「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

Steam temperature control in a steam generating and supplying device is made in cooperation with a molding operation of an injection molding apparatus, when using steam as a mold heating medium in a molding process of the molding apparatus, in which temperature of a mold 11 is raised rapidly before injection molding a molten resin material into the mold 11, and cooled to at solidification temperature or below after injection.例文帳に追加

金型１１内に溶融樹脂材を射出成形する前に金型１１の温度を急速に上昇させ、射出後、固化温度以下まで冷却する射出成形機の成形方法において、金型加熱媒体に蒸気を用いるとき、蒸気発生供給装置における蒸気温度制御を射出成形機の成形工程に連携させて行う。 - 特許庁

To provide an injection molding method capable of performing injection molding so as to reduce the temperature difference between the temperature of a resin at the time of injection in a resin injection process and the temperature of a mold to the utmost when a molding cycle is extended and contracted to perform injection molding to suppress the lowering of the quality of a molded product, and a production system control method using it.例文帳に追加

成形サイクルを伸縮して射出成形するに際し、樹脂射出工程における射出時の樹脂温度と金型温度との温度差を可及的に生じさせないで射出成形することができ、成形品の品質低下を抑制することが可能となる射出成形方法、該射出成形方法を用いる生産システム制御方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing process of the laminated molded body is characterized by laminating noncrystalline state thermoplastic polyester resin sheets on both surfaces of a pultrusion stretched thermoplastic polyester resin sheet obtained by pultrusion stretching at a temperature of [the glass transition temperature of the thermoplastic polyester resin-20°C]-[the glass transition temperature of the thermoplastic polyester resin+20°C] by sequentially co-extruding an adhesive layer and a thermoplastic resin layer.例文帳に追加

非晶状態の熱可塑性ポリエステル系樹脂シートを、該熱可塑性ポリエステル系樹脂のガラス転移温度−２０℃〜該熱可塑性ポリエステル系樹脂のガラス転移温度＋２０℃の温度で引抜延伸して得られた引抜延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂シートの両面に、接着剤層と熱可塑性樹脂層を順次共押出により積層することを特徴とする積層成形体の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of a PEFC electrode includes a process in which a mixture containing carbon particles and a cation exchange resin is heated at a temperature of glass transition temperature or more and decomposition temperature or less of the cation exchange resin, and then, cations containing a platinum metal element are adsorbed to the cation exchange resin contained in the above mixture, and then the cations are reduced.例文帳に追加

ＰＥＦＣ用電極の製造方法において、カ−ボン粒子と陽イオン交換樹脂とを含む混合物を、前記陽イオン交換樹脂のガラス転移温度以上、分解温度以下の温度で加熱した後、前記混合物に含まれる前記陽イオン交換樹脂に白金族金属元素を含む陽イオンを吸着させ、その後前記陽イオンを還元する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing nickel chloride crystal by heating a nickel chloride solution for concentration and then cooling, whether the grade of nickel in the nickel chloride crystal is above the target grade or not is confirmed by measuring the temperature change generated during the temperature rise when the solution is left for a certain period of time after it is quenched to a required temperature in the cooling process.例文帳に追加

塩化ニッケル溶液を加熱により濃縮した後に冷却することで塩化ニッケルの結晶を製造する方法において、冷却過程で所定の温度まで急冷させた後に放置している期間に生じる温度上昇時の温度変化量を測定することにより、塩化ニッケル結晶のニッケル品位が目的とする品位以上であることを確認することを特徴とする。 - 特許庁

To realize a temperature measuring function by forming a semiconductor material layer on a glass face covering a time display face of a wrist watch, and by forming thereon a temperature sensor, a temperature detection circuit and a semiconductor memory in a membrane shape in micron order by a membrane formation process of a semiconductor device, almost without changing the thickness and the weight of the whole wrist watch from that of the conventional wrist watch.例文帳に追加

腕時計の時刻表示面を覆うガラス面に半導体材料層を形成し、その上に半導体デバイスの薄膜形成プロセスにより、ミクロンオーダーの薄膜状に、温度センサー、温度検出回路、および半導体メモリーを形成し、これにより腕時計全体の厚みや重量を従来の腕時計とほとんど変えることなく、温度測定機能を実現する。 - 特許庁

The Cs resource includes the Cs component, the ratio (mol%) of the Cs component is set greater than the ratio (mol%) of the Cs component in the raw material composition for growing the raw material crystal, and the heating temperature in a heat treatment process is a temperature in which Cs vaporizes from the Cs resource and a temperature lower than that at which a weight decrease in the cesium boric acid compound crystal is generated.例文帳に追加

Ｃｓ供給源は、Ｃｓ成分を含み、そのＣｓ成分の割合（ｍｏｌ％）が、原料結晶を育成するための原料組成物におけるＣｓ成分の割合（ｍｏｌ％）よりも大きく設定し、加熱処理工程における加熱温度は、Ｃｓ供給源からＣｓが蒸発する温度であり、且つ、セシウムホウ酸化合物結晶に重量減少が発生する温度未満とする。 - 特許庁

To enhance the performance and reliability of sonic type instrumentation for the temperature/flow measurement of a gas, based on propagation time detection, by providing a method of identifying misdetection state in a propagation process, caused by superposition of disturbance noises and distortion of transmitted waveform, produced in the propagation process by conditions on physical properties inside a combustion furnace or inside a duct, keeping followability on the temperature/flow states.例文帳に追加

燃焼炉内またはダクト内の物性的条件によって伝播過程において生じる送信波形の歪みや外乱ノイズの畳重によってもたらされる伝播過程の誤検出状態を、温度・流量状態への追従性を維持したまま識別する方法を提供することにより、伝播時間検出に基づく音波式ガス温度・流量計測の計測性能と信頼性を向上させること。 - 特許庁

In the electrostatic charge image developing toner manufacturing method comprising a drying process, a loop type pneumatic conveying dryer is used in the drying process in which air flow 7 whose temperature is ≥70°C and line velocity is ≥30 m/s is supplied to the loop 1 of the pneumatic conveying dryer and the air flow temperature at the toner collecting part 5 of the dryer is controlled to ≤60°C.例文帳に追加

乾燥工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、該乾燥工程でループタイプの気流乾燥機を使用し、該気流乾燥機のループ部１へ温度が７０℃以上であり、かつ線速度が３０ｍ／ｓ以上の気流７を供給し、該気流乾燥機のトナー回収部５における気流の温度を６０℃以下にすることを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of conductive particulates having a conductive metal-coated layer on the surface of a base material with high-molecule polymer particulates as a base material comprises a pretreatment process including a process of selectively hydrophylizing a surface of the high-molecule polymer particulate base material by low-temperature plasma treatment (a selective hydrophilization process), and a coating process of forming a coating layer of conductive metal on the pre-treated base material.例文帳に追加

高分子重合体微粒子を基材として基材表面に導電性金属被覆層を有する導電性微粒子の製造方法において、低温プラズマ処理により高分子重合体微粒子基材表面を選択的に親水化してなる工程（選択的親水化工程）を含む前処理工程と、前記前処理された基材に導電性金属の被覆層を形成するコーティング工程とを含む導電性金属被覆微粒子の製造方法。 - 特許庁

To provide an image forming device which can perform image formation while switching the process speed without any trouble such as time wait and keep the picture quality of front and reverse surfaces in both-surface print mode constant at each process speed through simple control with simple constitution without switching the transfer voltage and fixation temperature.例文帳に追加

プロセス速度を切り換えての画像形成が、時間待ちなどの不具合を伴うことなく実施可能であって、また、各プロセス速度において、両面印字モードにおける表裏の画質を、転写電圧や定着温度の切り換え等を行うことなく簡単な構成かつ制御で一定とできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The composition is produced by a process for mixing a curing agent with an uncured fluorocarbon elastomer together with a reactive oligomer, to form a mixture, and a process for heating the mixture at a temperature enough for realizing vulcanization of the elastomer material and polymerization of the oligomer for a time enough for the same, while applying mechanical energy to the mixture and mixing it.例文帳に追加

本組成物は、硬化剤と、未硬化フルオロカーボンエラストマーと、反応性オリゴマーとを混合する工程、及びエラストマー材料の加硫とオリゴマーの重合を達成するために十分な温度で十分な時間、機械エネルギーを加えて混合しながら混合物を加熱する工程によって製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing the conductor is a so-called molten salt method which includes a raw material mixing process for admixing predetermined amounts of compounds serving as sources of lithium, phosphoric acid, element Z and, if necessary, element X, to obtain a mixture, and a baking process for baking the mixture at a predetermined temperature.例文帳に追加

またその製造方法は、いわゆる溶融塩法とし、リチウム源、リン酸源、元素Ｚ源、必要に応じて元素Ｘ源となる各化合物を所定量混合して混合物を得る原料混合工程と、該混合物を所定の温度で焼成する焼成工程とを含んでなるよう構成する。 - 特許庁

The magnetic disk manufacturing method performs a film forming process (A) for forming a magnetic film 62 on a glass substrate 61 so that its Curie temperature may be 600 K or lower, and an ion implantation process (C) for locally implanting ion into the area of the magnetic film 62 other than a protection area.例文帳に追加

磁気ディスク製造方法において、ガラス基板６１上に、キュリー温度が６００Ｋ以下となるように磁性膜６２を形成する製膜工程（Ａ）と、その磁性膜６２に対し、所定の保護領域を除いた他の領域に対して局所的にイオンを注入するイオン注入工程（Ｃ）とを実行する。 - 特許庁

In this case, it is preferable that the process for forming the aluminum oxide layer or the aluminum oxynitride layer is a process comprising forming the aluminum oxide layer or the aluminum oxynitride layer by arranging the aluminum nitride powder in the oxygen-containing atmosphere without cooling the aluminum nitride powder to room temperature after the aluminum nitride powder is produced.例文帳に追加

この場合、前記酸化アルミニウム層または酸窒化アルミニウム層を形成する工程は、前記窒化アルミニウム粉末を製造した後に、前記窒化アルミニウム粉末を室温まで冷却せずに酸素雰囲気下に置くことにより前記酸化アルミニウム層または酸窒化アルミニウム層を形成する工程であるのが好ましい。 - 特許庁

The conductive functional component is formed on a base board, on the way of or after depositing solution containing a stabilizer of a thermal decomposition property or UV degradability with the metal nanoparticles on the base board, by removing the stabilizer by a heating process or a UV process at a temperature of ≥180°C.例文帳に追加

導電性機能部品は、金属ナノ粒子と共に熱分解性またはＵＶ分解性の安定剤を含む溶液を該基板の上に析出させる途中、または析出させた後に、約１８０℃未満の温度での加熱処理またはＵＶ処理によって該安定剤を除去することにより、基板の上に形成される。 - 特許庁

The method for producing the graphite particles includes an activation treatment process for producing activated carbon by subjecting a raw material carbon composition containing easily graphitizable carbon to an activation treatment and a heat treatment process for growing graphite crystals by heat treating the activated carbon at a temperature of 2,000-3,000°C in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

本発明の黒鉛粒子の製造方法は、易黒鉛化性炭素を含有する原料炭素組成物を賦活処理して活性炭を製造する賦活処理工程と、この活性炭を不活性ガス雰囲気下、２０００〜３０００℃の温度で熱処理して黒鉛の結晶を成長させる熱処理工程と、を備える。 - 特許庁

A process wherein an impurity diffusion layer 4 to be used to control threshold voltage is performed by implanting ions, and a process wherein a high temperature heat treatment is performed for a short period to recover the crystal defect generated by the ion implantation, are performed continuously without performing heat treatment in this manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法が、イオン注入によってしきい値電圧制御のための不純物拡散層を形成する工程と、イオン注入によって発生した結晶欠陥の回復のための高温短時間熱処理を行う工程とを、熱処理を実施することなく連続的に行う。 - 特許庁

To realize an instantaneous printing type image forming apparatus by placing all other operation members in specified states wherein they are ready to operate when a fixing unit reaches specified temperature and sufficiently shortening a warm-up time without causing trouble in an image reading process or/and an image forming process.例文帳に追加

定着ユニットが所定温度に達したときには他の動作部材が全て動作可能な所定の状態に達しているようにし、画像読取処理又は／及び画像形成処理の実行に不具合を生じることなくウォームアップ時間を十分に短縮し、即印字型の画像形成装置を実現する。 - 特許庁

Instead of an expensive Au-Sn eutectic alloy substantially containing 80 mass% of Au, an Au-Sn alloy containing Au less than that of the Au-Sn eutectic alloy by 40 to 60% can be applied for high temperature soldering by introducing a quenching process in a mounting process.例文帳に追加

本発明は、実質的な質量比でＡｕを８０％含有する高価なＡｕＳｎ共晶合金を代替する接合方法として、実装工程内に急冷プロセスを導入することにより、ＡｕＳｎ共晶合金からＡｕ量を４０〜６０％削減したＡｕＳｎ合金を高温はんだに適用可能とした。 - 特許庁

To provide a method for producing (meth)acrylic acid, alleviating the temperature fluctuation of a cooling medium and a heating medium returning from a crystallizer to heat source devices, stably running the heat source devices, stabilizing the crystallization operation and/or the melting operation, and reducing the energy consumption therein, in the crystallization process and/or the melting process thereof, and a crystallization system.例文帳に追加

結晶化工程および／または融解工程において、晶析器から熱源機に返送する冷熱媒や温熱媒の温度変動を緩和し、熱源機を安定的に稼働させ、結晶化操作および／または融解操作が安定化し、消費エネルギーを低減できる（メタ）アクリル酸の製造方法と晶析システムを提供する。 - 特許庁

A test unit A of the accelerated deterioration test of the coating film is constituted of a first process 1 of acid immersion for immersing a specimen, in a solution with a PH of 1 and a temperature of 60°C for 1 hr and a second process 2 for applying light irradiation of a light irradiation quantity of 100 MJ/m^2 to the specimen from the light irradiation by high-energy xenon.例文帳に追加

塗膜の促進劣化試験の試験単位Ａは、ＰＨ１で、６０℃の溶液に、１時間にわたり被検体を酸浸漬する第１の工程１と、この第１の工程１を経た被検体に、強エネルギーキセノンによって光照射量１００ＭＪ／ｍ^2の光照射を施す第２の工程２とによって構成される。 - 特許庁

To realize a light emitting diode element having a high luminance in the wavelength band of yellow-green, in which the drop in the output strength used to be marked conventionally, by forming a window layer in a process in which the temperature is higher than before in order to improve the electric conductivity of the window layer and by changing the structure thereof to prevent the changes due to the process under high temperatures.例文帳に追加

窓層を従来よりも高温のプロセスで形成し、電気伝導度の改善された窓層とするが、高温プロセスによる変化がないようにその構造を変える事により、従来は出力強度の低下が著しかった黄緑色の波長帯域で、輝度の大きい発光ダイオード素子を実現する。 - 特許庁

To provide a mold release film having high temperature resistance together with flexibility capable of enhancing yield of the film in sealing processes of semiconductors such as IC chips and LEDs, or mounting processes such as a heat press process during production of multilayered print wiring board laminates and a cover lay attaching process during production of flexible print wiring boards.例文帳に追加

ＩＣチップやＬＥＤ等の半導体封止工程、あるいは、多層プリント配線板積層製造時の熱プレス工程やフレキシブルプリント配線板製造時のカバーレイ貼付工程等の実装工程の歩留まりを向上させることが可能な高温耐熱性と柔軟性を兼ね備えた離型フィルムを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the transparent electrode includes a process in which an amorphous transparent conductive film containing Sn is formed on the polymer material substrate and a process in which the amorphous transparent conductive film is heat-treated at a temperature of 110°C or more and less than 130°C to make a crystalline transparent electrode.例文帳に追加

高分子材料基板上に、Ｓｎを含有する非晶質透明導電膜を形成する工程と、非晶質透明導電膜を１１０℃以上１３０℃未満の温度で熱処理して結晶質透明電極とする工程とを含むことを特徴とする、透明電極の製造方法である。 - 特許庁

Since a plate of an iron, chrome, or cobalt magnet is press-molded to form a ring-like magnetic encoder 1, it is possible to eliminate the need for a process for molding a separate magnetic body or a process for fixing it to a core bar, manufacture the magnetic encoder 1 in simple manufacturing processes, and prevent the magnetic encoder 1 from being deformed or expanded by temperature changes.例文帳に追加

環状の磁気エンコーダ１を、鉄・クロム・コバルト磁石の板材をプレス成形して形成することにより、別途の磁性体の成形工程と芯金への固着工程を不要として、磁気エンコーダ１を簡単な製造工程で製造でき、かつ、温度変化による磁気エンコーダ１の変形や膨張が生じないようにした。 - 特許庁

To provide an image forming unit capable of obtaining a satisfactory image in a stable state at any time while keeping the center distance between a photoreceptor and a developing roller constant, irrespective of an environmental change such as a change in temperature, to provide a process cartridge equipped with the image forming unit and an image forming device equipped with the process cartridge.例文帳に追加

温度等の環境変化があっても感光体と現像ローラの中心間距離を一定に保ち、常に安定して良好な画像を提供できる作像ユニット、前記作像ユニットを設けたプロセスカートリッジ、及び前記プロセスカートリッジを備えた画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for removing the amine salt comprises reducing or blocking the flow rate of the cooling water of the heat exchanger, thereby increasing the temperature of a site where the amine salt sticks to the melting point of the amine salt or above, melting the amine salt, transferring the amine salt into the process fluid, and discharging the amine salt together with process fluid to the outside of the apparatus.例文帳に追加

熱交換器の冷却水の流量を減少又は遮断することによりアミン塩の付着個所の温度をアミン塩の融点以上に昇温してアミン塩を融解させてプロセス流体中に移動させ、プロセス流体と共にアミン塩を装置の外部に排出するアミン塩の除去方法。 - 特許庁

The method for producing dried fish comprises a first step of a heating process where fish having a temperature of ≤0°C is heated in water at 40-75°C for 45-100 min, and a second step of the heating process where the fish is heated in water at 75-120°C for 30 min to 4 h.例文帳に追加

［１］０℃以下の温度の魚類を水温４０℃〜７５℃および時間４５分〜１００分の範囲で加温する第一段階の加温工程と、水温７５℃〜１２０℃および時間３０分〜４時間の範囲で加温する第二段階の加温工程と、を有することを特徴とする魚節の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor devices capable of sufficiently planarizing an insulating film of the semiconductor devices at a temperature of ≤800°C by high-pressure water vapor without increasing process steps as compared to the existing process steps, and capable of reducing the time for removing the moisture in the insulating film after the high-pressure water-vapor treatment.例文帳に追加

従来工程と比べ、工程を増やすことなく高圧水蒸気による８００℃以下の温度で十分な半導体装置の絶縁膜の平坦化を行うことができ、かつ、高圧水蒸気処理後の絶縁膜中の水分の除去時間を短縮することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly qualified composite film which shows excellent dimensional stability at a high temperature, and is suitable particularly for a process mold releasing material and an electrical insulation material in a circuit material manufacturing process, a flooring material for a building, a molding, a magnetic recording medium, a print material and the like.例文帳に追加

高温における寸法安定性に優れた高品質の複合フィルムを提供することにあり、特に回路材料製造工程の工程離型材料や電気絶縁材料、建築物の床材、成形用、磁気記録媒体用および印刷部材などに好適である複合フィルムを提供することにある。 - 特許庁

This pattern correction method alternately executes a process for applying a correction fluid 20 to the rib-missing defective part 35a, and a process for regularly baking the applied correction fluid 20 by local heating at a temperature in a range melting both the correction fluid 20 and a normal part of the rib 35 without breaking the shapes thereof.例文帳に追加

このパターン修正方法では、リブ欠け欠陥部３５ａに修正液２０を塗布する工程と、修正液２０とリブ３５の正常な部分との両方が溶け、かつそれらの形状が崩れない範囲の温度で、塗布された修正液２０を局所加熱により本焼成する工程とを交互に行なう。 - 特許庁

To develop a stereospecific radical polymerization process for which commonly used polymerization facilities and conditions (temperature and polymerization initiators) are applicable and by which the control of a high tacticity is possible in free radical polymerizations most suitable for polymerizing polar vinyl monomers and an economical and commercially advantageous manufacturing process of the stereospecific polymers.例文帳に追加

極性ビニルモノマーの重合に最適なフリーラジカル重合において、汎用の重合設備、条件（温度、重合開始剤）が適用可能で、かつ高度な立体規則性の制御も可能な立体規則性ラジカル重合法の開発、及び経済的、工業的にも有利な立体規則性ポリマーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an efficient process for producing fine nickel powder, capable of metallizing the powder at low temperature to prevent its sintering, and fine nickel powder produced by the process, composed of particles having a flat shape, diameter of limited variations and uniform thickness, and suitable for internal electrodes for laminate ceramic capacitors of high electric capacity.例文帳に追加

焼結を防止するため低温度で金属化することができる効率的な微粒ニッケル粉末の製造方法と、それにより得られる高容量積層セラミックスコンデンサ内部電極用として好適な、扁平な形状を有し、粒径のバラツキが少ない均一な厚さを有する微粒ニッケル粉末を提供する。 - 特許庁

For an ion source using an arc chamber containing at least one oxidizable metal, the method includes a process of supplying gaseous H_2O to an arc chamber, and a process of making the arc chamber operate within a range of temperature at which, the free energy for formation of gaseous H_2O is lower than the free energy for formation of oxidizable metal oxide.例文帳に追加

本発明の方法は，少なくとも一つの酸化可能な金属を含むアークチェンバーを使用するイオンソースにおいて，ガス状のH_2Oをアークチェンバーに供給する工程と，ガス状のH_2Oの生成自由エネルギーが酸化可能な金属の酸化物の生成自由エネルギーよりも低い温度範囲で，アークチェンバーを動作させる工程と，を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor substrate related to a first aspect includes: a chromium layer film formation process for film-forming a chromium layer having average layer thickness of not less than 7 nm and less than 45 nm on a base substrate; and a nitriding process for nitriding the chromium layer at not less than 1,000°C temperature for forming a chromium nitride film.例文帳に追加

本発明の第１側面に係る半導体基板の製造方法は、下地基板の上にクロム層を７ｎｍ以上４５ｎｍ未満の平均層厚で成膜するクロム層成膜工程と、前記クロム層を１０００℃以上の温度で窒化してクロム窒化物膜にする窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device fabrication method is provided with a process for introducing indium (In) into a channel region of a silicon substrate 1 and a subsequent process for forming a gate oxide film 5 on the silicon substrate 1 by implementing heat treatment at a higher temperature (about 1,000°C) than that at which a viscous flow of the silicon oxide film occurs.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、シリコン基板１のチャネル領域に、インジウム（Ｉｎ）を導入する工程と、その後、シリコン酸化膜の粘性流動が起こる温度以上の温度（約１０００℃）で熱処理することによって、シリコン基板１の主表面上にゲート酸化膜５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

This rubber process oil has 95-300 mm2/s dynamic viscosity at 40°C, having ≥445°C of 5 volume % distillation temperature in distillation and ≥+15 hue (Saybolt color), and the rubber composition is formulated with this process oil in amount of 10-75 wt.%.例文帳に追加

４０℃における動粘度が９５〜３００ｍｍ^2 ／ｓの範囲にあり、 蒸留性状における５容量％留出温度が４４５℃以上であり、かつ 色相（セイボルト色）が＋１５以上であるゴムプロセス油、及び、ゴム組成物全量基準で、ゴムに、前記のゴムプロセス油を１０〜７５重量％配合してなるゴム組成物である。 - 特許庁

This method comprises an evaporation process for supplying a fluid containing liquid, for example, a fluid obtained by mixing atomized IPA to N2 gas to an evaporation unit 11 of a vapor generator 10 to evaporate the fluid; and a heating-up process for supplying the evaporated fluid to a heating-up unit 12 to heat the evaporated fluid to a predetermined temperature.例文帳に追加

液を含む流体例えばＮ2ガスに霧状のＩＰＡを混合した流体を蒸気発生装置１０の気化ユニット１１に送って流体を蒸発させる気化工程と、蒸発された流体を昇温ユニット１２に送って蒸発した流体を所定の温度まで昇温する昇温工程とを有する。 - 特許庁

A method for producing heat sterilized liquid whole egg comprises a process of hermetically packaging thick membrane-containing liquid egg, and a process of sterilization comprising soaking entirely the bag-packed liquid whole egg in hot water having sterilization temperature of 57-61°C, and subjecting the bag-packed liquid whole egg to hot-water spray or steam spray.例文帳に追加

濃厚卵白を含む液全卵を密封包装する工程と、前記袋詰めした液全卵をその包装ごと殺菌温度５７℃以上かつ６１℃以下の温水浸漬、温水スプレー又は蒸気噴霧にて殺菌処理する殺菌工程とを含んでなる製造方法により、加熱殺菌液全卵を製造する。 - 特許庁

To eliminate the problem of a vaporized gas in a flux generated from a carrier in a soldering process, and eliminate wet defects in soldering so as to allow the carrier to be preheated by the closest temperature of the molten solder when the carrier contacts a jet stream, i.e. the molten solder in a soldering process.例文帳に追加

はんだ付け工程においてキャリアから発生していたフラックスの気化ガスの問題を解消し、また、キャリアがはんだ付け工程において噴流波すなわち溶融はんだに接触する際にこのキャリアの温度が溶融はんだの温度の至近温度にまで予備加熱されるようにして、はんだの濡れ不良を無くすこと。 - 特許庁

In a high-temperature oxidative reaction process using a heat medium, CO gas and/or CO_2 gas are detected in a gas phase part of a heat medium flow path by using a CO/CO_2 detector 5, the CO gas and/or CO_2 gas being evolved owing to the contact of HTS that contains sodium nitrite with a process fluid gas that contains metacrolein or acrolein.例文帳に追加

熱媒体を用いた高温酸化反応プロセスにおいて、亜硝酸ナトリウムを含むＨＴＳと、メタクロレインまたはアクロレインを含むプロセス流体ガスとが接触することにより発生するＣＯガスおよび／またはＣＯ_2ガスを熱媒体流路の気相部でＣＯ／ＣＯ_2検知器５を用いて検知する。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor solution that can be cured at a low temperature (250°C or lower) and has a low viscosity although it has a high concentration, to provide a process for producing the polyimide precursor solution, to provide a polyimide coating film that is produced from the polyimide precursor solution and has good physical properties, to provide a photosensitive resin composition and to provide a process for producing the photosensitive resin composition.例文帳に追加

本発明の課題は、低温（２５０℃以下）で硬化可能であって高濃度にもかかわらず、低粘度であるポリイミド前駆体溶液及びその製造方法、それから得られる良好な物性を有するポリイミド塗膜、並びに、感光性樹脂組成物及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To substantially avoid soiling of a photoreceptor, toner degradation and fusion in an electrophotographic apparatus using a low-temperature fixable toner so as to stably provide high-quality images over a long period of time, and to provide a process cartridge adaptable to a higher-speed process, an electrophotographic apparatus and an image forming method.例文帳に追加

低温で定着可能なトナーを用いる電子写真装置において、感光体が汚染されにくく、トナー劣化や融着がおこりにくく、高画質な画像を長期間安定して提供し、さらに高速なプロセスに対応可能なプロセスカートリッジ、電子写真装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent solid soap composition which can be produced at a high production efficiency without need of an aging process such as in the conventional production process, and which is excellent in transparency, storage stability and hardness, and free from the perspiration of water even under a high temperature and high humidity, and free from a trouble of becoming cloudy in use.例文帳に追加

従来の製造方法におけるような熟成工程を必要とせず高い生産効率で製造できる、透明性、保存安定性、硬度に優れ、高温多湿の条件下でも発汗が生じるようなことなく、しかも使用途中に白濁化することのない透明固形石鹸組成物を提供する。 - 特許庁