| 例文 |
process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
Moreover, the sterilization is performed by using high-pressure and high-temperature steam, so that it is unnecessary to heat washing water for a long period of time, thereby it is possible to shorten the time needed for a sterilizing process and to save energy consumption.例文帳に追加
更に、殺菌を高圧高温蒸気を用いて行うことで洗浄水を長時間加熱する必要が無く、殺菌工程の時間短縮と省エネルギー化とを図ることができる。 - 特許庁
The process for producing styrene-based prefoamed particles comprises using a heating temperature not lower than 96°C and not higher than 104°C at least at an initial foaming step when prefoaming.例文帳に追加
発泡性スチレン系樹脂粒子を予備発泡させる際に、少なくとも発泡初期に96℃以上104℃以下の加熱温度を用いて、発泡させるスチレン系予備発泡粒子の製造方法。 - 特許庁
To reduce an error of digital/analog conversion due to fluctuation in a output signal voltage and ambient temperature in operation and dispersion of process dependent elements on the case of manufacture and to realize a high-speed operation with a small area.例文帳に追加
動作時の電源電圧や周囲温度、又製造時のプロセス依存要素のばらつきによるD/A変換の誤差を低減し、かつ、小面積で高速な動作を実現することができる。 - 特許庁
At the orientation maintaining process, temperature of the wet film 38 is adjusted to 30 to ≤40°C by supplying dry wind to the wet film 38 having residual solvent amount ZY of 70 to ≤100 wt.%.例文帳に追加
配向維持工程では、残留溶媒量ZYが70〜100重量以下の湿潤フィルム38に乾燥風をあてて、湿潤フィルム38の温度が30〜40℃以下となるように調節する。 - 特許庁
To provide a copper nano paste that can be used to form an electrode on a silicon substrate, a polymer substrate, a glass plate, a printed circuit board, or the like, to which it is difficult to apply a high temperature process, and also provide a method for forming the same.例文帳に追加
高温工程の適用が困難なシリコン基板、高分子基板、ガラス基板、印刷回路基板などに対して電極の形成が可能な銅ナノペースト及びその形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an organic semiconductor thin film which achieves a high mobility through a room temperature wet process, and to provide a semiconductor device having the organic semiconductor thin film manufactured by the method.例文帳に追加
常温ウェットプロセスによる高いキャリア移動度を発現する有機半導体薄膜の製造方法、及当該方法により製造された有機半導体薄膜を有する半導体素子の提供。 - 特許庁
The apparatus for the thermal processing of a substrate surface involves irradiating the substrate surface 32 with first and second images 150, 250 to process regions of the substrate surface 32 at a substantially uniform peak processing temperature along a scan path.例文帳に追加
通常基板表面32を第1および第2像150,250で照射して基板表面32の領域をスキャンパスに沿って実質的に均一なピーク処理温度で処理することを含む。 - 特許庁
To provide a modifier for a cellulose ester resin, which imparts excellent moisture permeation resistance, exhibits excellent bleeding resistance under the condition of a high temperature and a high humidity and is less prone to volatilization during the process of forming a film.例文帳に追加
本発明は、優れた耐透湿性を付与でき、高温多湿下での耐ブリード性に優れ、フィルム製造工程で揮発しにくいセルロースエステル樹脂用の改質剤を提供することである。 - 特許庁
This process step can be performed at a pH 12 to 12 and a temperate ranging from ordinary temperature to 70°C in the presence of the redox mediator of a concentration greater than about 0.01 mmol/L and up to about 100 mmol/L.例文帳に追加
上記工程は、約0.01mmol/Lよりも大きく約100mmol/Lまでの濃度のレドックスメディエーターの存在下、pH2〜12、および常温〜70℃の範囲の温度で行われ得る。 - 特許庁
To provide a displaying device having high reliability which prevents diffusing from an aluminum element to a polysilicon layer in a heating process when using an aluminum conductive layer to a source-drain electrode contacting a low-temperature polysilicon, and avoids the occurrence of a displaying failure.例文帳に追加
低温ポリシリコンと接するソース・ドレイン電極にアルミニウム系導電層を用いた場合の加熱工程でのポリシリコン層へのアルミニウム元素の拡散を防止し、表示不良の発生を回避する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a graphene thin film, whereby the electric resistance of a fabricated graphene thin film does not increase; a high conductivity thereof is secured; and the graphene thin film can be fabricated by a low-temperature process of about ≤300°C.例文帳に追加
作製したグラフェン薄膜の電気抵抗が増大せず、高い伝導率が確保されるとともに、300℃以下程度の低温プロセスでも作製可能な、グラフェン薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a production process for deep dyeing of a polyamide and effectively solve a number of defects such as poor effects in dyeing nylon fibers, unevenness of dyeing quality, and high temperature (100-120°C) and high cost in dyeing.例文帳に追加
ポリアミドの濃い染め製造プロセスを提供し、ナイロン繊維の染色効果の不良,染色品質の不均一,染色の高温度(100℃乃至120℃)及び高コスト等の数多くの欠点を有効に解決する。 - 特許庁
The method for producing coal includes spraying a water-soluble tar aqueous solution by-produced in a process of carbonization or gasification of an organic material on the surface of the coal to suppress the low temperature oxidation.例文帳に追加
石炭の表面に有機物の炭化、ガス化の過程で副生する水溶性タール水溶液を散布して、低温酸化を抑制することを特徴とする石炭の製造方法を提供する。 - 特許庁
After exposure of a resist film for EUV on a wafer W but before a development process, the PEB device 83 firstly heats the wafer W at a first heating temperature using the first thermal plate 140.例文帳に追加
ウェハW上のEUV用レジスト膜の露光処理後であって現像処理前において、PEB装置83では、先ず、第1の熱板140によって第1の加熱温度でウェハWを加熱する。 - 特許庁
To provide a conductive thermosetting resin composition which enables component mounting by a reflow process since solder is melted and integrated, and has good storage stability at room temperature, and a method for producing the same.例文帳に追加
はんだが溶融一体化してリフロープロセスによる部品実装が可能であり、且つ室温での保存安定性が良好な導電性の熱硬化性樹脂組成物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic charge image developing toner which can be used in a low temperature fixing process and ensures contradictory functions such as hot storage resistance, mechanical strength and environmental stability of a charged state.例文帳に追加
低温定着プロセスに用いることが出来、更には、耐熱保管性、機械的強度および帯電環境安定性といった相反する機能を確保した静電荷像現像用トナー提供すること。 - 特許庁
In the hydrogenation process, comprises reducing the pressure of a treatment tank containing metal pellet is reduced and hydrogen gas is introduced into the treatment tank up to 1 atmospheric pressure under a temperature condition of 800-1,000°C stepwise.例文帳に追加
前記水素化工程は、金属ペレットが収容されている処理槽を減圧後、800〜1000℃の温度条件下にて、該処理槽内へ水素ガスを1気圧まで段階的に導入するものとした。 - 特許庁
Those organic semiconductors are dissolved in general organic solvents and are applied over substrate surfaces by a low-cost low-temperature solution process, such as spin coating, dip coating, and drop casting, and microcontact printing.例文帳に追加
これらの有機半導体は一般的な有機溶媒に溶解し、スピン・コーティングやディップ・コーティング、ドロップ・キャスティング、マイクロコンタクト・プリンティング等の、低コストな低温溶液処理で基板表面に塗布される。 - 特許庁
A method whose process temperature is lower like vapor-phase deposition can be employed by using the method of forming the thin film 2 of nickel oxide and the 2nd sapphire substrate 3 in order.例文帳に追加
酸化ニッケルからなる薄膜2及び第2のサファイヤ基板3を順次成膜する方法を取ることにより、気相成長などのようにプロセス温度がより低い方法を用いることが出来る。 - 特許庁
The manufacturing method of the natural fiber board contains a process for ageing a board containing a natural fiber under an atmosphere adjusted to 30-80°C in temperature and adjusted to 40-80% in relative humidity.例文帳に追加
天然繊維を含むボードを、温度30〜80℃、相対湿度40〜80%に調整された雰囲気下でエージングする工程を含むことを特徴とする天然繊維ボードの製造方法とする。 - 特許庁
When a cooling water temperature Tw is less than a threshold value Twth in cold starting in the step of executing a start injection control, an ECU 100 executes a cold starting process.例文帳に追加
ECU100は、始動時噴射制御を実行する過程で、冷却水温Twが閾値Twth未満の冷間始動時に該当する場合には、冷間時の始動処理を実行する。 - 特許庁
The bonded metal compounds are converted into the metal oxides through contact with vapor of a reactive oxide source other than water, and the substrate is kept at a temperature of less than 190°C during such a growth process.例文帳に追加
結合した金属化合物は、水以外の反応性酸素源蒸気と接触することによって金属酸化物に変換され、基板は成長工程の間190℃未満の温度に保たれる。 - 特許庁
To provide a cleaning solution for semiconductor substrates having excellent cleaning properties to particular foreign materials and ionic foreign materials on the semiconductor substrates after CMP process, and excellent in temperature dependent stability.例文帳に追加
CMPプロセス後の半導体基板上の粒子状異物やイオン状異物に対する優れた洗浄性を有し、かつ温度に対する安定性にも優れた半導体基板用洗浄液を提供する。 - 特許庁
The toner contains the low molecular weight non-crystalline resin having a lower softening point and a lower molecular weight compared to a resin used for a normal emulsion aggregation toner to be used in a low-temperature melt-fixing process.例文帳に追加
低融解定着用途用の通常の乳化凝集トナーに用いられる樹脂と比較して、低い軟化点及び低分子量を有する低分子量非晶質樹脂を含有したトナー。 - 特許庁
An Sr poor SRO film 15 is formed in a barrier metal film side alone by making a film formation temperature in the first half of a film formation process of a SRO film as a lower capacitor electrode than that in the latter half.例文帳に追加
下部キャパシタ電極としてのSRO膜の成膜工程の前半の成膜温度を後半のそれよりも高くして、バリアメタル膜側でのみSrプアーなSRO膜15を形成する。 - 特許庁
In order to expedite the volatilizing process of the volatile substance, a high temperature gas is injected almost parallel to the carbon paper from the gas injection outlet 34 of a gas injecting mechanism 30 and is hit to the volatile substance to enhance volatility.例文帳に追加
この揮発性物質の揮発工程を促進させるため、ガス射出機構30のガス噴射口34からカーボンペーパ10に略平行に高温ガスを噴出して当て、揮発性を向上させる。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a cellulose triacetate film which is excellent in planarity without a longitudinal crimple or kink, despite a film forming by a high temperature drying for increasing speed.例文帳に追加
本発明の目的は、高速化するために高温乾燥を行って製膜しても縦シワあるいは縦ツレのない平面性に優れたセルローストリアセテートフィルムの製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a toner for electrostatic charge image development, the toner being excellent in low temperature fixing in a fixing process, offset resistance and fixing strength responding to energy saving, as well as excellent in powder fluidity and heat-resistant storage property.例文帳に追加
定着プロセスにおける低温定着化、省エネルギー化に対応した耐オフセット性と定着強度に優れ、粉体流動性、耐熱保存性にも優れた静電荷現像用トナーを提供すること。 - 特許庁
A dotted pattern of a catalyst metal is disposed at a prescribed position of the surface of a substrate, and silicon nanowires are crosslinked and grown between dots of the catalyst metal by a CVD process using polysilane gas at a temperature of ≤300°C.例文帳に追加
基板表面上の所定位置に触媒金属ドットパターンを配設し、ポリシランガスの300℃以下の温度でのCVDによって所定の触媒金属ドット間にシリコンナノワイヤーを架橋成長させる。 - 特許庁
This is supposed to be caused by a temperature fall of a glass tube 100 during a winding process and both end parts of the glass tube not heated due to tension given during the winding.例文帳に追加
これは、巻回過程中におけるガラス管100の温度低下、および巻回時にテンションを加えるためにガラス管100の両端部には熱が加えられないことなどが原因であると考えられる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a nuclear fuel pellet having Mo as an inert matrix phase in which the manufacturing process is simplified as the sintering temperature is relatively low and besides the pellet has high density and high thermal conductivity.例文帳に追加
比較的低い焼結温度で製造プロセスも簡素化でき、しかも高密度で高い熱伝導率を備えた、Moを不活性母材相とする核燃料ペレットの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for preparing a polyarylene sulfide, without need for prepolymerization and control by a complicated temperature pattern, and also without adhesion of the polyarylene sulfide to reactor inner wall and stirring blades.例文帳に追加
予備重合や煩雑な温度パターンによる制御を必要とせず、また、ポリアリーレンスルフィドが反応容器内壁や攪拌翼に付着することなく、ポリアリーレンスルフィドを製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a front substrate of a plasma display panel (PDP) and its manufacturing method which can improve a color temperature, color purity and contrast of the PDP and also simplify the manufacturing process of the PDP.例文帳に追加
プラズマディスプレーパネル(PDP)の色温度、色純度及びコントラストを向上すると共に、PDPの製造工程を単純化し得るPDPの前面基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To improve adhesion between a semiconductor substrate and a base substrate, and to reduce defective bonding even when bonding together the semiconductor substrate and the base substrate with a low temperature process.例文帳に追加
低温プロセスにより半導体基板とベース基板の貼り合わせを行う場合であっても、半導体基板とベース基板との密着性を向上させ、貼り合わせ不良を低減することを目的の一とする。 - 特許庁
This process is effected under severe conditions, e.g. reaction temperature as high as 400 to 440°C, to accelerate decomposition of asphaltenes and remove impurities, e.g. heavy metals and sulfur, contained therein.例文帳に追加
ここでは例えば反応温度を400〜440℃もの厳しい条件で処理を行い、アスファルテンの分解を促進して、その中に取り込まれている重金属や硫黄などの不純物を除去する。 - 特許庁
The surface temperature of the sapphire mono-crystal substrate during the film formation of those gallium nitride layer and aluminum nitride mono-crystal layer is set to be made constant, that is, almost 950°C so that the manufacturing process can be simplified.例文帳に追加
これらの窒化ガリウム層および窒化アルミ単結晶層を成膜している間のサファイア単結晶基板の表面温度はほぼ950℃と一定とするので、製造プロセスは簡単となる。 - 特許庁
In molding this slurry and sintering the molding, the sintering temperature can be lowered by the effect of B, the damage on a sintering furnace can be prevented and the cost over the entire part of process steps can be reduced.例文帳に追加
このスラリーを成形して焼結する際には、Bの働きによって焼結温度を低下でき、焼結炉へのダメージを防止できるとともに工程全体で低コスト化を図ることができる。 - 特許庁
An inert gas is introduced into the process chamber (220), and generally, plasma is formed to heat the substrate to a predetermined temperature at which the trench filling material should be deposited (222).例文帳に追加
不活性ガスは、処理チャンバに導入され(220)、プラズマは、一般的にはトレンチ充填材料の堆積が行われるべき温度である事前設定された温度に基板を加熱するために形成される(222)。 - 特許庁
To improve performance by suppressing the characteristic fluctuation of a characteristics fluctuation suppression object circuit by process conditions and temperature fluctuation, regarding a semiconductor integrated circuit loaded with a PLL circuit.例文帳に追加
PLL回路を搭載する半導体集積回路に関し、プロセス条件や温度変動による特性変動抑圧対象回路の特性変動を抑圧することによる性能向上を図る。 - 特許庁
To provide a biaxially oriented polyester film which comprises polyethylene naphthalenedicarboxylate as a main component and has excellent curl resistance in a process for thermally treating the film and when used at high temperature, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを主たる成分としてなる、フィルムの熱処理工程や高温下での使用における耐カール性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the press metal separator for the fuel cell having a process press-molding a metallic thin plate member with a prescribed mold, press-molding is performed in a temperature range in the power generation of the fuel cell.例文帳に追加
金属薄板部材を所定の金型を用いてプレス成型する工程を備える燃料電池用プレスメタルセパレータの製造方法において、燃料電池の発電時の温度帯域でプレス成型する。 - 特許庁
The pin is soldered onto the pad under a temperature capable of fusing the solder material and the solder material is covered fixedly with the pad thus completing the surface mounting process of the pins of a PGA package.例文帳に追加
該ソルダ材料を溶融可能な温度下で、該ピンを該パッド上にはんだ付けし、該ソルダ材料に該パッドを被覆させ且つ固定させ、こうしてPGAパッケージのピン表面実装工程を完成する。 - 特許庁
To provide a toner for image formation, the toner achieving both of low temperature fixability and heat-resistant storage properties having gloss, even in high-speed fixing and no offset phenomenon, and to provide an image forming method and apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加
低温定着性と耐熱保存性を両立し、高速定着でも光沢性を有し、オフセット現象のない画像形成用トナー、画像形成方法と装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
In a catalyst supporting process (3), pores in a catalytic species layer are closed, at first, by heating the catalytic species layer at a high temperature equal to or higher than the melting point of the base material of the catalytic species layer such as a porous metal (step 108).例文帳に追加
(3)触媒担持工程においては、先ず、種触媒層をその基材である多孔質金属等の融点以上の高温で加熱して、種触媒層の細孔を閉塞させる(ステップ108)。 - 特許庁
Consequently, reduction of frame strength due to a high temperature heat treatment process is controlled by plastically deforming the frame 10 beforehand, and tension reduction of the color selection electrode can be controlled.例文帳に追加
このように、フレーム10を塑性変形させておくことにより、高温熱処理工程におけるフレーム強度の低下を抑えることができ、色選別電極の引張力低下も抑えることができる。 - 特許庁
To form a resist pattern with a small variation of resist pattern size per unit temperature suitable for a thermal flow process, high intrasurface uniformity in the resulting resist hole pattern size and excellent section shape.例文帳に追加
サーマルフロープロセスに適合した単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量が小さく、得られるレジストホールパターンサイズの面内均一性が高く、かつ断面形状の優れたレジストパターンを形成させる。 - 特許庁
In a derivation process, the differential efficiency curve of I/L characteristics of an LD chip are acquired at a constant temperature (S1, S2), and the inclination of an approximate straight line of the differential efficiency curve is calculated (S3).例文帳に追加
導出工程では、LDチップのI/L特性の微分効率曲線が一定温度下で取得され(S1、S2)、この微分効率曲線の近似直線の傾きが算出される(S3)。 - 特許庁
To provide a biaxially oriented film solving such problems that a film is easily extended and wrinkles during such an operation where tensile strength is applied at high temperature as drying process done after coating of magnetic layer.例文帳に追加
磁性層を塗布した後の乾燥工程のような高温で張力が加わる加工を行なうとき、フィルムが伸びやすくしわなどが入るといった問題の解消された二軸配向フィルムの提供。 - 特許庁
To provide a method for preparing an oil in water microemulsion composition capable of efficiently micronizing the emulsified particles by a simple and high temperature emulsifying process.例文帳に追加
本発明の目的は簡便な工程で、高温で乳化したときも乳化粒子を十分に微細化することのできる水中油型微細乳化組成物の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
A control means for maintaining the highest temperature for washing during a predetermined time according to each setting course is included, and at least one maintaining time is set at that different from the setting values of other process selection.例文帳に追加
各設定コースによってすすぎ最高温度を所定時間維持する制御手段を有するとともに、持続する時間を少なくとも1つは他の行程選択の設定値と異なる時間に設定した。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|