法及びその装置に係る。 - 特許庁

The silicon refining method for removing impurities from a molten silicon comprises a process for arranging a plurality of vessels holding the molten silicon in the treatment chamber of the refining device, and a process for introducing an oxidizing gas onto the surface of the molten silicon.例文帳に追加

本発明のシリコンの精製方法は、溶融シリコンから不純物を除去するシリコンの精製方法であって、溶融シリコンを保持する複数の容器を精製装置の処理室内に配置する工程と、溶融シリコンの表面に酸化性ガスを導入する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the process of step S1, a camera part actuates a portion of an imaging device and in a process of step S2, the camera part detects the signal output of the actuated imaging element and outputs the detected signal output to a DSP (digital signal processor).例文帳に追加

ステップＳ１の処理において、カメラ部が、撮像素子の一部を起動し、ステップＳ２の処理において、カメラ部が、起動した撮像素子の信号出力を検出し、検出した信号出力をＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）に出力する。 - 特許庁

The speech reproducing device having a signal receiving function to receive broadcasting signals and a speech signal processing function to process the speech signals from speech reproducing apparatus is constituted to cut a power source of the signal receiving function when there is no need to process the receiving signals.例文帳に追加

放送信号を受信する信号受信機能と音声再生機器よりの音声信号を処理する音声信号処理機能を有する音声再生装置において、この受信された信号を処理する必要が無いときにはこの信号受信機能の電源を切断するようにしたものである。 - 特許庁

To provide a method for preventing a crazing and cracking in semiconductor chip and encapsulation resin, being related to a semiconductor device having a chip size packaging structure in which an encapsulation resin is arranged on a semiconductor chip and the process of manufacture and to a semiconductor chip and the process of manufacture.例文帳に追加

本発明は半導体チップ上に封止樹脂が配設されるチップサイズパッケージ構造を有した半導体装置及びその製造方法及び半導体チップ及びその製造方法に関し、半導体チップ及び封止樹脂にひびや割れが発生することを防止することを課題とする。 - 特許庁

A server 101 sets a process setting information for processing display information for a display item 35 when list-displaying the information of an information database 301, and provides an information list of the display information processed according to the process setting information, to a terminal device 103.例文帳に追加

サーバ１０１は、情報データベース３０１の情報を一覧表示する際の表示項目３５に対して、表示情報の加工を行う加工設定情報を設定し、加工設定情報に応じて表示情報を加工した情報一覧を端末装置１０３に提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for semiconductor wiring formation, a method and apparatus for semiconductor device manufacturing, and a wafer which can omit a thermosetting process and a surface smoothing process, reduce the thickness of a barrier layer, and form wires in a groove with a high aspect ratio under optimum conditions.例文帳に追加

熱硬化処理及び表面平滑化処理の省略、バリア層の厚みの低減、並びに最適な条件で高アスペクト比の溝に配線を形成することが可能な半導体配線形成方法及び装置、半導体デバイス製造方法及び装置、並びにウエハを提供する。 - 特許庁

To provide a transport device enabling to cope with workpieces W with various thicknesses when the workpieces W supplied from a previous process are transported and erected, and allowing a conveyor to rotate continuously without stopping even when the workpieces W are not supplied from the previous process.例文帳に追加

前工程から供給されたワークＷを搬送、起立する場合に、多様な厚さのワークＷに対応可能とされるとともに前工程からワークＷが供給されない場合でもコンベアを停止することなく連続的に周回可能な搬送装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an NC working simulation device for giving no limit to the size (number of processes) of an NC working program, and for operating the resumption of simulation from the middle of the process of the NC working program, and for confirming the shape change of a work due to working from the middle of the process of an NC working program.例文帳に追加

ＮＣ加工プログラムのサイズ（工程数）に限界がなく、又、シミュレーションの再開を工程の途中から行うことができ、ＮＣ加工プログラムの工程途中からの加工によるワークの形状変化を確認することができるＮＣ加工シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring device which obtains cross section shape pattern information useful for determining etching process conditions using in-line SEM images obtained by non-destructive manner, and to realize effective process control by obtaining section shape pattern information using a SEM which is non-destructive and relatively easy to measure.例文帳に追加

エッチングプロセス条件決定に有効なパターン断面形状情報の取得を非破壊で観察可能なインラインＳＥＭの画像を用いて行い、また非破壊で比較的容易に測定が可能なＳＥＭによって断面形状情報を取得することで、効率のよいプロセス制御を実現する。 - 特許庁

A three-dimensional display device has means of: analyzing inputted image data and determining a process to be performed for the input image data (S101, S111, S113); performing the determined process for the input image data (S102, S103, S114); and outputting the input image data to a printer (S104, S117).例文帳に追加

入力される画像データを解析して、入力画像データに施す処理を決定し（Ｓ１０１、Ｓ１１１、Ｓ１１３）、決定された処理を入力画像データに施し（Ｓ１０２、Ｓ１０３、Ｓ１１４）、入力画像データを印刷装置へ出力する（Ｓ１０４、Ｓ１１７）。 - 特許庁

It is possible to sufficiently expand the airbag 10 by preventing the leakage of the air by the regulating plate 43 to position the airbag 10 at a favorable position, and to easily fold the airbag 10 in a desired shape by using the folding device 30 in the second process and the third process.例文帳に追加

規制板43により、空気の漏出を防止してエアバッグ10を十分に膨張させることができるとともに、エアバッグ10を好ましい位置に位置決めし、第２の工程及び第３の工程で、折畳装置30を用いてエアバッグ10を容易に所望の形状に折り畳むことができる。 - 特許庁

In this method for manufacturing of a semiconductor device including a grinding process of grinding a surface of a wafer on the side opposite to a circuit forming surface thereof, cutout parts of which the depth is smaller than the thickness of the wafer is formed by laser irradiation on the surface of the wafer on the circuit formation side before the grinding process.例文帳に追加

回路形成面とは反対側のウエハ面を研削する研削工程を有する半導体装置の製造方法であって、 前記研削工程の前に、前記回路形成側のウエハ面に、その深さがウエハ厚より浅い寸法の切欠部を、レーザ照射によって形成する。 - 特許庁

To provide a performance verification device of a thermal energy recovery system that is small in size, provides excellent portability, and can evaluate in advance a system that recovers the thermal energy of warm discharging water discharged from a manufacturing process and the like and generates high temperature water for supply to a heat consumption facility in the manufacturing process.例文帳に追加

小型で可搬性に優れており、製造工程等から排出される温排水の熱エネルギーを回収するとともに、高温水を生成して製造工程の熱消費設備に供給するシステムの事前評価ができる熱エネルギー回収システムの性能検証装置を提供する。 - 特許庁

To execute a temperature rise acceleration process of a catalyst 5 disposed in an exhaust gas passage 4 of an internal combustion engine 1 and a temperature rise acceleration process of cooling water of the internal combustion engine 1 as the need arises while keeping a structure as simple as possible in an exhaust heat recovery device 18 for the internal combustion engine 1.例文帳に追加

内燃機関１の排気熱回収装置１８において、可及的に簡素な構成としながら、内燃機関１の排気通路４に設けられる触媒５の昇温促進処理と、内燃機関１の冷却水の昇温促進処理とを必要に応じて実行可能とする。 - 特許庁

A single semiconductor heat treating device is constituted by disposing a process tube 12 which can house a wafer 10 in a horizontal state and has a rectangular cross section, a susceptor 14 which covers the process tube 12 and has an oblong cross section, and an induction heating coil 16 which covers the susceptor 14 and has a shape similar to that of the susceptor 14.例文帳に追加

枚葉型半導体熱処理装置であって、ウェハ１０を水平に内装可能な矩形断面のプロセスチューブ１２と、前記プロセスチューブ１２を覆う断面形状を長円とするサセプタ１４と、前記サセプタ１４を覆う相似形状の誘導加熱コイル１６とを配置してなる。 - 特許庁

To provide an information transmission device, an information transmission method, an information transmission process program and an information transmission system which can reduce a process load by reducing the number of times of acquisition of a stock quantity when transmitting information such as a Web page displaying a stock quantity.例文帳に追加

在庫数を表示するＷｅｂページなどの情報を送信する際に、在庫数を取得する回数を減少させて処理負担を軽減することを可能とする情報送信装置、情報送信方法、情報送信処理プログラム及び情報送信システムを提供する。 - 特許庁

When a process cartridge 20 is attached to a device main body and an exterior cover is closed, an engagement part 48b is pushed by an operating member 49 to turn a relay member 48, the image carrier shutter 18 is opened through engagement by a gear part 48a and the gear part 47 and a transfer aperture of the process cartridge 20 is released.例文帳に追加

装置本体内にプロセスカートリッジ２０を取り付けて外装カバーを閉じると、作動部材４９で係合部４８ｂを押して中継部材４８を回動し、ギヤ部４８ａとギヤ部４７との噛み合いを介して像担持体シャッタ１８を開き、プロセスカートリッジ２０の転写窓を開放する。 - 特許庁

Further, the manufacturing method of the photoelectric conversion device according to an embodiment includes: a process where a radiation part 8 is formed by radiating laser light to a part of the light absorption layer 3; and a process where a removal part is formed by removing the radiation part 8 by mechanical processing and patterning is performed on the light absorption layer 3.例文帳に追加

さらに、本実施形態に係る光電変換装置の製造方法は、光吸収層３の一部に、レーザを照射してなる照射部８を形成する工程と、照射部８を機械加工で除去して除去部を形成し、光吸収層３をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

To provide an image formation device capable of continuing a printing process by changing over to another paper feeding part when becoming unable to feed paper during the printing process requiring after-treatment and capable of restraining material cost by eliminating unnecessary paper feeding from the other paper feeding part.例文帳に追加

後処理が必要な印刷処理中に給紙不能となったとき、他の給紙部に切り替えて印刷処理を継続可能な画像形成装置であって、前記他の給紙部からの不要な給紙をなくし、資材コストを抑制することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a ferroelectric memory device comprises: a process for forming the ferroelectric capacitor 3, having at least a lower electrode 8, a ferroelectric film 9, and an upper electrode 10, on a substrate 2; and a process for annealing the ferroelectric capacitor 3 under an oxygen atmosphere.例文帳に追加

基体２上に少なくとも下部電極８と強誘電体膜９と上部電極１０とを有してなる強誘電体キャパシタ３を形成する工程と、強誘電体キャパシタ３を酸素雰囲気下にてアニール処理する工程と、を備えた強誘電体メモリ装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide a heat developing device which reduces the influence on images by adhesion of the cutting waste, emulsion peeling, etc., from end surfaces of heat developing photosensitive films to opposed rollers by making it possible to process the films from small to large sizes in executing heat developing process.例文帳に追加

熱現像プロセスを実行する際に、熱現像感光フィルムを小サイズから大サイズにわたって処理可能とし、フィルム端面からの断裁くずや乳剤剥がれ等が対向ローラに付着することによる画像ヘの影響を低減する熱現像装置を提供する。 - 特許庁

To establish a winding method and device for coated paper after being subjected to a super-calender process capable of winding up the coated paper having a thickness after super-calender process of below 80 μm and a Bekk smoothness of over 1500 sec in good condition into a coil of 2-4 m in diameter in a paper mill.例文帳に追加

製紙工場においてスーパーカレンダー処理後の厚さが８０μｍ以下でベック平滑度が１５００秒以上の塗工紙を直径が２〜４ｍのコイルに良好に巻き取ることができるスーパーカレンダー処理後の塗工紙の巻取方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a press plate process device for exhibiting functions for monitoring and managing working states after defining an operator in charge of operation to allow the working to progress as to the progress of item work for allowing respective devices such as an RIP machine/inspection machine in a press plate process to progress.例文帳に追加

刷版工程において、ＲＩＰ機・検査機といった刷版工程の各装置を進行する品目作業の進行について、作業責任者を明確にした上で作業状況をモニタ管理し、進行させる機能を発揮する装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To reduce the stopping time of a process line as short as possible even when the specification is changed to other coating agents in the midst of an applying process of a solvent on a corrugated fiber board original paper or the like to rapidly and easily switch to other coating agent to continue the operation and to maintain parts of the device.例文帳に追加

段ボール原紙等へ溶剤のコーティング工程において、途中別途のコーティング剤への仕様変更があっても、工程ラインの停止時間を最短縮し、迅速且つ容易に他のコーティング剤に切り替え運転続行ができ、装置部品の保全を図ること。 - 特許庁

To provide a visual inspection method which rationalizes and simplifies a setup process before a defect of an anti-reflection film is observed and a cleanup process after the observation, and to provide a visual inspection device which enables visual inspection of the total length of the anti-reflection film to be manufactured at a time.例文帳に追加

反射防止フィルムの欠陥を観察するに至るまでの段取り工程及び観察後の後始末工程を合理化・簡略化する外観検査方法を提供し、同時に製造した反射防止フィルム全長の外観検査が可能な外観検査装置を提供することを目的とした - 特許庁

This method for producing an iron oxide for the raw material of ferrite, having a process for preliminarily treating the amount of ferrous ion to 70 to 95 wt.% based on the total iron amount of an etching waste liquid and a process for spraying and roasting the etching liquid in which the amount of the ferrous ion is adjusted, and a device for producing the iron oxide.例文帳に追加

エッチング廃液の全鉄量に対する第一鉄イオン量を７０〜９５重量％に調整する前処理工程と、第一鉄イオン量が調整されたエッチング廃液を噴霧焙焼する工程とを有するフェライト原料用酸化鉄の製造方法および装置。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device provided with a capacitor comprising a dielectric film, a process for forming the dielectric film comprises a process for forming a silicon oxide film by a chemical growth method using a mixture gas comprising alkoxysilane gas and at least nitrogen.例文帳に追加

誘電体膜を有するキャパシタを備えた半導体装置の製造方法において、前記誘電体膜を形成する工程は、アルコキシシランガスと少なくとも窒素を含むガスとを含む混合ガスを用いた化学成長法によりシリコン酸化膜を形成する工程を備える。 - 特許庁

To provide an electrode for ozone generation which is preferable in efficient generation of ozone water usable in cleaning and sterilizing of water and sewage, food or the like, or cleaning in a semiconductor device manufacturing process by an electrolysis process, and a method of manufacturing the electrode for ozone generation.例文帳に追加

上下水道や食品等の洗浄殺菌処理や半導体デバイス製造プロセス等での洗浄処理等に利用可能なオゾン水を、電解法により効率良く生成するためのオゾン発生用電極並びにこのオゾン発生用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging device, a lens control method therefor and a storage medium, by which the high quality control of the same level is attained in a production process and also a service process because the occurrence of blurring is prevented by absorbing the manufacturing errors of an optical system and a mechanical system.例文帳に追加

光学系及びメカ系の製造誤差を吸収し、ボケの発生を防止することが可能になる結果、生産工程でもサービス工程でも同一レベルの高品質管理を行うことができる撮像装置及びそのレンズ制御方法、並びに記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which enables to use an ESC (electrostatic chuck) method as a means for fixing an insulating substrate in a dry process and can process to an external periphery without causing a dead space on a semiconductor substrate stuck on this insulating substrate.例文帳に追加

ドライプロセスにおいて絶縁性基板を固定する手段としてＥＳＣ法を用いることを可能とし、この絶縁性基板と貼り合わされた半導体基板上にデットスペースを生じること無く外周域まで加工を施すことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A control unit of a power conversion device subjects a first duty command signal D11 for a voltage applied to a first winding pair to a lower solid two-phase modulation process, and a second duty command signal D12 for a voltage applied to a second winding pair to an upper solid two-phase modulation process.例文帳に追加

電力変換装置の制御部は、第１巻線組に印加される電圧に係る第１デューティ指令信号Ｄ１１を下べた二相変調処理し、第２巻線組に印加される電圧に係る第２デューティ指令信号Ｄ１２を上べた二相変調処理する。 - 特許庁

The motion informing means is provided with a controller for informing that the loading device 50 is in the compression process by lighting a motion informing part when it is determined that the motion position of the pushing plate 8 at detection of the predetermined loading load is in a halfway position of the compression process.例文帳に追加

動作通知手段は、所定の積込負荷を検出した際の前記押込板８の動作位置が圧縮工程の途中位置であると判断すると、動作通知部を点灯させて積込装置５０が圧縮工程中であることを知らせるコントローラを有している。 - 特許庁

To provide a near infrared cut filter glass, which hardly produces crystals in the glass and thereby, can be used without inducing defects or the like even when the glass is subjected to heat treatment in a film forming process after forming the glass or in a manufacturing process of an imaging device using the glass.例文帳に追加

ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。 - 特許庁

Contamination evaluation is executed to the semiconductor substrate on the way of manufacturing in the manufacturing line of the semiconductor device, and if the substrate current value does not satisfy a condition specified by a proceeding step working process, an optimum cleaning process purposing the removal of the adsorbed substances on the substrate surface is applied.例文帳に追加

また、半導体装置の製造ラインにおいて製造途中の半導体基板に対して汚染評価を実施し、基板電流値が後段階作業工程の定める条件を満たさない場合は基板表面吸着物質の除去を目的とする最適な洗浄工程を実施する。 - 特許庁

This polishing device performing the polishing of a work 3 has a means for detecting the residual quantity R of stock to be removed, and a means for determining the working accuracy in the preprocessing process performed before the polishing process on the basis of the residual quantity.例文帳に追加

ワーク３に対して研磨工程を行う研磨装置において、ワーク取代残量Ｒを検出する取代残量検出手段と、前記ワーク取代残量に基づいて、前記研磨工程よりも前に行われる前加工工程における加工精度を判定する判定手段とを備えている。 - 特許庁

By means of the controller 14, a steam supplying process for supplying steam to the laundry inside the washing and spin-drying drum 3 by the steam supplying device 13 is carried out, and after the steam supplying process, water is supplied to a predetermined water level by means of the water supply valve 9.例文帳に追加

制御装置１４は、蒸気供給装置１３により、洗濯兼脱水槽３内の洗濯物に蒸気を供給する蒸気供給行程と、この蒸気供給行程の後に、給水弁９により所定水位まで給水し、洗い行程を実行するようにする。 - 特許庁