「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(236ページ目) - Weblio英語例文検索

A control unit 21 of a delivery business management device 20 performs a basic unit calculation process using delivery information, and performs a help giving/receiving process to distribute the numbers of basic units so that the workloads of people in charge are averaged and record it in a shared work information storage unit 37.例文帳に追加

配達業務管理装置２０の制御部２１は、配達対象情報を用いて原単位算出処理を実行し、担当者の作業量が平均化されるように原単位数を分配して分担作業情報記憶部３７に記録する応授援処理を実行する。 - 特許庁

It permits that other processing usually keeps updating the storage device, thus, the recording is used for assuring that data to be referred to in the backup process is not changed during execution of the backup process while avoiding that delay is generated by being connected with some file lock technology.例文帳に追加

他の処理が前記記憶装置を通常通り更新し続けるのを許容し、それにより、いくつかのファイルロック技術と結びついて遅滞が生じるのを避けている間中、前記記録は、バックアップ行程に参照されるデータが、それが実行中に変わらないということを保証するよう用いられる。 - 特許庁

To provide a three-dimensional membrane structure measuring method of a scanning probe microscope capable of measuring the surface shapes of respective layers at every manufacturing process in a manufacturing process of a semiconductor device having a multilayered structure to synthesize the measurement results and capable of analyzing and evaluating those measuring results using the data of a multilayer.例文帳に追加

多層構造を有する半導体デバイスの製造プロセスで、各層の表面形状を製造工程毎に計測し、それらの計測結果を合成し、多層のデータを用いて解析・評価することができる走査型プローブ顕微鏡の立体膜構造測定方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing an SOI wafer in which occurrence of heat distortion, stripping, cracking, and the like, due to difference of thermal expansion coefficient between a transparent insulating substrate and an SOI layer can be prevented through a simple process, and optical leak can be reduced when a semiconductor device is fabricated on the SOI layer.例文帳に追加

透明絶縁性基板とＳＯＩ層との熱膨張係数の差異に起因する熱歪、剥離、ひび割れ等の発生を簡易な工程で防止でき、さらにＳＯＩ層に半導体デバイスを作製した際に光リークを低減できるＳＯＩウエーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

When a fault detecting process means 103 detects a fault of the disk drive 200 or 201, the constitution display process means 102 registers fault information in the image definition file 301 and displays the state of the disk drive on the image display device 400 with the registered fault information.例文帳に追加

故障検出処理手段１０３がディスク装置２００，２０１の故障検出時に、構成表示処理手段１０２が画像定義ファイル３０１に故障情報を登録し、その登録した故障情報によりディスク装置の状態を画像表示装置４００に表示する。 - 特許庁

Further, by performing a simple wet etching process using a single wet station without another dry etching process for removing the oxide film in the cell region and a photosensitive film pattern, no bridging phenomenon between cells are induced, so that yield of a device is improved.例文帳に追加

さらに、セル領域の酸化膜及び感光膜パターンを除去するため別の乾式エッチング工程なく単一ウェットステーションを用いた簡単な湿式エッチング工程を行うことにより、セル間のブリッジング現象が誘発されないのでディバイスの収率向上に寄与することができる。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the nitride semiconductor laser device having a coat film formed on the end face of a resonator comprises a process of forming the end face of the resonator by cleavage, and a process of forming the coat film made of the oxynitride on the end face of the resonator.例文帳に追加

また、共振器端面にコート膜が形成されている窒化物半導体レーザ素子を製造する方法であって、劈開により共振器端面を形成する工程と、共振器端面に酸窒化物からなるコート膜を形成する工程と、を含む、窒化物半導体レーザ素子の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device comprises a process where a gate insulating film 2 is formed on the surface of a silicon substrate 1 and a process that after hydroxyl groups 3 are adsorbed on the surface of the film 2, a polycrystalline silicon film 4, which is a polycrystalline semiconductor film is formed on the film 2 by a chemical phase growth method.例文帳に追加

シリコン基板１表面にゲート絶縁膜２を形成する工程と、ゲート絶縁膜２表面に水酸基３を吸着させた後に化学気相成長法でゲート絶縁膜２上に多結晶半導体膜である多結晶シリコン膜４を成膜する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a noise control device for reducing noise in a frequency band for which noise control process is carried out within a noise transfer time while suppressing nose increase in a frequency band for which the noise control process is not carried out within the noise transfer time.例文帳に追加

騒音制御処理が騒音伝達時間内に間に合っていない周波数帯域における騒音増加を抑止しつつ、かつ、騒音制御処理が騒音伝達時間内に間に合っている周波数帯域においては騒音を低減させる騒音制御装置を提供する。 - 特許庁

This onboard speech recognition device 10 comprises a voice recognition part 11 executing a recognition process of an inputted voice, and a microcomputer (a control part) 15 executing a response process, i.e., generation and output of a control signal according to a voice content recognized by the voice recognition part 11.例文帳に追加

車載用音声認識装置１０は、入力された音声の認識処理を行う音声認識部１１と、音声認識部１１が認識した音声内容にしたがい制御信号を生成し出力する応答処理を行うマイコン（制御部）１５とを備えて構成されている。 - 特許庁

The solid state imaging device is manufactured through a process of forming conductive layers 13, 14 containing the metallic element on the semiconductor substrate 6 to form the electrode 15 by patterning the conductive layers 13, 14, and another process of forming the nitride silicon film 16 on the surface of the electrode 15.例文帳に追加

また、半導体基体６上に金属元素を含む導電体層１３，１４を成膜し、この導電体層１３，１４をパターニングして電極１５を形成する工程と、この電極１５の表面に窒化珪素膜１６を形成する工程とを有して、上記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

A pressure spring 2i is interposed between a guide member 2e and a bearing member 2d on the process cartridge side, and in the case the process cartridge is not loaded into the image forming device main body, a separating member 21a is inserted between a photoreceptor drum 1 and the electrostatic charging roller 2a so as to separate the drum from the roller.例文帳に追加

プロセスカートリッジ側のガイド部材２ｅと軸受部材２ｄとの間に加圧ばね２ｉを介装し、画像形成装置本体に対するプロセスカートリッジの未装着時には、離間部材２１ａを感光ドラム１と帯電ローラ２ａとの間に挿入して両者を離間させる。 - 特許庁

To provide a process system which can uniformize the flow of gas and the form of a plasma, to provide a small processing system by the occupation area of the device, to reduce the loss of high-frequency power put in a high-frequency plasma process, and to generate and maintain the plasma efficiently.例文帳に追加

ガスの流れやプラズマ形状を均一にすることが可能であり、かつ、装置の占有面積が小さなプロセス装置を提供すること、高周波プラズマプロセスで投入した高周波電力の損失を減らし、効率的にプラズマを発生、維持させることが可能なプロセス装置を提供すること。 - 特許庁

To provide catalyst-aided chemical processing method and apparatus which can process hard-to-process materials, especially, SiC, GaN, etc. whose importance as electronic device materials is increasing these days, with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens μm.例文帳に追加

難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数１０μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工することが可能な触媒支援型化学加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem on the cost aspect that it is necessary to add a process for forming reflecting electrodes and ruggedness layers for scattering reflected light to the manufacturing process of a transmission type thin film transistor array substrate in manufacturing a thin film transistor array substrate for a reflection type or a semi-transmission type liquid crystal display device.例文帳に追加

反射型や半透過型の液晶表示装置用薄膜トランジスタのアレイ基板を作成するには、透過型の薄膜トランジスタアレイ基板の製造工程に反射電極や反射光散乱用の凹凸層を形成する工程を追加する必要があり、コスト面で大きな課題となる。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device has (a) a process of forming the impurity diffused layers 5, 8 on the surface of the silicon substrate 1, and (b) a process of forming a metal film 9 consisting of nickel on a second impurity diffused layer 8 in the impurity diffused layers.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、（ａ）シリコン基板１表面に不純物拡散層５，８を形成する工程と、（ｂ）不純物拡散層のうち第２の不純物拡散層８上に、ニッケルからなる金属膜９を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The left process flow shows that a customer A1 transfers a deferred premium through an Internet ATM 3 of an insurance company 2 and the right process flow shows that a customer A'4 makes an investment trust through an on-line transaction device 5 of the insurance company 2.例文帳に追加

左側の処理フローは、お客さまＡ１が保険会社２のインターネットＡＴＭ３を通して据置保険金の振替えを行う処理を示し、右側の処理フローは、お客さまＡ’４が保険会社２のオンライン取引装置５を通して投資信託の取引を行う処理を示す。 - 特許庁

To provide a developing unit capable of shortening its longitudinal dimension and preventing its handle from being separated even when external force is exerted on the tip of the handle, and to provide a process cartridge provided with the developing unit and an electrophotographic image forming device to/from which the process cartridge can be attached/detached.例文帳に追加

現像ユニット自身の長手寸法を短くでき、更に取っ手先端部に外力が加わっても、取っ手が分離することのない現像ユニット、前記現像ユニットを備えるプロセスカートリッジ、及び、前記プロセスカートリッジを着脱可能な電子写真画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

A broadcasting device 12 generates a process parameter, for each of contents #1 and #2 that become material, to process each of the contents #1 and #2 and a timing parameter indicating an output timing at which each of the contents #1 and #2 is outputted as edited content that is content that has undergone editing.例文帳に追加

放送装置１２は、素材となるコンテンツ#1及び#2のそれぞれを加工するための、コンテンツ#1及び#2のそれぞれごとの加工パラメータと、コンテンツ#1及び#2を、編集後のコンテンツである編集後コンテンツとして出力する出力タイミングを表すタイミングパラメータとを生成する。 - 特許庁

A main system determination means 16 in the side of the terminal device 3 recognizes the data transmitted from the A system as effective one based on the main system information to allow a succeeding process, while the data transmitted from B system or C system is handled as ineffective ones to prohibit the succeeding process.例文帳に追加

端末装置３側の主系判別手段１６は、この主系情報に基づき、Ａ系から送られてきたデータのみを有効なものとしてその後の処理を許容し、Ｂ系又はＣ系から送られてきたデータについては無効なものとしてその後の処理を禁止する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which forms a protection film on a side wall of a via hole in the middle of etching process of a trench in order to reduce a faceting of the via hole, while which makes it possible to effectively protect an object to be protected by selecting its forming process properly.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、ビアホールに於ける肩落ちを低減させる為、トレンチのエッチング加工途中でビアホールの側壁に保護膜を形成するのであるが、その形成工程段階を適切に選定することで、保護対象を有効に保護できるようにする。 - 特許庁

To provide a copper-plating device wherein a Cu layer remaining at the edge and near it of a plated substrate formed in a copper-plating process is entirely removed, and possibility of causing Cu contamination (cross- contamination) is eliminated while the next CMP process is performed in a short time after copper plating.例文帳に追加

銅めっき処理により形成された被めっき基板のエッジ部及びエッジ部の近傍に残るＣｕ層を完全に除去し、Ｃｕ汚染（クロスコンタミ）が生じる恐れがなく、銅めっき処理後、短時間で次工程であるＣＭＰ処理が実施できる銅めっき装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a sheared workpiece stacking device capable of storing workpieces cut by a shearing machine, almost horizontally or vertically in a magazine for the following process directly from the shearing machine without stacking the workpieces flat on a skid once and then transferring them to the magazine for the following process.例文帳に追加

剪断機によって切断されたワークを、一旦スキッドの上に平積みして、その後、次行程用のマガジンに移し替えなくても、剪断機から直接に次行程用のマガジンにほぼ水平または垂直に収納することができる剪断加工物集積装置を提供する。 - 特許庁

To provide a bending system which can perform processing composed of a bending process and a press-insertion process by a single device, determines a proper order of both the processes in advance, and improves work efficiency at each point by utilizing existing equipment.例文帳に追加

曲げ工程と圧入工程から成る加工を行う場合に、１台の装置で実施可能にすると共に、両工程の適性順序を予め決定し、更に、既存設備を利用することにより、それぞれの点で作業効率を向上させる曲げ加工システムを提供する。 - 特許庁

This rice cooker is provided with a control device 14 to execute a preheating process for letting rice absorb water, and then execute a process of changing alpha-starch of rice into beta-starch by controlling heating means 5, 6, and 7 based on detection values by temperature detection means 11 and 12 at least.例文帳に追加

炊飯器は、少なくとも温度検出手段１１，１２の検出値に基づいて加熱手段５，６，７を制御し、米に吸水させるための予熱工程を実行後、米をベータ澱粉からアルファ澱粉に変化させるための工程を実行する制御装置１４を備える。 - 特許庁

The integral circuit device includes a correction circuit 300 for performing a correction process for image data PD; and data line driving circuits 200-1 to 200-n for supplying a multiplexed data signal to data signal supply lines S1 to Sn (n is a natural number) in response to image data GD after the correction process.例文帳に追加

集積回路装置は、画像データＰＤの補正処理を行う補正回路３００と、補正処理後の画像データＧＤを受けて、データ信号供給線Ｓ１〜Ｓｎ（ｎは自然数）に対してマルチプレクスされたデータ信号を供給するデータ線駆動回路２００−１〜２００−ｎと、を含む。 - 特許庁

The liquid crystal display device is manufactured by using a three-mask process so that a mask process is completed in the state that insulation layers of a gate pad part and a data pad part are not etched and the insulation layers of the gate pad part and data pad part are etched after assembling the upper part and lower part substrates.例文帳に追加

ゲートパッド部及びデータパッド部の絶縁層をエッチングしない状態でマスク工程を完了し、上部及び下部基板を合着後ゲートパッド部及びデータパッド部の絶縁層をエッチングする方法を利用して３マスク工程により液晶表示装置を製造する。 - 特許庁

This enables a stopping process or the process of changing speeds to be achieved based not on a stop signal S1 with an irregular time delay that comes from the control part 2, but on the stop signal S7 or speed change signal with a fixed response time without time delay that comes from hardware within the additional device 5.例文帳に追加

これが制御部２からの不定期な時間遅れを持った停止信号Ｓ１によらずに、付加装置５内ハードウェアからの時間遅れのない一定した応答時間を持った停止信号Ｓ７又は速度変更信号による停止処理又は速度変更処理を可能とさせる。 - 特許庁

In the voice lamp control means 113, the timing of receiving the prize information command is within such a period that a stop pattern of variable presentation in process is changeable, a display control device 114 is designated to change the stop pattern of variable presentation still in process to "chance combination".例文帳に追加

音声ランプ制御手段１１３では、入賞情報コマンドを受信したタイミングが、実行中の変動演出の停止図柄を変更可能な期間内なら、実行中の変動演出の停止図柄を「チャンス目」に変更するよう表示制御装置１１４に指示する。 - 特許庁

An environmental evaluation section 60 of the voice recognition device 10 for the vehicle selectively controls the voice recognition process of the acoustic pattern recognition section 50 and the voice recognition process of the image pattern recognition section 54 based on the vehicle conditions such as a vehicle speed, an air amount T of the air-conditioner, an audio volume A or the like.例文帳に追加

車両用音声認識装置１０の環境評価部６０は、車速Ｖ、エアコン風量Ｔ、オーディオ音量Ａ等の車両状態に基づき、音響パターン認識部５０の音声認識処理と、画像パターン認識部５４の音声認識処理とを選択的に制御する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device and a method therefor which are capable of detecting whether a substrate gets out of a position or not in both a substrate treatment process and a substrate transfer process, and preventing undesired treatment from being continuously carried out so as to improve a manufacturing yield.例文帳に追加

基板の処理過程における位置ずれ及び基板の搬送過程における位置ずれを検出することができ、不所望な処理が継続的に行われることを防止して歩留まりの向上を図ることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Also, because the sheet member 231 with the process liquid attached thereto is moved in a direction along the surface of the substrate Wf as a process proceeds, a substrate processing device enables a clean surface of the sheet member 231 to face opposite to the substrate and thereby preventing the surface of the substrate Wf from being tainted with liquid which drops from the sheet member 231.例文帳に追加

また、処理液等が付着したシート部材２３１は、処理に応じて基板表面Ｗｆに沿った方向に移動され、清浄な面を基板対向面とすることができるため、シート部材２３１から液体等が落下して基板表面Ｗｆを汚染することがない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device permitting to divide substrates into any form even if plastic substrates are used, and moreover, permitting a partial parting process and an outward form parting process by suppressing deformation by mechanical stress to the substrates, and controlling an influence by scraps produced at the time of processing.例文帳に追加

プラスチック基板を用いても、任意の形状に基板を分断でき、しかも基板の機械的応力による変形や、加工時に発生する屑などの影響を抑制して部分的分断処理および外形分断処理の行える液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for producing filter which is excellent in mass-productivity and enables easily and inexpensively producing a filter without requiring a process for forming a filter material into a desired shape beforehand and a process for fitting the filter material formed in the desirable shape into a die.例文帳に追加

濾過材を予め所要形態に形成する工程と、所要形態に形成された濾過材を金型内に装着する工程とを要することなく、量産性に優れ、極めて容易かつ低廉にフィルターを作製できるフィルターの製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

A liquid phase growing device 1 has a reaction pipe 3, a gas supply part 2 for making a process gas containing an impurity flow out into a growth reaction chamber 9 and a buffle 4 formed with a hole 10 for regulating the flow rate of the process gas G in the growth reaction chamber 9.例文帳に追加

本発明の液相成長装置１は、反応管３と、不純物を含むプロセスガスＧを成長反応室９内に流出させるガス供給部２と、プロセスガスＧの成長反応室９内における流量を規制する通口１０が形成されているバッフル４とを有する。 - 特許庁

Further, the block noise removing device generates a phase error signal on the basis of a ratio of a concerned phase error block noise to the largest block noise value and executes a block noise removing process on the basis of phase correction pixel sample value for applying a phase correction process based on the phase error signal to a decoded video signal.例文帳に追加

そして、当該位相誤差ブロックノイズ値と最大ブロックノイズ値との比率に基づいて位相誤差信号を生成し、復号化映像信号に対してかかる位相誤差信号に基づく位相補正処理を施した位相補正画素サンプル値に基づいてブロックノイズ除去処理を実施する。 - 特許庁

To provide a method and a system for solving a problem of location indication for indicating a location where a device whose process is completed is located in a manufacturing site to an operator, and a subject of indicating a setup starting time to the operator when setup for an operation after completing the process is performed.例文帳に追加

処理が完了した装置が生産現場のどこにあるか作業者に指示する場所指定の課題，処理完了後の作業のための段取りをいつ行うか作業者に指示する段取り開始時間指定の課題を解決する方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

A storage system, upon receiving a marker from a host computer, executes a generation determination process for determining a generation of a first logical volume that is used by a host computer, and writes information related to the generation determined in this generation determination process to a physical storage device and/or a memory.例文帳に追加

ストレージシステムは、ホスト計算機からマーカを受けた場合に、ホスト計算機が使用する第一の論理ボリュームの世代を確定する世代確定処理を実行し、その世代確定処理では、確定した世代に関する情報を、物理記憶デバイス及び／又はメモリに書込む。 - 特許庁

The gabion construction method has a process installing the gabion body 1 and a process installing the molding device 6 therein, heavy loads 3 are closely put in from an upward opening section 2 and mounting a gabion lid body 12 on the gabion body 1 by removing the molding plates 7.例文帳に追加

フトン篭工法は、フトン篭本体１を設置する工程と、そこに上記成形具６を据付け、上方開口部２から重量物３を入れて密に詰み、成形板７をはずし、フトン篭本体１にフトン篭蓋体１２を取り付ける工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To enhance the quality of a magnetic recording medium by devising a carrier holding a substrate included in a vacuum film-depositing device, thereby making the temperature of the substrate close to the temperature suitable for each film deposition process in a film-deposition process of the magnetic recording medium.例文帳に追加

真空成膜装置に含まれる基体を保持するキャリアを工夫することで、磁気記録媒体の成膜工程において基体の温度をそれぞれの成膜工程に適した温度に近づけることが可能となるため、磁気記録媒体の品質の向上を図ることができる。 - 特許庁

To enhance convenience in specifying a printer by a print service device for holding a print job received via a network and for transmitting a print instruction based on the print job to the printer specified by a process start instruction received from the terminal's side by the process start instruction.例文帳に追加

ネットワークを介して受領したプリントジョブを保持し、端末側から受信した処理開始指示により当該プリントジョブに基づくプリント指示をネットワークを介して当該処理開始指示により指定されたプリンタに送信するプリントサービス装置で、プリンタ指定の際の利便性を向上する。 - 特許庁

To obtain a function as a monitor tool, capable of rewriting stored information by trimming resistance inside a storage cell in storing the information using a pair of the storage cells, and easily detecting, variation in an element formation process and failure of a device after the element formation process is completed.例文帳に追加

一対の記憶セルを用いて情報を記憶する際、記憶セル内の抵抗のトリミングにより記憶情報の書き換えを可能とし、素子形成プロセスのばらつきや素子形成工程終了後のデバイスの不具合を容易に検出するためのモニターツールとしての機能を持たせる。 - 特許庁

In the case that the cracks are detected, an error signal is transmitted to a computer 11 controlling the semiconductor manufacturing device by the discriminating machine 10, and working is stopped in a process chamber and a carrying chamber 1 used for a just prior process detecting the cracks on the wafer.例文帳に追加

割れまたはクラックが検知された場合には、識別機１０より半導体製造装置を制御するコンピュータ１１へエラー信号が送信され、ウェハに割れまたはクラックが検出された直前の工程に用いたプロセスチャンバ内および搬送室１内での稼動を停止する。 - 特許庁

In addition to the process for producing a substrate, the process for manufacturing a circuit device 10 comprises a step for bonding a circuit element 12 to the packaging substrate 11 and connecting the electrode and the circuit element 12 electrically, and a step for forming sealing resin 17 to cover the circuit element 12.例文帳に追加

本発明の回路装置１０の製造方法は、上記基板の製造方法に加えて、実装基板１１に回路素子１２を固着して電極と回路素子１２とを電気的に接続する工程と、回路素子１２が被覆されるように封止樹脂１７を形成する工程とを有する。 - 特許庁