「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a temperature history sensor for surely confirming whether a retort process is implemented and reducing a burden of a worker required for a confirmation.例文帳に追加

本発明は、レトルト処理が行われたか否かについて確実に確認することができ、かつ確認に要する作業者の負担を低減することのできる温度履歴センサを提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a physical distribution management system capable of grasping information about temperature history in a physical distribution process of a physically distributing product and about dealers between traders and capable of grasping the final consumer of the article.例文帳に追加

物流物品の物流過程における温度履歴と取り扱い業者との情報を業者間で把握可能であると共に最終消費者も把握可能な物流管理システムを実現する。 - 特許庁

The method for producing the slag comprises using steel-making slag having a basicity within a range of 1.0-1.3 and setting the average cooling speed within a temperature range of 1,200-1,150°C to be ≤5°C/min in the cooling/solidification process of the slag.例文帳に追加

また、塩基度が１．０〜１．３の範囲の製鋼スラグを用い、スラグを冷却・凝固させる過程で１２００〜１１５０℃の範囲の平均の冷却速度を５℃／分以下とする該スラグの製造方法。 - 特許庁

The controller executes a temperature estimating process 100 and is connected operationally with a switching device, which is connected operationally between an electric machine and a power supply and responds to the controller.例文帳に追加

コントローラは温度推定プロセス１００を実行し、スイッチング装置に作動的に接続され、スイッチング装置は電気機械と電源との間に作動的に接続され、スイッチング装置はコントローラに応答する。 - 特許庁

The thin-film transistor formed on a substrate is composed of only a P type and the highest processing temperature in the manufacturing process for the thin-film transistor is ≤450°.例文帳に追加

基板上に形成された薄膜トランジスタがＰ型のみで構成され、かつ、前記薄膜トランジスタの製造工程における最高処理温度が４５０度以下であることを特徴とする薄膜トランジスタとする。 - 特許庁

A fusion part is formed by drawing them at 1 to 15μm/sec while heating them at a temperature of 1,460 to 1,560°C lower than that of the drawing process, to fuse them to have predetermined optical characteristics of almost a round cross section.例文帳に追加

延伸工程より低い温度の１４６０〜１５６０℃で加熱しつつ、１〜１５μｍ／秒で延伸し、所定の光学特性となる断面略円形に融着させて融着部を形成する。 - 特許庁

Preferably, temperature in the cylinder Tcyl and effective process volume Vstr in the intake valve closing period IVC are detected in addition to them to reflect in the calculation of the internal EGR amount MRES.例文帳に追加

好ましくは、これらに加え、吸気弁閉時期ＩＶＣにおける筒内温度Ｔｃｙｌ及び有効行程容積Ｖｓｔｒを検出し、内部ＥＧＲ量ＭＲＥＳの算出に反映させる。 - 特許庁

To provide a thermal treatment method and a jig used therefor, which are capable of preventing a definite and intense slip occurring in a semiconductor substrate, especially the substrate which is manufactured through an SIMOX process and thermally treated in an oxygen-rich atmosphere at an ultra-high temperature.例文帳に追加

半導体基板、特にＳＩＭＯＸプロセスで製造され、超高温で高酸素雰囲気下で熱処理される基板に発生する明確で強いスリップを防止できる熱処理方法と治具。 - 特許庁

To provide a power-collecting line forming method simple in a process and work related to formation, and capable of forming the power-collecting line without requiring heating at high temperature; and to provide a dye-sensitized solar cell using it.例文帳に追加

形成に係わる工程及び作業が簡便で、高い温度での加熱の必要なく形成が可能な集電線の形成方法及びそれを用いた色素増感型太陽電池を提供する。 - 特許庁

The sintering process is carried out preferably within a temperature range of 700 to 1,600°C and under a pressure of 100 kg/cm, and the size of the MgO grains is preferably <100 nm.例文帳に追加

温度７００〜１６００℃の範囲で圧力１００ｋｇ／ｃｍ以上で焼結工程を行うのが好適であり、また、ＭｇＯ粒子の粒子径が１００ｎｍ未満であるのが好適である。 - 特許庁

After finishing the heat treatment process, the heat-treated parts of the packing sheet S are cooled and hardened under the ordinary temperature to hold the state where the packing sheet S is approximately closely stuck to the outer circumference of the game machine P1.例文帳に追加

熱処理工程終了後、包装用シートＳの被熱処理部分が常温で冷却されて硬化し、包装用シートＳが遊技機Ｐ１の外周へ略密着する状態が保たれる。 - 特許庁

To provide an incubator enabling observing cell culture process continuously for a long time if the culture fluid temperature on the stage of a microscope can be kept at 37°C and the carbon dioxide concentration in a liquid surface atmosphere at 5%.例文帳に追加

顕微鏡ステージ上で培養液温度を３７℃、液面雰囲気の二酸化炭素濃度を５％に保持することができれば、細胞培養過程を長時間連続して観察することが可能となる。 - 特許庁

To improve the dispersion of a display image due to the dispersion of the characteristic of driving TFT, by controlling the threshold voltage of a thin-film transistor in a low temperature process, in a liquid crystal image display device.例文帳に追加

液晶画像表示装置において、低温プロセスにおける薄膜トランジスタの閾値電圧を制御することにより、駆動用TFTの特性のバラツキによる表示画面のバラツキを改善することである。 - 特許庁

To form crystal in defect-free area in good yield by changing pulling velocity V and temperature gradient G of a single crystal grown by the Czochralski process according to dopant concentration and keeping V/G value in crystal interface within a prescribed range in the radial direction of the crystal.例文帳に追加

ＣＺ法によるシリコン単結晶の育成において、結晶中のドーパント濃度が変化した場合でも、無欠陥領域の結晶を、歩留良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low-temperature baked laminated ceramics substrate capable of providing a high-density and low-resistance-loss wiring pattern with a simple manufacturing process, and small in time required for processing; and its manufacturing method.例文帳に追加

簡単な製造工程で、処理に要する時間が短く、高密度且つ低抵抗損失の配線パターンが実現できる低温焼成積層セラミックス基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a block type electronic component having a structure capable of following a change in a peripheral temperature and a change in the heating of a component body during the use thereof without generating cracks or breakages on a ceramic chip in a manufacturing process.例文帳に追加

製造過程でセラミックチップの欠けや割れを発生させることがなく、使用時に周囲温度の変化や部品本体の発熱の変化に追従できる構造のブロック型電子部品を提供する。 - 特許庁

Sufficient moisture-proof performance is secured for the scintillator layer 13, and the stress applied to the array substrate 12 by the moisture-proof structure 15 due to a manufacturing process or temperature change after the manufacture is suppressed.例文帳に追加

シンチレータ層13に対して充分な防湿性能を確保し、かつ、製造工程および製造後の温度変化などにより防湿構造15がアレイ基板12に対して及ぼす応力を抑制できる。 - 特許庁

To provide a capacitor for a semiconductor component using a TiO_2 dielectric film that has a high dielectric constant with a material having a simple structure, and also to provide a method of fabricating the capacitor that allows a low temperature process.例文帳に追加

簡単な構造を持つ物質でありつつ高い誘電率を持つＴｉＯ_２誘電膜を利用する半導体素子のキャパシタ及び低温工程が可能なその製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method further preferably includes a process for adding and mixing 1-27 wt.% of an adhesive to the vegetable carbonized material, and pressurizing and compacting in a hot state or at the normal temperature.例文帳に追加

この製造方法は好ましくは、植物性炭化材に、１重量％〜２７重量％の接着剤を添加して混合し、熱間又は常温で加圧成形する工程を更に含んでいる。 - 特許庁

The difference in the final shrinkage percentage in the sintering process between the first molding 11 and the second molding 12 is ≤3%, and the difference in temperature at which the shrinkage is completed by 50% is within 100°C.例文帳に追加

第１成形体１１と第２成形体１２とは，焼結工程における最終収縮率の差が３％以下であって，収縮が５０％完了する温度の差が１００℃以内である。 - 特許庁

Accordingly, even when an image forming operation is resumed after the process cartridge 10 is attached to the main body of the apparatus, image formation can be resumed without waiting for the temperature rise of the fixing device 12 until it is heated.例文帳に追加

それにより、プロセスカートリッジ１０を装置本体に取り付けた後に画像形成動作を再開させても、定着装置１２の加熱昇温を待つことなしに画像形成を再開することができる。 - 特許庁

To provide a method for photo-modifying synthetic fibers, which is an energy-saving type, and by which the dyeability and the like of fibers or a fiber product containing synthetic fibers can safely be modified in a simple process at room temperature, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

省エネルギー型であり、室温でかつ簡便な操作で安全に、合成繊維を含む繊維や繊維製品の染色性等を改質できる方法およびそのための装置を提供する。 - 特許庁

In addition, in the process (II), the acceleration cavity is etched in the state where the pressure in the vessel is increased to a value higher than 1 atm and not higher than 200 atm, and the temperature of the etchant is set below 50°C.例文帳に追加

さらに、前記工程（II）において、前記容器内を１気圧より高く且つ２００気圧以下に加圧し且つ前記エッチング液の温度を５０℃以下にした状態で、前記加速空胴をエッチングする。 - 特許庁

To provide a safe, easy process for forming a high-temperature corrosion-resistant surface of an incinerator wherein a silicon dioxide coated film can sufficiently exert its effect by preventing decrease in workability of a material to be treated.例文帳に追加

焼却炉の耐高温腐食表面の形成に際し、被処理材の加工性低下を防ぎ、二酸化ケイ素皮膜の効果を十分に発揮できる安全で簡便な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic semiconductor thin film developing high carrier mobility by an ordinary-temperature wet process, and to provide a semiconductor element having an organic semiconductor thin film manufactured by the same.例文帳に追加

常温ウェットプロセスによる高いキャリア移動度を発現する有機半導体薄膜の製造方法、及び該方法により製造された有機半導体薄膜を有する半導体素子の提供。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory device capable of generating optimal activation timing of a sense amplifier according to fluctuation in memory cell characteristics with respect to changes in manufacturing process or operation temperature.例文帳に追加

製造プロセスの変動や動作温度の変化に対するメモリセルの特性の変動に合わせて、センスアンプの最適な活性化タイミングを発生させることが可能な不揮発性半導体装置を提供する。 - 特許庁

In the resin sheet separating process, a temperature change is applied to all of the supports 2a and 2b and the photoset resin sheet 7 superposed one upon another to separate the supports 2a and 2b and the photoset resin sheet 7.例文帳に追加

樹脂シート分離工程は、重なり合う支持体２ａ，２ｂおよび光硬化樹脂シート７に対して温度変化を与えることによって、支持体２ａ，２ｂと光硬化樹脂シート７とを分離する。 - 特許庁

To provide an easy-to-open plastic container with excellent sealing performance which can maintain the sealing performance even if it is subjected to a change in temperature and an impact caused by a fall etc., and can also be manufactured by a simple manufacturing process.例文帳に追加

温度変化や落下等の衝撃を受けても密閉性が保持でき、開栓が容易であり、簡易な製造工程によっても製造できる、密閉性に優れたプラスチック製容器を提供する。 - 特許庁

Another advantage of the method is that since the process is carried out at a relatively low temperature, it can be applied to a material unstable toward heat such as protein that has bioactivity in particular, to inactivate its containing viruses.例文帳に追加

又、本発明の方法は、比較的低い温度条件下で行われるので、特に生物活性を有するタンパク質など熱に不安定な素材のウイルス不活性化処理に適用される。 - 特許庁

To inhibit excessive temperature rise of a filter due to drop of degree of heat radiation from an exhaust system with accompanying reduction of travel speed of a vehicle in execution of PM regeneration process of the filter.例文帳に追加

フィルタに対するＰＭ再生処理の実施において、車両の走行速度の減少に伴い排気系からの放熱度合いが低下することによってフィルタが過度に昇温されることを抑制する。 - 特許庁

To prevent over-margin and margin-less of operation margin of an internal circuit by optimizing an internal voltage drop level adjusting to condition variation such as process, temperature, and the like.例文帳に追加

プロセス、温度などのコンディション変動に合わせて内部降圧レベルの最適化を行うことで、内部回路の動作マージンのオーバーマージン化や、マージンレス化を防ぐことができる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of resin particles has a process in which a resin is fed into an aqueous medium containing a dispersant, stirred under a pressurized atmosphere while being heated to a temperature of the melting point of the resin or higher, and an emulsion dispersing the melted resin is formed.例文帳に追加

また、一旦形成した樹脂粒子に機械的ストレス、熱復元といった工程を用いることなく、内部空隙率を低減させた小径で粒径分布のそろったトナーの提供。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which is improved in reliability of a seal as a device which requires a low-temperature manufacturing process of ≤160°C such as an STN liquid crystal display device etc., using a plastic substrate.例文帳に追加

プラスチック基板を用いたＳＴＮ液晶表示装置など、１６０℃以下の低温製造プロセスが必要な装置において、シールに対する信頼性を向上した液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Also as regards this heating, it is desirable to use a metal which has a Vickers hardness of 200 or less measured at 730°C as the grounding electrode in order to firmly secure the bending process by increasing the temperature.例文帳に追加

なお、昇温することにより確実に曲げ加工を可能とするためには、７３０℃にて測定したビッカース硬さが２００以下となる金属を、接地電極素材として使用することが望ましい。 - 特許庁

The soybean 7S protein-containing shape-retaining food is obtained by molding hydrate comprising the soybean 7S protein industrially fractionated from soybeans, and drying the molded hydrate so as to have a product temperature of <100°C during the drying process.例文帳に追加

大豆から工業的に分画した大豆７Ｓたん白の水和物を成型し、乾燥工程中、品温が１００℃未満で乾燥することを特徴とする賦型食品の製造法である。 - 特許庁

In this manufacturing method of the SOI substrate, a low-temperature process is employed to suppress the generation of thermal distortion due to the difference in thermal coefficient between the silicon substrate 10 and a quartz substrate 20.例文帳に追加

本発明のＳＯＩ基板の製造方法では、シリコン基板１０と石英基板２０との間の熱膨張係数差に起因する熱歪の発生を抑制するために低温プロセスを採用する。 - 特許庁

To provide a delay lock loop circuit which can stably obtain a fine delay amount, independently of the variation of the temperature and the power source voltage or the variation of a delay amount due to the process conditions and so forth.例文帳に追加

温度および電源電圧の変動やプロセス条件等によるディレイ量の変動にかかわらず、微少な遅延量を安定的に得ることを可能にするディレイロックループ回路を提供する。 - 特許庁

To provide a coated optical fiber without coating troubles in the manufacturing process having the possibility of enough prevention of separating foreign substances in the coating when it is left at low temperature for long time.例文帳に追加

製造中に塗布不良を招くことなく、低温で長期間放置した場合であっても被覆内における異物の析出を十分に防止することができる被覆光ファイバを提供すること。 - 特許庁

To provide dielectric ceramics hardly contaminated by impurities in a combustion synthesis reaction with easy control of adiabatic flame temperature in a combustion synthesis process, and a method for producing the same.例文帳に追加

燃焼合成法において、断熱火炎温度の制御が容易であり、燃焼合成反応における不純物の混入等が少ない誘電体セラミックスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process which can stably produce a flexible polyurethane foam which excels in low resilience without using a plasticizer, excels in durability, reduces the change in hardness for the change in temperature, and has air permeability.例文帳に追加

可塑剤を用いることなく低反発性に優れ、耐久性に優れ、温度変化に対する硬度変化が少なく、通気性を有する軟質ポリウレタンフォームを安定して製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of a separator for a lithium ion secondary battery in which internal short circuit caused by shrinkage of a separator during storage at a high temperature is prevented by using a separator subjected to an electron ray irradiation treatment.例文帳に追加

電子線照射処理を行ったセパレータを使用することにより、高温保存時にセパレータの収縮による内部短絡を防止するリチウムイオン二次電池用セパレータの製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a photoelectric conversion element with high photoelectric conversion efficiency by preventing impurities from being redistributed owing to a high-temperature process and preventing characteristics of the photoelectric converting element itself from decreasing.例文帳に追加

高温プロセスによる不純物の再分布を防止して、光電変換素子自体の特性の低下を防止して、光電変換効率の高い光電変換素子を製造することを目的とする。 - 特許庁

To provide a heating device for controlling the heating temperature of corrugated cardboard over a wide range rapidly and accurately in a corrugated cardboard manufacturing process, and a corrugated cardboard manufacturing apparatus using the heating device.例文帳に追加

段ボール製造工程において段ボールの加熱温度を広範囲に亘り迅速且つ正確に制御することのできる加熱装置と、その加熱装置を用いた段ボール製造装置を提供する。 - 特許庁

To appropriately perform cleaning in accordance with a temperature condition, in removing toner remaining on the surface of an image holding member after a transfer process by a cleaning device using a cleaning blade.例文帳に追加

転写後における像保持部材の表面に残留するトナーを、クリーニングブレードを用いたクリーニング装置により除去するにあたり、温度条件に対応させて適切なクリーニングが行えるようにする。 - 特許庁

As for the subject method and apparatus, an infrared sensor in a form of a two wavelength imaging pyrometer measuring the surface temperature distribution in a billet made of steel to by spray-formed on real time is incorporated into a metal spray forming process.例文帳に追加

成形される鋼製ビレットの表面温度分布をリアル・タイムに計測する二波長画像式高温計の形態の赤外線センサーを組み込んだ金属溶射成形過程に、方法及び装置である。 - 特許庁