「process value」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To perform, with a computer, integral operations on an integrated function that is defined by a first variable whose values are given at every calculation time and a second variable to which only an initial value is given, and to calculate a value of the second variable to be used at each calculation time, the following process is performed.例文帳に追加

全ての計算時刻について値が与えられる第１の変数と、初期値のみが与えられる第２の変数とで定義される被積分関数に関する積分演算をコンピュータで実行し、各計算時刻で使用する前記第２の変数の値を算出するために、以下の処理を実行する。 - 特許庁

Meanwhile, a 3D-LUT with a higher upper limit value in the image data after the color conversion process is selected (step S8), when the area in which the number of pixels with the total of pixel values that are the threshold value T1 and more is the threshold H1 or more is not present (NO in step S5, YES in step S7).例文帳に追加

一方、画素値の合計が閾値Ｔ１以上の画素の数が閾値Ｈ１以上である領域が存在しない場合には（ステップＳ５；ＮＯ、ステップＳ７；ＹＥＳ）、色変換処理後の画像データの上限値がより高い３Ｄ−ＬＵＴを選択する（ステップＳ８）。 - 特許庁

To provide a system for calculating a workpiece transportation time evaluation value for calculating a workpiece transportation time evaluation value which can be used as an indicator for evaluating a workpiece transportation time as a contributing factor of the bottleneck that a device in a process is in a standby state in a production line composed of a plurality of processes.例文帳に追加

複数の工程で構成される生産ラインにおいて、工程の装置が待機状態となるボトルネックの要因としてのワーク搬送時間を評価するのに、指標として使用可能なワーク搬送時間評価値を演算するワーク搬送時間評価値演算システムを提供する。 - 特許庁

The irregularities in the line width of the pattern formed on the reticle 6 are measured, an exposure value which sets the line width of the pattern formed on the reticle 6 equal to the desired line width of a device pattern formed on a wafer 7 is obtained, and the wafer 7 is subjected to an exposure process as the exposure value is controlled corresponding to the irregularities.例文帳に追加

レチクル６に形成されたパターンの線幅のばらつきを計測し、該パターンの線幅に対してウェハ７上に形成されるデバイスパターンの線幅を所望の値にする露光量を求め、該露光量が前記ばらつきに対応して露光されるように露光量を制御する。 - 特許庁

To provide a nuclear fuel pellet not requiring a heat-treatment process after sintering of the pellet by regulating the amount of metal uranium (U) granules added to an oxide powder being a raw material powder, to control the O/M ratio of the sintered pellet to a value lower than the value in the conventional case, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

原料粉末である酸化物粉末に金属ウラン（Ｕ）顆粒の添加量を調節して焼結ペレットのＯ／Ｍ比を従来より低くなるように制御し、ペレット焼結後の熱処理工程を不要にした核燃料ペレットおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

If neither is set, feeding of a manuscript set to ADF is completed because of the ADF mode, the copy clearly ends when a copying machine stops an image forming process, control may immediately proceed to a power saving mode without causing any trouble, and hence the timer setting value is set to a small value (S4).例文帳に追加

また、どちらでもない場合にはＡＤＦモードなので、ＡＤＦにセットした原稿の給送を完了し、複写機の作像プロセスが停止した時点でコピーを終了したことが判明し、直ぐ省電力モードに移行しても問題はないことから、タイマの設定値を短い設定値とする（Ｓ４）。 - 特許庁

In the coarse tooth form part 5 of a rough forged member 1 to be formed in a hot forging process, the tip diameter h1 and the tooth thickness h2 of the tooth form are set at a value smaller than in the final product dimension, while the tooth depth h3 is set at a value larger than that.例文帳に追加

先ず、熱間鍛造工程で成形される荒鍛造部材１の粗歯形部５において、その歯形の歯先円径ｈ１及び歯厚ｈ２を最終製品寸法より小さな値に設定すると共に、その歯高さｈ３を最終製品寸法より大きな値に設定する。 - 特許庁

A current waveform identifying means (104) acquires an output current equivalent value (y_n) for calculating a dead time compensation amount (Δv_ref) by a predetermined identification process, based on an actual output current value (x_n) detected through a current detecting means (CT).例文帳に追加

電流検出手段（ＣＴ）を介して検出された実出力電流値（ｘ_ｎ）に基づいて、デッドタイム補償量（Δｖ_ｒｅｆ）の演算に使用されるべき出力電流相当値（ｙ_ｎ）を、所定の同定処理により求める電流波形同定手段（１０４）を有する。 - 特許庁

When the appropriate value matching the number of interrupt requests is not written in the trap release register 52 and when no value is written in the trap release register 52 within a set period of time since an interrupt request, the printing process of the ASIC 23 is forcibly terminated via an inhibition circuit 55.例文帳に追加

トラップ解除レジスタ５２に割込要求回数に応じた適切な値が書き込まれない場合と、トラップ解除レジスタ５２に割込要求から設定時間以内に値が書き込まれない場合は、ＡＳＩＣ２３の印刷処理が禁止回路５５を介して強制的に停止される。 - 特許庁

A scene layer index value calculation unit calculates an index value that is used to judge a structure of the encoded group based on a correlation degree indicating the correlation between frames of moving image data, condition information relating to a photographing condition of the moving image data, and the amount of encoding distortion in an encoding process.例文帳に追加

シーン層指標値算出部は、動画像データのフレーム間の相関度を示す相関度と、動画像データの撮影状態に係る状態情報と、符号化処理における符号化歪み量とを基に、符号化グループの構成の判断に用いる指標値を算出する。 - 特許庁

(2) In the electroplating process, an average cathode current density of all plating baths is controlled within 1-3 A/dm^2 and a ratio of maximum value to minimum value of the cathode current density in each plating bath is controlled within 1-5, and further a film carrying speed is adjusted within 80-300 m/h.例文帳に追加

（２）前記電気めっき工程において、全めっき槽の平均陰極電流密度を１〜３Ａ／ｄｍ^２に、及び各めっき槽内での陰極電流密度の最小値に対する最大値の比を１〜５に制御するとともに、フィルムの搬送速度は、８０〜３００ｍ／ｈに調整する。 - 特許庁

The place of a reference seed block in the 1st uniform area extracting process is different from that of the 2nd one, so the mean luminance value, means color difference signal value, etc., in the seed block are different at a gentle gradation variation part, so the shape of the uniform color area is greatly different.例文帳に追加

１回目と２回目の均等色領域抽出では、基準とする種ブロックの場所が異なるため、なだらかな階調変化部分では、種ブロック内の平均輝度値や平均色差信号値等が異なってくるので、均等色領域の形状が大きく異なる。 - 特許庁

To provide a tolerance determination device, method, program and recording medium capable of increasing the efficiency of a trial-and-error process for determining tolerance by providing an evaluation value of a performance distribution that varies according to tolerance, and performing optimization to minimize the evaluation value using the tolerance as a variable.例文帳に追加

公差により変化する性能分布の評価値を設け、公差を変数として評価値を極小化する最適化を行うことにより、試行錯誤的な公差決定過程を効率化することが可能な公差決定装置、公差決定方法、プログラム、および記録媒体を提供する。 - 特許庁

The control unit 310 executes a predetermined process when a motion in a specific direction at an angular velocity determined by a first threshold value or above is detected and then a motion at an angular velocity determined by a second threshold value or above in a direction different from the specific direction is detected.例文帳に追加

当該制御部３１０は、第一の閾値で定められる角速度以上の特定の方向への動きが検出されてから、第二の閾値で定められる角速度以上の、前記特定の方向とは異なる方向への動きが検出された場合に、所定の処理を行う。 - 特許庁

Regional Value Content Rule Under this rule, the value added by the process of implementing the procurement, production, processing, etc. of goods within the contracting parties’ countries is converted into an amount, and if such amount exceeds a certain reference threshold amount, substantial transformation will be deemed to have taken place and originating status will be granted to the goods.例文帳に追加

締約国内において実施された調達・生産・加工等の作業に伴って形成された付加価値を価額換算し、当該付加価値が一定の基準値（敷居値）を超えた場合に、実質的変更がなされたと見なし、当該産品に原産資格を付与するルールである。 - 経済産業省

To provide a static load testing method for conducting a test by applying load in only one direction, testing changes of load in a pulling-up process, and grasping properties of the ground by a simple method to conduct research on an accurate N value and geological features.例文帳に追加

載荷荷重を一方向のみに付加して試験するとともに、引き上げ過程の荷重変化をも試験し、簡素な方法で地盤の性状を把握し正確なＮ値、地質の調査を可能にする。 - 特許庁

This process decides the dot arrangement based on a dot arrangement deciding matrix configured so that the dot forming status may approximate to a predetermined characteristic for all the regions of the input gradation value.例文帳に追加

この工程は、入力階調値の全部の領域に対してドットの形成状態が所定の特性に近づくように構成されたドット配置決定用マトリクスに基づいてドット配置を決定する。 - 特許庁

When the image buffer 4 has a lower capacity to spare compared with the threshold value, a process thus far performed by a raster image generation part 5, is instead, to be performed by an image generation part 3 and thus the processing load of the part 5 can be miligated.例文帳に追加

イメージバッファ４の空きが閾値より小さくなった場合、ラスタイメージ生成部５で行っていた処理を画像生成部３で行うことにより、ラスタイメージ生成部５の処理負荷を軽減する。 - 特許庁

The pattern drawing device controls, in a drawing process, the position of a stage on the basis of a position parameter measured by first and second interferometers and on the basis of a given environmental parameter (in a fixed value mode).例文帳に追加

パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。 - 特許庁

If the conditions are not satisfied, a series of judging works from the measurement of temperature in the process S6 are repeated to wait until a saturation condition of thermal displacement for achieving the value of difference in temperature satisfying the judging expression.例文帳に追加

条件を満たしていない場合は、工程Ｓ６の温度測定からの一連の判定作業を繰り返し、判定式を満たす温度差値になる熱変位の飽和状態まで待機できる。 - 特許庁

To provide a liquid state detection device capable of determining the stationary state of liquid by using an output acquired separately in a process for detecting a concentration value by carrying a current in a heating resistor.例文帳に追加

発熱抵抗体に通電し濃度値を検出する過程において別途得た出力を用い、液体の静止状態の判定を行うことができる液体状態検知装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the occurrence of a fastening shock due to the fastening process not being finished within the fastening control time and the fastening pressure command value being stepwisely increased at the time of the fastening control time passing is prevented.例文帳に追加

これにより、締結制御時間内で締結処理が完了せず、締結制御時間が経過した時点で締結圧指令値がステップ的に増大されて締結ショックが発生することを抑止する。 - 特許庁

(c) A determination threshold value of the scattered light intensity for extracting the defects to be counted is determined based on the results classified in the process (b), and the intensity of the scattered light caused by the defects.例文帳に追加

（ｃ）工程ｂで分類された結果と、欠陥に起因する散乱光の強度とに基づいて、計数すべき欠陥を抽出するための散乱光強度の判定しきい値を決定する。 - 特許庁

A column of symbols is coded, by repeating the process of dividing a coding region which is set by a coding region specifying value into sections corresponding to the symbol types of symbols to be processed.例文帳に追加

符号範囲特定値によって設定される符号範囲を処理対象となるシンボルのシンボル種に応じた区間に分割する処理を繰り返すことで、シンボル列を符号化する符号化システムを提供する。 - 特許庁

A specific solvent supply nozzle is selected for an edge rinse process so that the selected nozzle discharges a removing solvent having a dissolution parameter gap larger than a preset value against a coating solvent contained in a resist liquid.例文帳に追加

エッジリンス時に用いられる溶剤供給ノズルには，レジスト液中に含まれる塗布溶剤に対して溶解パラメータが設定値以上離れた除去溶剤を吐出するものが選択される。 - 特許庁

When a phase difference P becomes zero for a certain period of time, an operational unit 105 determines that it is in a phase-locked process, and the digital input value VD at the time is stored in a digital input storage 106.例文帳に追加

位相差Ｐがある一定期間０になった場合に、演算部１０５は位相同期過程と判断し、その時のデジタル入力値ＶＤをデジタル入力値記憶部１０６にて記憶する。 - 特許庁

The operation process part calculates a point for each characteristic item for reading characteristic value by using normal distribution function, and the values are summed up for obtaining the evaluation point R to discriminate the kind.例文帳に追加

演算処理部により、特徴量を読み取るべき特徴項目ごとに正規分布関数を用いて点数を算出し、その点数を総和して類識別のための評価得点Ｒを算出する。 - 特許庁

If much the same trend is shown in process variability in the transistor 415 and a transistor 408-2 of a second-stage circuit, then a direct-current voltage potential at the A-point has a value according to a threshold voltage of the transistor 408-2.例文帳に追加

トランジスタ４１５と第２段回路のトランジスタ４０８−２のプロセスばらつきが同様の傾向を示す場合、Ａ点の直流電位は、トランジスタ４０８−２の閾値電圧に応じた値となる。 - 特許庁

This process decides the dot arrangement based on a dot arrangement deciding matrix configured so that the dot forming state may approximate to a predetermined characteristic for all the regions of the input gradation value.例文帳に追加

この工程は、入力階調値の全部の領域に対してドットの形成状態が所定の特性に近づくように構成されたドット配置決定用マトリクスに基づいてドット配置を決定する。 - 特許庁

In the process 3, the pattern is divided by the number of modules in minimum width, which constitute a black bar or a white bar, a module value showing whether the respective modules show black or white is decided and the respective patterns are converted into the characters.例文帳に追加

過程３ではパターンを黒バー、または白バーを構成する最小幅のモジュールの数で分割し、各モジュールが黒か白かを示すモジュール値を決定し、各パターンを文字に変換する。 - 特許庁

In the numeric item section number setting process 104, the maximum and minimum value of values of the category object item are obtained the part between them is divided by an inputted section number, and the respective sections are set as category values.例文帳に追加

数値項目区分数設定処理１０４は、カテゴリ対象項目の値の最大値と最小値を求め、その間を、入力された区分数で分割し、各々の区分をカテゴリ値として設定する。 - 特許庁

In a next size correction quantity determining process (ST15), the size correction quantity of a design pattern of a photomask is determined according to the calculated mean value, so that the transfer pattern has specific design values.例文帳に追加

次の寸法補正量決定工程ＳＴ１５において、算出した平均値に基づいて、転写パターンが所定の設計値となるようにフォトマスクの設計パターンの寸法補正量を決定する。 - 特許庁

To prevent the abnormal light emission even when the value of a pulse width setting register is updated in the process of recording operation and to eliminate that the pulse width setting sequence becomes the abnormal operating state, while the damage of media is prevented.例文帳に追加

記録動作中にパルス幅設定レジスタの値を更新した場合でも異常発光を防止し、メディアの破損を防ぐとともにパルス幅設定シーケンスが異常動作とならないようにする。 - 特許庁

The adjustment value in the copy process includes deviation from a reference position to an image write position created by an output part and deviation from the reference position to the image read position of the image data created by a read part.例文帳に追加

そして、コピー処理における調整値は、出力部による基準位置から画データの書き込み位置までのずれと読取部による基準位置から画データの読み込み位置までのずれを含むようにした。 - 特許庁

The method for manufacturing the single crystal semiconductor comprises controlling the rotation speed ω2 of the single crystal semiconductor being pulled to be not lower than a prescribed value and applying a magnetic field having an intensity within a predetermined range in the process for pulling the single crystal semiconductor.例文帳に追加

単結晶半導体を引き上げる過程で、引き上げられる単結晶半導体の回転速度ω2を所定値以上に調整し、かつ所定範囲の強度の磁場を融液に印加する。 - 特許庁

At the time of the long-time exposure, a calculated compensation value is multiplied by a coefficient corresponding to the exposure time, and a compensation process is carried out by using a compensation amount which has been multiplied by the coefficient.例文帳に追加

長時間露光時においては、算出された補正量に、露光時間に対応する係数が乗算され、その係数が乗算された補正量を用いた補正の処理が実行される。 - 特許庁

To provide a thin film capacitor, where the loss by an electrode is small, even at high frequencies, accordingly a Q-value is high, and the lower electrode layer hardly peels off in the manufacturing process.例文帳に追加

特に高周波においても電極による損失が小さく、従ってＱ値が大きく、さらに製造工程時に下部電極層が剥がれにくく信頼性が高い薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

The heating value of a heater is calculated by multiplying the ON/OFF ratio B of the heater by a coefficient K for heating an injection cylinder until a metering process is completed to be stored in a memory part THmen(n) (202).例文帳に追加

計量工程が終了するまで、射出シリンダを加熱するヒータのオン／オフの比率Ｂに係数Ｋを乗じてヒータの発熱量を求め、メモリ部ＴＨｍｅｎ（ｎ）に記憶する（２０２）。 - 特許庁

An output voltage value of the power source D2 constant-current controlled in a process in which the recording material P is conveyed by 100 to 110 mm after the rush-in is brought in by a voltage detection circuit V2.例文帳に追加

そして、突入から１００ｍｍ〜１１０ｍｍ記録材Ｐを搬送する過程で定電流制御される電源Ｄ２の出力電圧値を電圧検知回路Ｖ２により取り込む。 - 特許庁

Further, a special symbol backup time command transmission table is selected on the basis of the value or the like of a special symbol process flag stored in a RAM, and the initial command is transmitted according to the selected table.例文帳に追加

また、ＲＡＭに格納されている特別図柄プロセスフラグの値等にもとづいて、特別図柄バックアップ時コマンド送信テーブルを選択し、選択したテーブルに従って初期コマンドを送信する。 - 特許庁

To solve such a problem that a threshold voltage is greatly shifted to a negative value due to heat treatment of an a-IGZO thin film, and to suppress the maximum temperature in a device production process lower than a softening point of a plastic substrate.例文帳に追加

ａ−ＩＧＺＯ薄膜の熱処理による閾値電圧が大きく負の値にシフトしてしまう問題の解決とデバイス作製プロセスの最高温度をプラスチック基板の軟化点よりも低く抑える。 - 特許庁

When estimating the fuel pressure, a restriction by a limiter and a weighted averaging process are executed so as to delay a change in an estimated value of the fuel pressure in response to a change in the drive current (S25-S29).例文帳に追加

この燃料圧力の推定に際しては、駆動電流の変化に対し燃料圧力の推定値の変化を遅らせるように、リミッターによる制限や、加重平均処理を行う（Ｓ２５〜Ｓ２９）。 - 特許庁

Therefore, an image reading process can be carried out through the CIS unit 40 without using an adjusted light volume value affected by ambient light L when the manuscript pressing cover 6 is kept in an opened position.例文帳に追加

したがって、原稿押さえカバー６が開姿勢の場合に外光Ｌの影響を受けた光量調整値を用いることなく、ＣＩＳユニット４０による画像読取りを行うことができる。 - 特許庁

In the step S13, when the number of remaining trackings is equal to or more than the threshold value D and less than C, the process is determined not normal when predetermined conditions are established, and time learning processing is executed.例文帳に追加

ステップＳ１３において、残りトラッキング本数が閾値Ｄ本以上Ｃ本未満である場合には、所定条件の場合に正常ではないと判定して、時間学習処理を実行する。 - 特許庁

In a second overlapping process S4, the sealing substrate 70 is made to move toward the element forming substrate 20 in order to crush the adhesive 9 after completion of decompression down to the first pressure value.例文帳に追加

第２の重ね合わせ工程Ｓ４は、前記第１の気圧値に減圧完了後に、接着剤９を押しつぶすべく封止基板７０を所定距離分だけ素子形成基板２０側に移動させる。 - 特許庁