「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a developing device that suppresses an occurrence of a defect such as deflection of a developer regulating member along with a case member in a longitudinal direction due to a change in a use environment temperature and an in-machine temperature even in a case where the developer regulating member and the case member are formed of different materials, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤規制部材と、それを保持するケース部材と、を異なる材料で形成した場合であっても、使用環境温度や機内温度が変動したときに、現像剤規制部材がケース部材とともに長手方向に撓む不具合が生じにくい、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The fixing device where an unfixed toner image on the recording material is heated, pressured and fixed in a process to make the recording material pass through a nip part between a fixing roller 1 or a fixing belt 22 and a pressure roller 6 is equipped with a recording material temperature detection means 13 for detecting the temperature of the recording material made to pass on the upstream side of the nip part.例文帳に追加

定着ローラ１または定着ベルト２２と加圧ローラ６のニップ部に通紙する過程で記録材上の未定着トナー像を加熱、加圧定着する定着装置において、通紙される記録材の温度を検知する記録材温度検知手段１３をニップ部上流側に備えた。 - 特許庁

The method comprises the following process: putting fresh vegetables in an inner enclosed region of a freezer where a plurality of static magnetic field generators and electromagnetic coil structures generating a variable magnetic field by turning an alternating current are arranged; and rapidly cooling the vegetables down to a predetermined temperature under the effect of the static magnetic field and the variable magnetic field followed by instantaneously freezing the vegetables at the temperature.例文帳に追加

生野菜を、静磁場発生手段および交流を通電して変動磁場を発生する電磁コイル構造体を複数個設置した冷凍庫の内部閉空間に収容して静磁場および変動磁場の作用下で所定の温度まで急速冷却したのち、その温度で瞬時に冷凍する。 - 特許庁

Concretely, the environment determination part 208 determines the environment section for the process control based on a first environment section estimated based on the temperature detected by the temperature sensor 66 and a second environment section estimated based on the voltage measured by the voltage measuring device 64.例文帳に追加

具体的には、環境判定部２０８は、温度センサ６６により検出された温度に基づいて推定される第１の環境の区分と、電圧測定装置６４により測定された電圧に基づいて推定される第２の環境の区分とに基づいて、プロセス制御のための環境の区分を判定する。 - 特許庁

To provide a toner for developing an electrostatic charged image capable of obtaining a high density image while maintaining low-temperature fixability, even under a high-temperature high humidity condition, and capable of restraining fogging, and a manufacturing method therefor, a developer for developing the electrostatic charge image containing the toner for developing the electrostatic image, a toner cartridge, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

高温高湿条件下においても、低温定着性を維持しつつ、高濃度画像が得られ、かぶりを抑制できる静電荷像現像用トナー及びその製造方法、該静電荷像現像用トナーを含む静電荷像現像用現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

This method is characterized by comprising increasing a temperature of a core tube of a furnace in which sintering treatment is carried out and moving the porous preform to a heating zone of the furnace to start the sintering treatment after the heat zone of the core tube of the furnace reaches the temperature for the sintering treatment and a prescribed time is lapsed in a vitrifying treatment process dehydrating and sintering the porous preform.例文帳に追加

多孔質ガラス母材を脱水、焼結する透明ガラス化処理工程において、焼結処理を行う炉芯管の温度を上げ、炉芯管のヒートゾーンが焼結処理温度に達した後、所定の時間経過後、多孔質ガラス母材をヒートゾーンに移動し焼結処理を開始することを特徴としている。 - 特許庁

The method for producing 1-butanol comprises performing a 1-butanol fermentation production process using bacteria in an optimal proliferation temperature region for the fermentation strain and further performing the separation recovery of the 1-butanol by a pervaporation separation membrane method using a PV membrane having a specific membrane thickness in the temperature region.例文帳に追加

本発明は、細菌を用いた１−ブタノール発酵生成工程を発酵菌株の至適増殖温度域で行い、さらにその温度域において特定の膜厚を有するＰＶ膜を用いたパーベーパレーション分離膜法により１−ブタノールの分離回収を行う１−ブタノールの製造方法に関する。 - 特許庁

The curing process includes the first heating step of heating the intermediate molding at a temperature of 70 to 90°C for 120 to 4,320 min and the second heating step of heating the intermediate molding at a temperature of 120 to 200°C for 10 to 60 min after the first heating step.例文帳に追加

上記硬化工程が、７０℃以上９０℃以下の温度で１２０分以上４３２０分以下の時間に亘って加熱する第一加熱ステップと、上記第一加熱ステップの後になされ、１２０℃以上２００℃以下の温度で１０分以上６０分以下の時間に亘って加熱する第二加熱ステップとを含む。 - 特許庁

A catalyst element for accelerating oxidation is added to a semiconductor thin film containing silicon, heat treatment is made in oxidation atmosphere, and also the operation between oxygen radical and oxygen ion is utilized, thus forming an oxide film with improved quality on the semiconductor thin film containing silicon in a low-temperature process where the substrate temperature is at 600°C or less.例文帳に追加

シリコンを含む半導体薄膜に酸化を助長する触媒元素を添加し、酸化雰囲気中で熱処理することにより、また、酸素ラジカルおよび酸素イオンとの作用を利用することにより、基板温度が６００℃以下の低温プロセスにおいて、シリコンを含む半導体薄膜上に良質な酸化膜を形成する。 - 特許庁

To provide a soft polypropylene resin composition having appropriate flexibility without substantially containing oils such as process oil in a resin component, and having excellent resistance to stringiness, weather and discoloration resistance, resistance to high-temperature tackiness, high-temperature scratch resistance, impact resistance and fluidity (moldability), and to provide the molded article of the composition.例文帳に追加

プロセスオイルなどのオイル類を、樹脂成分に実質的に含有せずに、適度の柔軟性を有する上に、耐糸引き性、耐候変色性、耐高温ベタツキ性、耐高温傷付性に優れ、耐衝撃性及び流動性（成形性）にも優れた軟質系ポリプロピレン系樹脂組成物及びその成形体の提供。 - 特許庁

To restrain decrease in enthalpy of a refrigerant discharged from a compression mechanism and lowering of heating capability of a refrigerating cycle device due to movement of heat of compressed refrigerant in high temperature state to the expansion mechanism in the low temperature state in a process where the compressed refrigerant flows in a sealed container in an expander integrated compressor.例文帳に追加

膨張機一体型圧縮機において、圧縮冷媒が密閉容器内を流動する過程で、高温状態の圧縮冷媒の熱が低温状態の膨張機構に移動することによる、圧縮機構から吐出される冷媒のエンタルピーの減少、および冷凍サイクル装置の加熱能力の低下を抑制すること。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which possesses high potential characteristic and image characteristic for environmental stability and stability repeated use under all environments from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity and whose production stability is high, and a process cartridge and an electrophotographic device possessing it.例文帳に追加

低温低湿下から高温高湿下に至る全環境において、環境安定性や繰り返し使用による安定性に対して優れた電位特性および画像特性を有し、かつ、生産安定性に優れた電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

If at least one of a temperature difference ΔT or a humidity difference ΔH between the inside and outside of the apparatus at the time of print start is equal to or more than a first reference value ΔT1 or ΔH1, a control unit 90 gradually advances the execution timing of a refreshing process according to increase in the temperature difference ΔT or humidity difference ΔH.例文帳に追加

制御部９０は、印字開始時点の機内及び機外の温度差ΔＴ若しくは湿度差ΔＨのうち、少なくとも一方が第１基準値ΔＴ１若しくはΔＨ１以上のときは、温度差ΔＴまたは湿度差ΔＨの増加に応じてリフレッシュ工程の実行タイミングを段階的に早める。 - 特許庁

In this method for measuring a contamination condition of the quartz tube, a temperature of the quartz tube 121 is measured by an infrared radiation thermometer 14, in the manufacturing process of the optical fiber wherein a coating layer is provided by a radiation curing resin on a surface of a glass fiber, and the radiation transmittance in a wall of the quartz tube 121 is measured based on the temperature.例文帳に追加

石英管汚染状態の測定法は、ガラスファイバ表面に放射線硬化性樹脂による被覆層を設ける光ファイバ製造工程において、赤外線放射温度計１４により石英管１２１の温度を測定し、この温度から石英管１２１壁の放射線透過率を求めるものである。 - 特許庁

If the engine 100 is not in a high temperature state, the engine ECU 200 sets the fixed ignition timing to a reference angle, and when the engine 100 is in a fixed temperature state, the engine ECU sets the fixed ignition timing that is changed depending on whether the engine 100 is in the process of being started or it has been started (it is operating).例文帳に追加

エンジンＥＣＵ２００は、エンジン１００が非高温状態であれば、固定点火時期を基準角度に設定する一方で、エンジン１００の固定温度状態時には、エンジン１００が始動中および始動完了後（運転中）のいずれであるかに応じて、異なる固定点火時期を設定する。 - 特許庁

In an idling state of the engine 1, when a warming-up of the engine 1 is finished and an exhaust temperature TE is sufficiently high, predetermined execution conditions are satisfied (S12), and a cetane number estimating process is carried out.例文帳に追加

エンジン１のアイドル運転状態において、エンジン１の暖機が完了し、かつ排気温ＴＥが十分に上昇しているとき、所定実行条件が成立し（Ｓ１２）、セタン価推定処理が実行される。 - 特許庁

Then, the substrate 50 is loaded into a heat treatment oven, the semiconductor film 100 is subjected to heat treatment in a high-temperature atmosphere of 400°C-600°C (heat treatment process), and dangling bond that remains on the semiconductor film 100 is eliminated.例文帳に追加

次に、基板２０を熱処理炉に入れて、半導体膜１００に対して温度が４００℃〜６００℃の高温雰囲気中での熱処理を行い（熱処理工程）、半導体膜１００に残るダングリングボンドを除去する。 - 特許庁

The heating process is performed by heating in the temperature range of 500-1,200°C with the heater 2 arranged on both sides of the multiple optical fiber ribbon 1 while the heater is moved from the coating edge part 3 to the tip end of the optical fiber part 11.例文帳に追加

加熱工程は、５００℃以上１２００℃以下の範囲で、多心テープ光ファイバ１の両側に配置された加熱用ヒータ２を、被覆際部３から素線部１１先端へ移動させながら加熱を行う。 - 特許庁

To solve the problem that a substrate leakage current increases due to an interface level formed by plasma damage and thereby the image clarity of a CMOS image sensor declines in the case of omitting a high temperature heat treatment process.例文帳に追加

高温熱処理工程を省いた場合に、プラズマダメージによって発生した界面準位が原因で基板リーク電流が増大し、それによってＣＭＯＳイメージセンサの画像鮮明度が落ちることが課題である。 - 特許庁

To provide a hybrid integrated circuit device which has a structure capable of preventing a deterioration of solder bonding lifetime or strength under high temperature environment without distinction of material of electronic part and undergoing a surface treatment process.例文帳に追加

電子部品の材料を問わず、また、表面処理工程を行わなくても、高温環境下での強度劣化ははんだ接合寿命の低下を防止できる構造の混成集積回路装置を提供する。 - 特許庁

In the method or the system for estimating the quality of the food and drink, the quality of the food and drink is estimated by measuring the extremely faint emission of the food and drink whose high-temperature heating sterilization process has been finished.例文帳に追加

高温の加熱殺菌工程を終えた飲食品の極微弱発光を計測することにより該飲食品の品質を推定することを特徴とする、飲食品の品質推定方法または推定システム。 - 特許庁

To provide a niobium solid electrolytic capacitor capable of reducing a leakage current caused by high temperature heat processing such as a reflow process and the like, and keeping a capacity before and after the heat treatment, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

リフロー工程などの高熱処理により発生する漏れ電流を低減することができ、かつ熱処理前後における容量を維持することができるニオブ固体電解コンデンサ及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a heat treatment method, which dispenses with special formation of a thin film having satisfactory crystallinity, and never causes increase in resistivity even in a heat treatment process at a temperature exceeding 150°C after thin film formation.例文帳に追加

特別に良好な結晶性を有する薄膜とすることなく、薄膜形成後の１５０℃を超える温度での熱処理工程においても、抵抗率を増加させることのない熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method of forming a coating film having excellent high temperature oxidation resistance and corrosion resistance with a simple process of a short production time and a low production cost and without causing deformation or the change of the structure of a base material.例文帳に追加

基材に変形や組織変化を生じさせず、製造時間が短く、製造コストが安い簡単なプロセスで、高温酸化性および耐食性に優れる被膜を形成するコーティング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for drying a cylindrical coating material, wherein the temperature unevenness in a longitudinal direction is suppressed in a process of drying the cylindrical coating material with a simple configuration, and the switching of equipment is not needed in different varieties.例文帳に追加

簡便な構成で、乾燥工程における円筒状塗布物の長手方向の温度ムラを抑制し、品種による設備の切替えのない円筒状塗布物の乾燥装置及び乾燥方法を提供する。 - 特許庁

In a high temperature condition during the carding process, data quantity to be held can be reduced, and consequently, erroneous operation of the IC card due to change in the held data can be reduced.例文帳に追加

また、カード工程における高温条件にて、保持しなければならないデータ量を削減することが可能となることから、保持していたデータが変化することによるＩＣカードの誤動作の発生を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method of thermally treating a silicon wafer which can supply high-quality silicon wafers with a high production yield by reducing the generation of LPD easily and at a low cost, in a high temperature thermal treatment process of a silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウエハの高温熱処理工程において、簡易かつ低コストで、ＬＰＤの発生の低減化を図り、高品質のシリコンウエハを歩留よく供給することができるシリコンウエハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

This method can increase the crystallization efficiency of a low temperature polycrystallization process, and can provide crystals having higher regularity and a larger grain size as compared with those formed by conventional methods.例文帳に追加

このような方法により、低温多結晶化工程の結晶化効率を向上させることができ、結晶の均一度が高く、さらに結晶の大きさを従来の方法より大きく形成することができる。 - 特許庁

To provide a device for manufacturing high-quality coated fuel particles by making it possible to manage the gasification and supply of liquid materials in a process for manufacturing coated fuel particles for a high-temperature gas-cooled reactor more stably than ever.例文帳に追加

高温ガス炉用被覆燃料粒子の製造工程における液体原料のガス化供給を従来よりも安定に管理可能とし、高品質な被覆燃料粒子を製造できる装置の提供。 - 特許庁

To provide a washing machine which can surely and optimally perform the spin-drying of the laundry by controlling the spin-drying process based on the temperature and humidity of the air passing through the laundry as well as the volume and material of the laundry.例文帳に追加

洗濯物を通過した空気の温度および湿度と、洗濯物の量や布質等とに基いて、脱水工程を制御することによって、洗濯物の脱水を確実かつ最適に行える洗濯機を提供する。 - 特許庁

To form a ferroelectric thin film with film thickness of 1 μm or more without generating a crack by optimizing a temperature rising rate in a baking process in an application method such as the spin coat method or the MOD method.例文帳に追加

スピンコート法、ＭＯＤ法などの塗布法において、焼成工程における昇温速度を適切にして、クラックを発生させずに強誘電体薄膜を膜厚１μｍ以上成膜することを可能にする。 - 特許庁

To realize simultaneously suppression of deformation of a sensor chip at the sealing process time, the temperature changing time or the like, and maintenance of the degree of vacuum in a case after sealing, concerning the structure of a sensor unit.例文帳に追加

本発明は、センサユニットの構造に関し、封止工程時や温度変化時等におけるセンサチップの変形の抑制と、封止が行われた後におけるケース内の真空度の維持とを両立させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a waste melting process method capable of inhibiting the consumption of cokes, increasing the amount of dust to be brought to a furnace bottom in comparison with a conventional one, and keeping a temperature of the melt by the dust combustion heat.例文帳に追加

コークスの消耗を抑え、また炉底に吹込むダスト量を、従来より多く吹込めるようにし、ダストの燃焼熱で溶融物の温度を保持することができる廃棄物溶融処理方法を提供する。 - 特許庁

In a process (E), a silicon wafer 24 and a silicon wafer 38 are properly positioned and temporarily fixed, and a voltage is applied under pressure between both wafers 24, 38 in the atmospheric pressure of 10-3 mbar or less and at the temperature of 300°C or more.例文帳に追加

工程（Ｅ）でシリコンウエハ２４とシリコンウエハ３８の位置合わせをして仮固定し、雰囲気を１０^^-3ｍｂａｒ以下に、温度を３００度以上にして、両ウエハ間に加圧しながら電圧を印加する。 - 特許庁

The transmission pyrometer may be used for closed loop control for thermal treatments below 500°C or used in a pre-heating phase for a higher temperature process including radiation pyrometry in the closed loop control.例文帳に追加

透過型パイロメータは、５００℃より下の熱処理に対する閉ループ制御のために使用することができ、又は、閉ループ制御において放射型パイロメータを含むより高い温度処理のための予熱相において使用できる。 - 特許庁

In the process of drying the waste, the halogen heaters and the ventilation fan 42 are controlled by a control unit so as to keep a constant-temperature drying period showing a specific water content reducing tendency of the waste.例文帳に追加

この廃棄物の乾燥処理中に、廃棄物の含水率が所定の減少変化傾向を示す恒温乾燥期間を維持するように、制御装置によりハロゲンヒータ及び換気ファン４２の作動を制御する。 - 特許庁

A microwave oscillator for plasma generation is used, no plasma is generated in a first process, and the placement table in which the electromagnetic wave absorbing and heat generating material is incorporated is heated to impart the predetermined specified in-plane temperature distribution.例文帳に追加

プラズマ生成用のマイクロ波発振器を使用し、第一の工程ではプラズマを発生させず、電磁波吸収発熱素材が組み込まれた載置台を加熱して予め定められた特定の面内温度分布を付与する。 - 特許庁

To obtain a method for cleaning the surface of a compound semiconductor capable of realizing a heat treatment at the optimum temperature enabling removal of an oxide film without dissociation of constituting atoms from a substrate in the process of removing the oxide film by the heat treatment.例文帳に追加

熱処理による酸化膜除去工程において，構成原子の基板解離がなく酸化膜除去ができる最適温度での熱処理が実現できる化合物半導体の表面清浄化方法を得る。 - 特許庁

As a result of this, it is possible to simplify liquid temperature management and gas pressure adjustment in a production process, and bring a carbonated beverage product to the carbonated beverage having fine bubble and retaining bubble when pouring into a glass.例文帳に追加

これにより、製造工程での液温管理やガス圧調整の簡便を図ることができるとともに、製品の炭酸飲料も、これをグラスに注ぐと、気泡が細かく泡持ちがよい炭酸飲料となる。 - 特許庁

To provide a polyamide 66 resin-mixed pellet which inhibits the increase of yellowness and thermal decomposition in a molding process at a high temperature, in repeated melting processes, and in staying under heat for a long time, and has excellent mechanical properties such as toughness.例文帳に追加

高温での成形、繰り返しの溶融工程、長時間の熱滞留において、黄色度の増加の抑制、熱分解が抑制されかつ靭性等の機械物性に優れるポリアミド６６樹脂ペレットの提供。 - 特許庁

A manufacturing process of the piezoelectric element 20 which normally requires baking under a high temperature of 600-1,000°C is not carried out on an Si substrate 2, and is carried out on a film formation substrate 13 different from the Si substrate 2.例文帳に追加

通常、６００℃〜１０００℃といった高温下での焼成が必要とされる圧電素子２０の製造工程を、Ｓｉ基板２上では行わず、Ｓｉ基板２とは別の成膜用基板１３上で行う。 - 特許庁

To reduce the variation of delay fluctuations of LSI output data caused by LSI process variation, power supply voltage fluctuations, ambient temperature change or the like.例文帳に追加

同一クロックにて動作するＬＳＩ間のデータ転送に関して問題となる、ＬＳＩプロセスばらつき、電源電圧変動、および周囲温度変化等に起因するＬＳＩ出力データの遅延変動のばらつきを低減すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent resolution and etching resistance, capable of giving a resist pattern that undergoes a small dimensional change per unit temperature by a thermal flow process and having good aging stability.例文帳に追加

解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The multilayer printed wiring board uses a polymer film material differing in heat setting temperature of a stretching process, for each of insulating layers 321 to 325, wherein polymer film materials are arranged.例文帳に追加

絶縁層の各層毎に、延伸工程の熱固定温度が異なる高分子フィルム材料を、それぞれ用いて配置することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法と同製造方法による多層プリント配線板。 - 特許庁

To provide a piecing device and a piecing method capable of reducing a lowering width of the flame resistance forming processing temperature, by preventing a yarn cut of fiber yarn in a flame resistance forming process, by uniformly entangling the mutual fiber yarns.例文帳に追加

繊維糸条同士を均一に交絡させることで耐炎化工程中の繊維糸条の糸切れを防止し、耐炎化処理温度の低下幅を小さくすることができる糸継ぎ装置及び糸継ぎ方法を提供する。 - 特許庁