「scratch method」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an adhesive label excellent in ink transferability and scratch resistance of an ink (a recorded image), including a type of an adhesive label that does not need a release paper, having printed thereon by a thermal transfer method.例文帳に追加

剥離紙を必要としない態様である粘着ラベルを含む、インク転写性、インク（記録画像）の耐擦過性に優れた、熱転写方式による印刷を施した粘着ラベルを提供する。 - 特許庁

To provide a relating method capable of dispensing with the work of high cost such as the previous application of a keyword from scratch to the image data, upon relating the image data and the electronic document information.例文帳に追加

映像データと電子文書情報を関連付ける際に、映像データに対し、一から予めキーワードを付与するようなコストの高い作業を必要としない関連付けの方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element, with which generation of a pit originating from a pit source 14 such as a micro scratch is suppressed in chemical etching of surfaces 11a, 12a of glass substrates 11, 12.例文帳に追加

ガラス基板１１，１２の表面１１ａ，１２ａをケミカルエッチングする際、微少な傷などのピット起点１４を起点としたピットの発生を抑制できる液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a multi-layer coating film, which is capable of forming a coating film excellent in scratch resistance, acid resistance, surface finish appearance, etc., and capable of reducing the number of processes and the emission amount of a solvent.例文帳に追加

耐擦り傷性、耐酸性、仕上り外観等に優れた塗膜を形成せしめることができ、且つ工程及び排出溶剤量の削減を可能とする複層塗膜形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiping film that has a function of removing foreign matters without causing a scratch or foreign matters on a work surface and also has stable cleaning properties, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

被処理面にスクラッチや異物を発生させずに異物を除去することのできる機能を持ち、且つ安定したクリーニング特性を有するワイピングフィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate sheet having high elongation ability suitable for being adhered to a substrate material using the vacuum heat-compression method and further having a most outer surface layer showing an excellent scratch resistance and chemical resistance.例文帳に追加

真空加熱圧着法を用いた基材への貼り付けに適した高い延伸性を有するとともに、最表面層が良好な耐傷つき性と耐薬品性を備えた積層シートを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a coating composition to improve physical properties such as scratch resistance, transparency, adhesion, water resistance, weatherability and the like when a cured film is formed from a modified metal oxide.例文帳に追加

変成された金属酸化物を硬化膜にした際に、耐擦傷性、透明性、密着性、耐水性、耐候性などの物性を向上させるためのコーティング組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a hard coating film which is excellent in adhesion after a light resistance test, in scratch resistance, in coating film hardness such as pencil hardness, and in leveling properties in coating, with less interference unevenness.例文帳に追加

本発明のハードコートフィルムの製造方法は、耐光試験後の密着性、耐擦傷性、鉛筆硬度等の塗膜硬度、塗工時のレベリング性に優れ、且つ干渉ムラも少ないハードコートフィルムを提供できる。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material excellent in preservability of a raw sample and excellent in scratch resistance of the raw sample and low in variation of sensitivity even when exposed in different humidity and also provide a method of producing the same.例文帳に追加

生試料の保存性に優れ、生試料の耐傷性に優れ、異なった湿度で露光しても感度変動が小さく優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To obtain an inkjet ink composition giving printed images having improved ozone fastness and physical durability such as scratch and smudging resistance, and to provide an inkjet printing method.例文帳に追加

改良された耐オゾン堅牢性並びに耐引き掻き性および耐汚れ性などの物理的耐久性を有する画像を提供するインクジェットインク組成物および印刷方法に対する要求が未だに存在する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet using a polyester resin and simultaneously developing surface hardness, scratch resistance, solvent resistance, bending processability or embossing processability and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ポリエステル樹脂を使用した化粧シートにおいて、表面硬度や耐傷付き性、耐溶剤性と、折り曲げ加工適性やエンボス加工適性とを、同時に具現化する化粧シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a golf ball and the golf ball which enables the effective reuse of the runner generated during forming a cover and is excellent in scratch resistance and controllability.例文帳に追加

カバー成形時に発生するランナーを効率的に再利用できるとともに、耐擦過傷性、および、コントロール性に優れるゴルフボールの製造方法およびゴルフボールを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photocatalyst obtained from an aqueous photocatalyst coating agent, having a photocatalyst layer firmely and closely bonded to a substrate and showing excellent scratch resistance and weatherability, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

水性光触媒コーティング剤から得られ、基板に強固に密着された光触媒層を有し、優れた耐擦傷性および耐候性を示す光触媒体およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a cold-rolling method which is excellent in responsiveness of lubricant supply control, by which the generation of chattering and heat scratch is efficiently prevented, productivity is raised and the improvement of the consumption unit of oil is possible.例文帳に追加

潤滑油供給制御の応答性に優れ、効率良くチャタリング・ヒートスクラッチ発生を防止し、かつ生産性を高め、油原単位向上が可能な冷間圧延方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide emulsion which has superior characteristics of sensitivity, fogging, covering power, color tones of developed silver, scratch blakening, etc, a method for manufacturing the silver halide emulsion, and a silver halide photosensitive material.例文帳に追加

感度、カブリ、カバリングパワー、現像銀の色調及びすり傷黒化等の特性に優れたハロゲン化銀乳剤、ハロゲン化銀乳剤の製造方法及びハロゲン化銀写真感光材料の提供。 - 特許庁

To provide a steel plate straightening method capable of bringing respective rolls of a rolling-reduction and straightening device into contact with the surface of a steel plate to be straightened without causing scratch or the like on the surface of the steel plate.例文帳に追加

圧下矯正装置の各ロールを、圧下矯正する鋼板に接触させる際に、鋼板表面に擦り傷等を発生させることなく、鋼板表面に接触させる矯正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a control valve type lead-acid battery preventing scratch of a valve body with burrs generated in an inner peripheral hole of an exhaust cylinder or obstruction of close adherence, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

排気筒２２の内周孔２２ｃ，２２ｄに発生するバリによって弁体４が傷付いたり密着を阻害されるようなことのない制御弁式鉛蓄電池及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabric for abrasive cloth capable of further flattening the surface of an object to be polished, and reducing the rate of occurrence of defect (scratch) of the surface of the object to be polished, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

被研磨物表面をより平坦にすることが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能な研磨布用布帛およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition suppressing generation of blocking in a formed image and having excellent offset resistance during forming an image and scratch resistance of a formed image, and to provide a method for forming an image by using the composition.例文帳に追加

形成された画像におけるブロッキングの発生が抑制され、画像形成時の耐オフセット性、形成された画像の耐擦性に優れるインク組成物、およびこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive lithographic printing plate material having high sensitivity and excellent in scratch resistance and storage stability, a method for producing a positive lithographic printing plate material by which the positive lithographic printing plate material having high sensitivity and excellent in scratch resistance and storage stability can be produced with high productivity, and a lithographic printing plate material package.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料、該高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料を高い生産性で製造することができるポジ型平版印刷版材料の製造方法および平版印刷版材料梱包体を提供することにある。 - 特許庁

ORGANIC SILICON HANO-/MICROHYBRID SYSTEM OR MICROHYBRID SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING COMPOSITION CONTAINING SAME SYSTEMS, THESE COMPOSITIONS, USAGE THEREOF, METHOD OF MANUFACTURING SCRATCH RESISTANT AND ABRASION RESISTANT COATING, THESE COATINGS AND PRODUCTS HAVING THESE COATINGS例文帳に追加

有機ケイ素ナノ−／マイクロハイブリッドシステムまたはマイクロハイブリッドシステム、これらの系を含有する組成物の製造方法、これらの組成物、これらの使用、耐引っかき性および耐磨耗性被覆の製造方法、これらの被覆およびこれらの被覆を有する物品 - 特許庁

To provide a gas barrier film which is obtained efficiently by a method of forming a SiO_2 type ceramic film rapidly at low temperatures and has improved gas barrier properties and film characteristics, e.g. scratch resistance, of the ceramic film obtained finally and a method of manufacturing the gas barrier film.例文帳に追加

低温で且つ迅速にＳｉＯ_２系セラミックス膜を形成する方法により、効率良くガスバリアフィルムを得て、最終的に得られるセラミックス膜のガスバリア性、耐傷性等の膜特性を向上したガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of a resin composition for a hard coat which satisfies various performance conditions such as physical properties of scratch resistance, surface hardness, etc., weather resistance and storage stability, and to provide the hard coat resin composition obtained using the method.例文帳に追加

耐擦傷性及び表面硬度等の機械的な物性や耐候性、保存安定性等の各種の性能条件を満足させることのできるハードコート用樹脂組成物の製造方法、及び該方法を用いて得られるハードコート樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ink jet recording method exhibiting excellent stability (e.g. scratch resistance) after clogging, blurring and printing of an ink head and performing high resolution printing while controlling the dot diameter, and an ink jet recording method for printing stably on any recording material with high resolution.例文帳に追加

インクヘッドの目詰まり、滲み、印刷後の安定性（耐擦性等）に優れ、かつ、ドット径のコントロールされた高精細印字が可能なインクジェット記録方法、及びあらゆる記録材料に安定して高精細な画像を印字できるインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing a secondary battery, keeping high productivity compared with a conventional laminating method wherein a separator is folded up, preventing the separator from being damaged by excessive scratch at the time when handling the battery, and having no accident such as short-circuit.例文帳に追加

従来のセパレータが折り畳まれる積層方式に比べて生産性が高く、また、電池の取り扱い時における擦過等によるセパレータの破損が防げ短絡等の事故のない２次電池の製造方法及び製造装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a self-repairing resin body applicable to a product in which transparency and scratch resistance are required, a self-repairing structure having the same, a method for producing a self-repairing resin body, and a material for forming a self-repairing resin body used for the method.例文帳に追加

透明性及び耐擦り傷性が要求される製品に適用できる自己修復性樹脂体、これを有する自己修復性構造体、自己修復性樹脂体の製造方法及びこれに用いられる自己修復性樹脂体形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition curable on being irradiated with active radiation, good in jet stability, and giving cured printed images of sufficient scratch resistance, to provide an ink-jet printing method using the ink composition, and to provide a lithographic printing block using the above ink composition, and to provide a method for producing such a lithographic printing block.例文帳に追加

活性放射線の照射に対して硬化が可能であり、吐出安定性に優れ、インクが硬化して得られる画像が十分な耐擦り性を有するインク組成物及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a supply method for a pipe from LWC or a supply method for a pipe from LWC packing body for preventing the occurrence of bending, deformation, dent, and scratch of the pipe and unwinding it at high speed even if it is uncoiled by an ETS system.例文帳に追加

ＥＴＳ方式によりアンコイルしても、管の折れ、変形、窪み及び擦り疵が発生させず、またより高速で巻解きすることができるＬＷＣからの管の供給方法又はＬＷＣ梱包体からの管の供給方法を提供する。 - 特許庁

To provide abrasive grains for polishing which suppress causing of scratch in a copper wiring and insulating film on a polishing surface and prevent the generation of faulty wiring such as short-circuit between wirings or the like, and to provide a forming method therefor.例文帳に追加

研磨表面の銅配線及び絶縁膜にスクラッチが入ることを抑制し、配線間ショート等の配線不良の発生を防止する研磨砥粒及びその形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a curable resin composition providing a cured film having excellent scratch resistance and chemical resistance and a long pot life, a cured film obtained by curing the same and an antireflection film and to provide a method for producing a cured film.例文帳に追加

耐擦傷性及び耐薬品性に優れた硬化膜を与え、かつ、ポットライフが長い硬化性樹脂組成物、それを硬化させて得られる硬化膜、反射防止膜及び硬化膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light transmissive protective film with a pressure sensitive adhesive for an optical recording medium having excellent scratch resistance, weather resistance, low double refractive index and the like and useful as an optical film and to provide the optical recording medium and its manufacturing method.例文帳に追加

耐擦傷性、耐候性、低複屈折率等に優れた、光学フイルムとして有用な光学記録媒体用の感圧接着剤付き光透過性保護膜、光学記録媒体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the scratch testing method, an acceleration sensor for preventing sensitivity from degrading is used for detecting variations in a load even when a signal generated in the breakdown of the thin film has a high frequency.例文帳に追加

薄膜が破壊する時に発生する信号が高い周波数を持つ場合にも感度が落ちにくい加速度センサを荷重変動の検出に使用することによって課題を解決して発明を完成するに至った。 - 特許庁

To provide an aqueous ink for inkjet being capable of recording images excellent in scratch resistance and uniformity, and being excellent in storage stability and continuous discharge stability; and to provide an inkjet recording method and an ink cartridge using the same.例文帳に追加

耐擦過性及び均一性に優れた画像を記録可能な、保存安定性及び連続吐出安定性に優れたインクジェット用水性インク、該インクを用いたインクジェット記録方法及びインクカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing material for an insulation film layer of a semiconductor capable of improving a polishing speed in the abrasion of an insulation film layer of a semiconductor by CMP method, at the same time, capable of reducing scratch and dust, and having excellent quality.例文帳に追加

ＣＭＰ法による半導体の絶縁膜層の研磨にあたり、研磨速度の向上が図れ、同時にスクラッチ及びダストを低減できる、品質の優れた、半導体の絶縁膜層用研磨剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a remover for a foreign matter of a film surface, which can sufficiently remove dust from the film surface, and produces no scratch on the film surface at the side contacting with a suction roll, and a method of manufacturing a film.例文帳に追加

フィルム表面のゴミを十分に除去することができ、且つ、サクションロールと接触する側のフィルム表面に傷が付かないフィルム表面の異物除去装置及びフィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink jet image recording method, by which a layer having stability with time and being excellent in scratch resistance is formed on the surface of ink jet media and, in addition, excellent ozone gas resistance, ink absorbency and lustrous properties are obtained.例文帳に追加

インクジェットメディア表面に高い経時安定性を有する耐擦過性に優れた層を形成させ、さらには、オゾンガス耐性、インク吸収性、光沢性に優れたインクジェット画像記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for fine uneven pattern formation that is used in an imprint method, has superior preservation stability before being used, and is for forming a hard coat layer with high scratch resistance.例文帳に追加

インプリント法において使用する微細凹凸パターン形成用シートであって、使用前には保存安定性に優れ、かつ、耐擦傷性が高いハードコート層を形成するための微細凹凸パターン形成用シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflection member, by which an antireflection layer having scratch resistance, wear resistance and low reflectance and being uniform within the plane can be formed on a support substrate in the minimum number of coating processes.例文帳に追加

支持基材上に可能な限り少ない塗工回数で、耐擦傷性、耐摩耗性、低反射率を有し、面内に均一な反射防止層が形成可能な反射防止部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive and a polishing method of a substrate using the abrasive that can easily reduce polishing scratch after polishing of a silicon oxide film etc., with respect to CMP technique for flattening an interlayer insulating film, a BPSG film, and an STI film.例文帳に追加

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、ＳＴＩ膜を平坦化するＣＭＰ技術において、酸化珪素膜等の研磨後の研磨傷低減を容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonaqueous inkjet printing ink and a method for inkjet-recording, which are excellent in the operation safety and in the drying characteristics after the recording, and has no problem about the odor and has a satisfactory scratch resistance and gives a uniform image.例文帳に追加

作業安全性に優れ、臭気の問題がなく、記録後の乾燥性に優れ、十分な耐擦過性を有し、かつ均一な画像を与える非水系インクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which the occurrence of scratch by CMP (Chemical Mechanical Polishing) in an interlayer insulating film, is prevented and deterioration in film thickness uniformity of the interlayer insulating film is also prevented.例文帳に追加

層間絶縁膜にＣＭＰによるスクラッチが発生することを防止することや層間絶縁膜の膜厚均一性の悪化を防止することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a composite particle enabling processing with high uniformity by extremely reducing scratch, flaw or undulation, and also enabling high-speed processing, and to provide a method for producing the composite particle and a polishing liquid containing the composite particles.例文帳に追加

スクラッチや傷、うねりを大幅に低減して均一性の高い加工を可能とすると共に、高速加工を可能とする複合粒子およびその製造方法、ならびに複合粒子を含む研磨液を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing solution with which a polyimide film on a semiconductor substrate is polished fast while damage such as a scratch is suppressed to achieve high flatness after the polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加

半導体基板上のポリイミド膜を、スクラッチなどの傷の発生を抑制しつつ、高速で研磨することができ、研磨後の高い平坦性を達成しうる研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which has crack and wear resistances in long-term use and shows excellent cleanability, scratch resistance and image stability, an image forming apparatus, a process cartridge and an image forming method.例文帳に追加

長期的使用における耐クラック性、耐摩耗性、優れたクリーニング性、耐傷性、画像安定性に優れた電子写真感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad capable of making compatible both the improvement of the flatness of a surface to be polished and the reduction of a polishing defect (scratch) in CMP, and a chemical mechanical polishing method using the pad.例文帳に追加

ＣＭＰにおける被研磨面の平坦性の向上と研磨欠陥（スクラッチ）の低減とを両立させることができる化学機械研磨パッド、および該化学機械研磨パッドを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁