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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
Since heat treatment at a temperature of glass transition point or above of a substrate is performed after forming resist in a process following a process for forming a circuit pattern, solder resist can be formed under a state of good dimensional stability of the substrate and thereby the circuit pattern and solder resist can be formed with extremely excellent alignment accuracy.例文帳に追加
回路パターン形成工程の以降の工程に行う基材のガラス転移温度以上の温度による加熱処理を、ソルダレジスト形成の後に行うことにより、基材の寸法安定性の良い状態でソルダレジスト形成を行うので、回路パターンとソルダレジストを極めて優れた合致精度により形成することが可能となる。 - 特許庁
The inspection method for detecting the moisture contained in the granular elastomer polymer includes the process for irradiating the granular elastomer polymer with a microwave and the process for measuring the temperature of the granular elastomer polymer irradiated with the microwave.例文帳に追加
粒状エラストマー重合体中に含有されている水分を検出するための検査方法であって、前記粒状エラストマー重合体にマイクロ波を照射する工程と、マイクロ波を照射した前記粒状エラストマー重合体の温度を測定する工程と、を有する粒状エラストマー重合体の検査方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the infrared optical component 10 includes: a process for preparing the base substance 11 including zinc sulfide; and a process for heat-treating the base substance for 0.1-30 hours in a temperature range of 500-750°C in an oxidation atmosphere containing oxygen of 1-98%.例文帳に追加
赤外線光学部品10の製造方法は、硫化亜鉛を含む基材11を準備する工程と、酸素が1%以上98%以下含まれる酸化性雰囲気中で、500℃以上750℃以下の温度範囲で、0.1時間以上30時間以下の間で、基材を熱処理する工程とを備えている。 - 特許庁
The control device 41 instructs, when the plasma treatment apparatus 11 performs the actual device manufacturing process, the plasma treatment apparatus 11 to perform the predetermined etching process based on data detected by electric measuring devices 17, 20, gas flow rate sensors 27, 29, a temperature sensor 13b, a pressure sensor 12a, and a plasma emission spectroscope 31.例文帳に追加
制御装置41は、プラズマ処理装置11がデバイス製造の実処理時には、電気測定器17,20、ガス流量センサ27,29、温度センサ13b、圧力センサ12a、プラズマ発光分光器31が検出した検出データに基づいてプラズマ処理装置11に所定のエッチング処理を実行させる。 - 特許庁
The method for producing the compressed leaf mold comprises a drying process for heating leaf mold at a fixed heating temperature and drying the leaf mold to 40-50 wt.% water content and a compression process for compressing the dried leaf mold in the compression ratio of >4.0 times and ≤5.0 times the volume in the non-pressure state.例文帳に追加
圧縮腐葉土の製造方法は、腐葉土を所定の加熱温度で加熱して、水分含有率が40〜50重量%になるように乾燥させる乾燥工程と、乾燥後の腐葉土を、無加圧状態での体積に対し4.0倍を超え、5.0倍以下である圧縮率になるように圧縮する圧縮工程とを含む。 - 特許庁
The filament body is obtained by performing a process for forming a connected material by connecting a plurality of unit materials composed of magnesium based alloy materials and a process for forming a filament body by drawing the connected materials for reducing the area within the range from 10 to 20 % at a temperature from 100 to 200 °C.例文帳に追加
このような線条体は、マグネシウム基合金材料からなる複数の単位原料を接合して接合原料を得る工程と、前記接合原料に温度:100〜200℃、断面積減少率:10〜20%の引き抜き加工を施して線条体とする工程とを経ることにより得られる。 - 特許庁
The manufacturing method of the pigment has (1) the process of mixing at least one compound that is a raw material of the pigment and a solvent to obtain a mixed solution and (2) the process of keeping the mixed solution at a temperature or higher wherein the above solvent becomes a subcritical or supercritical condition and allowing the compound to react to obtain the pigment.例文帳に追加
(1)顔料の原料である少なくとも1種類以上の化合物と、溶剤とを混合して混合液を得る工程と、(2)前記混合液を前記溶剤が亜臨界あるいは超臨界状態となる温度以上に保持して、前記化合物を反応させて顔料を得る工程とを有する顔料の製造方法。 - 特許庁
The method for producing the liquid mixture feed comprises a process of charging the calcium carbonate, and the magnesium oxide or the sodium bicarbonate into the brewed vinegar, and heating the mixture so as to be dissolved, and a process of cooling the solution to room temperature followed by charging fruit extract liquid in the solution so as to be dissolved.例文帳に追加
また、液体混合飼料の製造方法は、醸造酢に、炭酸カルシウムと、酸化マグネシウムまたは炭酸水素ナトリウムとを投入し、加熱して溶解させる工程と、この溶液を室温まで冷却した後、果実抽出液をさらに投入して溶解させる工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a process of producing a semiconductor package in which electric insulation can be maintained even in an atmosphere of high temperature and high humidity and soldering junction can be achieved with high junction strength and reliability, without any necessity of cleaning removal of remaining flux after soldering junction, nor charging of under fill or the like, and provide the semiconductor package obtained by the process.例文帳に追加
半田接合後の残存フラックスの洗浄除去、そして、アンダーフィルの充填などが必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、接合強度、信頼性の高い半田接合を可能とした半導体パッケージの製造方法及びその製造方法により得られる半導体パッケージを提供する。 - 特許庁
This method includes a process for manufacturing a mixed product having a bulk temperature by introducing a reacting medium and a reacting substance into a tubular reactor having an inside part mixing means, mixing the reacting medium and the reacting substance to form a homogeneous reaction mixture, removing heat from the reaction process, and reacting the reaction substance.例文帳に追加
この方法は、反応媒体および反応物質を、内部混合手段を有する管状リアクターに提供し、反応媒体および反応物質を混合して均一な反応混合物を形成し、反応プロセスから熱を除去し、反応物質を反応させて、バルク温度を有する混合生成物を製造することを含む。 - 特許庁
The carbo-nitriding method is the method for carbo-nitriding a treating material composed of steel containing ≥0.8mass% carbon, and is provided with: an atmosphere control process for controlling the atmosphere in a heat-treatment furnace; and a heating pattern control process for controlling the temperature hysteresis given to the treating material.例文帳に追加
浸炭窒化方法は、0.8質量%以上の炭素を含有する鋼からなる被処理物を浸炭窒化するための浸炭窒化方法であって、熱処理炉内の雰囲気が制御される雰囲気制御工程と、被処理物に付与される温度履歴が制御される加熱パターン制御工程とを備える。 - 特許庁
This refrigerant having a cooking chamber is provided for extracting deliciousness by the taste seeping effect by partially breaking a cell of the food 29 by alternately repeating a cooling process for setting a freezing point of the food 29 as a lower limit and a melting process for heating a temperature of the food to a range of a freezing point to 5 °C.例文帳に追加
食品29の凍結点を下限とする冷却工程と、食品の温度を凍結点以上で5℃以下の範囲に加温する融解工程を交互に繰り返し行うことで食品29の部分的な細胞破壊を行い味の染み込み効果による旨みを引出す調理室を備えた冷蔵庫を提供する。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity especially in the wavelength region of a semiconductor laser and capable of supplying an image with little image defect such as ghost not only under ordinary temperature and humidity conditions but also under low temperature and humidity conditions, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
常温常湿下だけでなく、低温低湿下であっても、高感度、特に半導体レーザー波長領域で高感度であり、なおかつ、ゴーストなどの画像欠陥の少ない画像を供給可能な電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁
A variable temperature and/or reactant dose atomic layer deposition (VTD-ALD) process modulates ALD reactor conditions (such as temperature and flow rate) during the growth of a film (such as a metallic film) on a wafer to produce different film properties and different film depths.例文帳に追加
温度および(または)反応物の投与量を調節可能な原子層堆積(VTD−ALD)プロセスは、異なるフイルム特性および異なるフイルムの奥行きを生成するために、ウェーハ上のフイルム(例えば金属)の成長段階において、ALD反応装置の条件(例えば温度、流量など)を調節する。 - 特許庁
To resolve a problem that partial HC desorbed is discharged without being oxidized in a catalyst activating process because a desorption temperature of HC is lower than an activating starting temperature of a catalyst layer, in a catalytic converter of a multiplayer structure provided with an oxidation catalytic layer on a surface of an HC adsorptive layer (zeolite layer).例文帳に追加
HC吸着層(ゼオライト層)の表面に酸化触媒層を設けた多層構造の触媒コンバータにおいて、HCの脱離温度が触媒層の活性開始温度よりも低いことから、触媒が活性化する過程では脱離した一部のHCが酸化されることなく排出されてしまう。 - 特許庁
To achieve a laminated type IEJ junction, without having to creating a mesa structure, since the deterioration of the film quality of an interlayer insulation film cannot be avoided due to the regulation of deposition temperature, in a process for utilizing the mesa structure when creating the lamination type IEJ junction regarding a high-temperature superconducting device.例文帳に追加
高温超電導体装置に関し、積層型IEJ接合を作成するに際し、メサ構造を利用するプロセスでは、堆積温度が規制されることに起因し、層間絶縁膜の膜質劣化を回避できないので、メサ構造を作成せずに積層型IEJ接合を実現することが基本になっている。 - 特許庁
In a washing process of a semiconductor wafer 111 using the high temperature chemical 116 by a semiconductor wafer washing device, lowering of chemical temperature caused by heat absorption to a washing chamber 101 and its inside (the semiconductor wafer 111, a rotor 112, or the like) generated just after beginning of washing is prevented.例文帳に追加
半導体ウェハ洗浄装置による高温薬液116を用いた半導体ウェハ111の洗浄工程において、洗浄開始直後に発生する洗浄チャンバー101及びその内部(半導体ウェハ111及びローター112等)への熱吸収に起因する薬液温度降下を防止する。 - 特許庁
To obtain an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity, ensuring good electrification characteristics and small dark decay and ensuring stable potential characteristics and a good image in any environment from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity and to obtain a process cartridge and an electrophotographic device each using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
高感度であると共に良好な帯電特性と暗減衰が小さく、かつ低温低湿下から高温高湿下に至る全環境下に対して、安定した電位特性と画像の得られる電子写真感光体、この電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁
The slag discharge system is equipped with: a tilting device tilting the converter to be used in a copper refining process; an infrared camera detecting a temperature of fluid discharged from the converter within a wavelength range of 8-14 μm; and a control part controlling an inclination of the converter by the tilting device in response to a detected temperature of the infrared camera.例文帳に追加
スラグ排出システムは、銅製錬工程で用いる転炉を傾転させる傾転装置と、転炉から排出される流体の温度を8μm〜14μmの波長範囲で検出する赤外線カメラと、赤外線カメラの検出温度に応じて傾転装置による転炉の傾きを制御する制御部と、を備える。 - 特許庁
A moving mechanism 108 moves the mount board 107 to replace the high variable magnification lens 130 with the low variable magnification lens 152 and the low temperature reference heater 162 and the high temperature reference heater 163 are sequentially located on the optical axis OA in the process of replacement.例文帳に追加
移動機構108が搭載板107を移動させ、光軸OA上の低倍系変倍レンズ130が高倍系変倍レンズ152で置き換えられると共に、この置き換えの過程で、低温側基準熱板162と高温側基準熱板163とが光軸OA上に順次に位置するようにされる。 - 特許庁
When the cold-rolled steel sheet is subjected to decarburization annealing then to the finish-annealing, the grain diameter in the steel sheet is measured at the temperature raising process of the finish-annealing, and the starting timing of the secondary recrystallization is detected from a change in the measured grain diameter, and after detecting the start of the secondary recrystallization, the temperature raising speed is changed to ≤20°C/hr.例文帳に追加
冷延後の鋼板に脱炭焼鈍を施し、その後仕上げ焼鈍を施すにあたり、仕上げ焼鈍の昇温過程において鋼板の粒径を測定し、測定した前記粒径の変化から二次再結晶の開始を検知し、二次再結晶の開始を検知した後、昇温速度を20℃/hr以下に変更する。 - 特許庁
In a manufacturing process for butt-joint-integrating the InGaAlAs-based waveguide on the InP substrate, an InGaAsP layer is formed on InP which becomes a substrate for growing the InGaAlAs-based waveguide, when a temperature is raised to the vicinity of 700°C being a growth temperature of InGaAlAs.例文帳に追加
InP基板上にInGaAlAs系導波路をバットジョイント集積する製造プロセスにおいて、InGaAlAsの成長温度である700℃前後に昇温する際に、InGaAlAs系導波路を成長する下地となるInPの上にInGaAsP層が形成されている構成とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing thermoplastic resin film which has a process of using an embossing apparatus obtaining the uniform height of a projecting part by embossing while controlling the temperature of a bearing of a heated roller with projecting parts within a use temperature when applying the embossing to the thermoplastic resin film.例文帳に追加
熱可塑性樹脂フィルムにエンボス加工を施す際に、加熱する突起付きローラの軸受の温度を使用温度範囲内に押さえ、均一なエンボス加工による突起部の高さが得られる生産性の高いエンボス加工装置を用いる工程を有する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the film mirror including a resin substrate, and a silver reflective layer and a protective layer on the resin substrate is characterized in that the temperature of a part of a tool in contact with the film mirror is higher than a glass transition temperature of a resin constituting the resin substrate, in a process of cutting the film mirror.例文帳に追加
樹脂基材と、該樹脂基材上に少なくとも銀反射層及び保護層を有するフィルムミラーの製造方法であって、該フィルムミラーを切断する工程において工具のフィルムミラーに接する部分の温度が、該樹脂基材を構成する樹脂のガラス転移温度より高いことを特徴とするフィルムミラーの製造方法。 - 特許庁
In a welding process, the first cylindrical portion 41 is irradiated with a laser to heat the first cylindrical portion 41 such that the temperature of the fitting surface 80 converges at a second temperature which is equal to or higher than the melting points and by melting the vicinity of the fitting surface 80 through this heating, the fuel passage member 30 and the first cylindrical portion 41 are joined together.例文帳に追加
溶接工程では、第1筒部41にレーザを照射することで嵌合面80の温度が前記融点以上の第2温度に収束するよう加熱し、当該加熱により嵌合面80近傍を溶融させることで燃料通路部材30と第1筒部41とを接合する。 - 特許庁
To provide a molded article which does not cause wrinkles and warpage when a polycarbonate resin film for insert molding having small elongation and contraction and, at the same time, having heat resistance upon heating and after heat treatment even when heating a polycarbonate resin film for insert molding to a high temperature near the glass transition temperature or more according to a continuous production process is used for the insert molding.例文帳に追加
連続生産工程によりガラス転移点近傍以上の高温に加熱しても加熱時および加熱処理後の伸縮が小さく耐熱性も兼ね備えたインサート成形用ポリカーボネート樹脂フィルムをインサート成形用に用いた時、皺の発生、反りのない成形品を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a poly-m-phenylene isophthalamide separation membrane which shows excellent membrane formation properties and besides, superb permeability to water and high temperature water vapor, when the separation membrane is manufactured using a stock solution for forming a poly-m-phenylene isophthalamide membrane containing an inorganic salt as an additive by a low temperature solution polycondensation process.例文帳に追加
添加剤として無機塩を含有する低温溶液重縮合法ポリ-m-フェニレンイソフタルアミド製膜原液を用いて分離膜を製造するに際し、製膜性にすぐれ、その上水および高温水蒸気の透過性にすぐれたポリ-m-フェニレンイソフタルアミド分離膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁
In a process for manufacturing the easily polymerizable compound e.g. (meth)acrylic acid, this method is characterized in that the temperature of feeding a liquid containing (meth)acrylic acid discharged as the out-of- specification product into the storage tank is controlled to the temperature of the out-of-specification liquid stored in the storage tank or below.例文帳に追加
(メタ)アクリル酸類である易重合性化合物を製造するプロセスにおいて、オフスペック品として排出される(メタ)アクリル酸類を含有する液を貯蔵タンクへ供給する際の温度を、当該貯蔵タンク内に貯蔵されたオフスペック液の温度以下に制御することを特徴とする易重合性化合物の製造方法。 - 特許庁
To provide a polymer lithium secondary battery which has an over- current restraining mechanism breaking current in response to the temperature rise accompanying over-charging process, and further, can restrain firing even under exposure to an extremely high temperature in a state of charging or over-charging, without jeopardizing the battery characteristics.例文帳に追加
電池特性に影響を与えることなく、かつ、電池の過充電過程に伴う温度上昇に反応して電流を遮断する過充電抑止機構を持ち、更に、充電状態または過充電状態で極端な高温にさらされても発火を抑制できるポリマーリチウム二次電池を提供する。 - 特許庁
To provide a foaming food such as mousse which can be whipped at such a high temperature as 45-65°C, and which can reduce a cooling process so as to improve workability, having good meltability in the mouth and moderate in overrun, not melted even when being left at a room temperature for 1-2 h, and applicable to both acidic foods and neutral foods.例文帳に追加
45〜65℃という高温でのホイップが可能となり、冷却工程を短縮でき、作業性が向上し、口溶けがよく、適度なオーバーランを有し、また室温で1〜2時間放置しても融解しない、更には、酸性食品にも中性食品にも適用可能なムースなどの気泡性食品を提供する。 - 特許庁
A manufacturing method for semiconductor devices which has a process of performing pretreatment of a silicon board 5 to be performed for enhancing adhesion between a Cu and an insulating film, is a deposition chamber 1 the same as one for depositing an insulating film, and at a temperature lower than a deposition temperature, when the insulating film is formed by CVD on a Cu.例文帳に追加
Cu上にCVD法により絶縁膜を成膜する際、Cuと絶縁膜との密着性を向上させるためのシリコン基板5の前処理を、絶縁膜成膜と同一成膜室1で、かつ、成膜温度よりも低い温度で行なう工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁
To manufacture a ceramic heating element having excellent properties more easily than ever by printing a heat generation line consisting of a rare earth element for low temperature calcination on a substrate made from a ceramic material by calcining it and, after sticking a green sheet fast thereto to join them together, calcining the two sheets in the air in a low temperature calcination process.例文帳に追加
セラミック原料を焼結してなる基板に低温焼成のために希土類元素でなる発熱線を印刷し、これにグリーンシートを密着させて接合した二枚のシートを大気中で低温焼成工程で焼結することで、優れた物性を持つセラミック発熱体をより容易に製造することである。 - 特許庁
To make it possible to mold a woody material having a more complicated shape by raising fluidity by reducing energy consumed by making the temperature of steam in contact with the woody material lower or making a fluidization start temperature in case of heating and pressurizing the woody material lower in a manufacturing process of molding pressurized and molded while heating after contacting the woody material with the steam.例文帳に追加
木質系材料を水蒸気に接触させた後に加熱しながら加圧して成形する成形体の製造方法において、木質系材料に接触させる水蒸気の温度をより低くする、あるいは、木質系材料を加熱加圧した際の流動化開始温度をより低くする。 - 特許庁
Ratio of I[111]/I[411] in the texture after decarburize-annealing is adjusted to 3.0 by regulating heating speed HR°C/sec from a zone having ≤600°C steel sheet temperature raising process of the decarburize-annealing operation to a prescribed temperature in the range of 750-900°C to HR≥-650 [Al]+200.例文帳に追加
酸可溶性Alの量:[Al]%に対応して、脱炭焼鈍工程の昇温過程における鋼板温度が600℃以下の領域から750〜900℃の範囲内の所定の温度までの加熱速度:HR℃/秒をHR≧−6250[Al]+200とすることにより、脱炭焼鈍後の集合組織におけるI[111]/I[411]の比率を3.0に制御する。 - 特許庁
In more details, the concentrated solution extracting method includes finishing a freezing process of freezing an aqueous solution when a temperature of the central part of the aqueous solution is lower by a prescribed temperature than a freezing point of the aqueous solution before concentrating, and thawing through vertically placing a container in which the aqueous solution is put.例文帳に追加
また、水溶液を凍結させるにあたり、水溶液の中心部分の温度が、濃縮前の水溶液の凝固点よりも所定温度低い状態で凍結工程を終了し、次いで、水溶液の入った容器を縦に置いて融解することを特徴とする濃縮液抽出方法である。 - 特許庁
This method for producing the polyarylene sulfide, comprising thermally reacting a dihalogeno aromatic compound with an alkali metal compound in a polar organic solvent and then cooling the reaction product to obtain the granular polyarylene sulfide, is characterized by selectively gradually cooling the maximum thickening temperature±1°C temperature zone of the system in a cooling process at an average cooling rate of 0.2 to 1.0 °C/min.例文帳に追加
ジハロゲン芳香族化合物と、アルカリ金属化合物、とを極性有機溶媒中で加熱反応後、冷却して顆粒状のポリアリーレンスルフィドを得る方法において、冷却過程における系の最大増粘温度±1℃の温度域を選択的に0.2〜1.0℃/分の平均冷却速度で徐冷する。 - 特許庁
According to this method for manufacturing the bolometer-type infrared detection element wherein a light receiving part supported by bridge parts is formed on a silicon substrate, the process for forming the light receiving part comprises processes for sequentially forming an electrode protection layer and the bolometer layer over the electrodes, and the temperature for forming the protection layer is lower than the temperature for forming the bolometer layer.例文帳に追加
シリコン基板上にブリッジ部で支持された受光部を形成するボロメータ型の赤外線検知素子の製造方法において、受光部を形成する工程が、電極上に電極保護層、ボロメータ層を順次形成する工程を含み、かかる電極保護層の形成温度がボロメータ層の形成温度より低い。 - 特許庁
The method for manufacturing a microcapsule-containing resin composition which contains the microcapsule in a matrix resin comprises a process of kneading the microcapsule into the matrix resin, with using, as the microcapsule, the microcapsule secondary particles that the microcapsule primary particles cohere with the aid of an easily melt processable resin whose melt-processing temperature is lower than the kneading temperature.例文帳に追加
母材樹脂中にmcが含有されたmc含有樹脂組成物の製造方法であって、mcを母材樹脂に練り混む工程を有し、mcとして、溶融加工温度が練り混み温度以下の樹脂である易溶融加工性樹脂を介してmc一次粒子が凝集したmc二次粒子を用いる。 - 特許庁
This method includes a step of filling precursor powder of a superconducting phase in a metal pipe, and applying at least one process of plastic forming and heat treatment to the metal pipe to obtain the wire, and a low oxygen heat treatment step in which the wire is heated at a temperature lower than the above heat treatment temperature and in an atmosphere of oxygen lower than air.例文帳に追加
超電導相の原料粉末を金属パイプに充填し、この金属パイプに少なくとも1回の塑性加工および熱処理を施して線材を得る工程と、前記熱処理温度よりも低い温度で、かつ大気よりも低酸素雰囲気にて前記線材を加熱する低酸素熱処理工程とを含む。 - 特許庁
And the monomer composition may further contain a carboxylic acid having an ethylenic double bond, a bifunctional monomer and a styrene macromonomer, and, when the polymer contains a styrene block segment, heat resistance, adhesive strength in high temperature conditions, alkali resistance and easiness of peeling after a high temperature process are enhanced.例文帳に追加
そして、上記単量体組成物は、さらに、エチレン性二重結合を有するカルボン酸、二官能性モノマー、及び、スチレンマクロモノマーを含み、上記ポリマーが、スチレンブロックセグメントを有することで、耐熱性、高温環境下における接着強度、耐アルカリ性、高温プロセス後の剥離の容易性を向上させることができる。 - 特許庁
The method for producing the α-tricalcium phosphate porous body includes a mixing step S1 of mixing calcium carbonate and calcium hydrogenphosphate by a mechanochemical process, and a firing step S6 of firing the obtained mixture of the calcium carbonate and calcium hydrogenphosphate at a temperature not lower than the α-phase transition temperature.例文帳に追加
炭酸カルシウムとリン酸水素カルシウムとをメカノケミカル法により混合する混合ステップS1と、混合された炭酸カルシウムとリン酸水素カルシウムとの混合物をα相転移温度以上の温度で焼成する焼成ステップS6とを備えるαリン酸三カルシウム多孔体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic charge image developing toner which has satisfactory low-temperature fixability and anti-blocking property and does not cause image deterioration even when storing a fixed image at high temperature for a long term; to provide an electrostatic charge image developer using the electrostatic charge image developing toner; and to provide a toner cartridge, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加
低温定着性、耐ブロッキング性が良好で、かつ、定着画像を高温で長期保管した場合にも、画像劣化を引き起こすことのない静電荷現像用トナー及び該静電荷現像用トナーを用いた静電荷像現像剤、並びに、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁
After performing a substrate arranging process to arrange a substrate 404 on the surface of a negative electrode 402 on its positive electrode side, a prescribed amount of a mixed gas consisting of methane gas and hydrogen gas is supplied from a gas feed part 406 into a chamber 401 and the temperature of the substrate 404 is adjusted to be at a prescribed temperature by using a heater 407.例文帳に追加
陰極402の陽極側の表面に、基板404を配置する基板配置工程を行った後、ガス供給部406からメタンガスと水素ガスから成る混合ガスを所定量チャンバー401内に供給すると共に、ヒーター407を用いて基板404の温度を所定の温度に調整する。 - 特許庁
A hot water supply selection switch is provided to enable users to select the temperature of the washing or rinsing water supplied to the dish washers optionally from more than one selection values to alter operations in either of the washing or rinsing process or both thereof depending on the temperature of the washing water.例文帳に追加
食器洗い機に供給される洗浄水またはすすぎ水の温度を、予め使用者が2以上の選択値より任意に選択できる給湯選択スイッチを設け、洗浄工程、すすぎ工程のいずれか或いは双方において、洗浄水の温度により各工程における動作を変更する。 - 特許庁
In some embodiments, a heating system is provided that comprises a plurality of heating technologies for heat treatment of substrates, where a first heating system is used to rapidly raise temperature of the substrate to a desired set point and a second heating system is used to maintain the substrate at the temperature set point throughout a thermal treatment process.例文帳に追加
幾つかの実施態様では、基材の熱処理のための複数の加熱技術を含む加熱システムが提供され、第1の加熱システムが基材の温度を所望の設定値に急速に上昇させるのに用いられ、第2の加熱システムが熱処理プロセス全体を通して基材を設定値の温度に維持するのに用いられる。 - 特許庁
In a process for mounting the semiconductor chip 10 on the substrate 30, the ball bump 20 is heated to a temperature which is lower than the melting point of the solder layer 36, and brought into contact with the electric connection part 32, and the ball bump 20 and the electric connection part 32 are heated to a temperature which is higher than the fusing point of the solder layer 36.例文帳に追加
半導体チップ10を基板30に搭載する工程では、ボールバンプ20をはんだ層36の融点よりも低い温度に加熱して電気的接続部32に接触させた後に、ボールバンプ20及び電気的接続部32をはんだ層36の融点よりも高い温度に加熱する。 - 特許庁
After clothing the brazing materials 3 onto both sides of the core material 1, the brazing sheet is produced by cooling down at a temperature reduction rate not less than 50°C/min while maintained less for than 20 seconds, or shorter after rapidly heating at a temperature increasing rate not less than 1°C/sec within a range 380°C to 530°C in a final annealing process.例文帳に追加
また、このブレージングシートは、心材1の両面にろう材3をクラッドした後、最終焼鈍工程において、380乃至530℃の温度範囲に1℃/秒以上の急熱加熱により加熱した後、20秒以下保持し、例えば50℃/分以上の降温速度で冷却することにより製造することができる。 - 特許庁
A heavy oil as a byproduct from a process of producing olefins, preferably a heavy oil containing an aromatic fraction by 85 to 99 wt.%, a 5% distillation temperature of 120 to 230°C and a 95% distillation temperature of 550 to 700°C, is subjected to thermal cracking at 400 to 600°C and under the pressure of 0.01 to 1.00 MPa.例文帳に追加
オレフィン類を製造するプロセスから副生する重質油を、好ましくは、芳香族分が85〜99重量%、5%留出温度が120〜230℃、及び95%留出温度が550〜700℃である重質油を、温度400〜600℃、圧力0.01〜1.00MPaで熱分解する重質油の熱分解方法。 - 特許庁
T(sample); surface temperature of the fabric having the above resin layer in absolute dry condition preserved at 32°C and then putting in an environment of 32°C and 70% relative humidity for ten seconds, T(blank); surface temperature of a fabric having the same resin layer but without containing the organic fine particles having high moisture absorbing and heat generating property, treated in the same process.例文帳に追加
T(ブランク):上記サンプルと同一材質、目付の基布で高吸放湿吸湿発熱性有機微粒子を含有しない樹脂層を有する布帛を絶乾し、絶乾状態のまま32℃に調温した後、32℃、相対湿度70%の環境に置いた際の10秒後の樹脂層面の表面温度。 - 特許庁
The control means applies the second driving voltage P2 before detection of an inflection point on the waveform of a signal representing temperatures in a temperature drop process detected by the temperature detection element after application of the first driving voltage P1 and when discharging normally ink from the discharge orifice along with the application of the first driving voltage P1.例文帳に追加
制御手段は、第1の駆動電圧P1の印加後で且つ、第1の駆動電圧P1の印加に伴って吐出口からインクが正常に吐出されたときに温度検知素子により検知される降温過程の温度を示す信号の波形で変曲点が検出されるよりも前に第2の駆動電圧P2を印加させる。 - 特許庁
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