「scratch method」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a material excellent in scratch resistance for a lithographic printing plate of a process-less type capable of obtaining a lithographic printing plate not through a development process in particular, and a printing method using the same.例文帳に追加

耐傷性に優れる平版印刷版材料およびそれを用いた印刷方法を提供することにあり、特に現像処理工程を経ることなく平版印刷版が得られるプロセスレスタイプの平版印刷版材料であって、耐傷性に優れた平版印刷版材料およびそれを用いた印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hard coat composition capable of providing a reflection- preventing film having good adhesion between a hard coat layer and a reflection-preventing layer, particularly suitable for flat panel displays (liquid crystal display, plasma display, EL display, etc.), and CRT displays and excellent in scratch resistance and endurance, and reflection-preventing film and to provide a method for producing the film.例文帳に追加

ハードコート層と反射防止層との密着性が良好で、特にフラットパネルディスプレイ（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）、ＣＲＴディスプレイに適した、耐擦傷性、耐久性に優れた反射防止フィルムを得ることができるハードコート組成物、反射防止フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide nonaqueous inkjet printing ink having printability on polyvinyl chloride (scratch resistance and resistance against wiping with alcohol), excellent ejection stability and storage stability, usable without a problem of odor, and excellent quick-drying property for a higher printing speed of a printer, and to provide an inkjet recording method using the ink.例文帳に追加

ポリ塩化ビニルに対する印字適性（耐擦過性、アルコール拭き取り耐性）を有し出射安定性、保存安定性に優れ、臭気の問題が無く使用できるとともに、プリンタのプリント速度高速化のための速乾性にもすぐれた非水系インクジェットインクとそれを用いたインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and realizing formation of an accurate pattern free from variation in line width, a chip and disconnection, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線のない正確なパターン形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a nonaqueous inkjet ink set having printing suitability (scratch resistance, resistance to wiping with an alcohol) for a plastic-made recording medium such as polyvinyl chloride, excellent in discharge stability and safety, free of the problem of odor and exhibiting uniform glossiness irrespective of printing densities, and to provide an inkjet recording method using it.例文帳に追加

ポリ塩化ビニルなどのプラスチック製の記録媒体に対する印字適性（耐擦過性、アルコール拭き取り耐性）を有し、出射安定性、安全性に優れ、臭気の問題が無く、さらに印字濃度にかかわらず一様な光沢感を発現さる非水系インクジェットインクセットとそれを用いたインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad intended to improve properties of sticking to especially a polishing machine, and polishing device and method using the same, and to provide a polishing pad capable of reducing adhesive property of dust to a surface of an object to be polished, reducing scratch flaw, and simultaneously having plananizating property, and polishing device and method using the same.例文帳に追加

特に研磨機への貼りつけ性を改善することを目指した研磨用パッドおよびそれを用いた研磨装置ならびに研磨方法を提供することを課題とし、また、被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させることが可能な研磨用パッドおよびそれを用いた研磨装置ならびに研磨方法を提供することもその課題とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflection film capable of improving manufacturing efficiency by forming a multilayer structure with two or more layers in one application process; to provide an antireflection film that is obtained by the manufacturing method and excellent in reflectance, adhesion, scratch resistance, and improvement of planar failure; and to provide a coating composition used in forming the multilayer structure.例文帳に追加

本発明は、１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することにより製造効率を向上させることができる反射防止フィルムの製造方法、該製造方法により得られる反射率、密着性、耐擦傷性、面状故障の改良の観点で優れた反射防止フィルム、並びに前記多層構造を形成するために用いられる塗布組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a composition for forming a film which can efficiently form a cured film excellent in all of low refraction properties to various substrates such as glass, ceramics, metals, plastics and the like, heat resistance, solvent resistance, flatness, transparency, scratch resistance, adhesion and weather resistance, and is excellent in preservation stability, and to provide a film-forming method using the same.例文帳に追加

ガラス、セラミックス、金属およびプラスチックなど各種基材に対する低屈折性、耐熱性、耐溶剤性、平坦性、透明性、耐擦過傷性、密着性及び耐候性の全てについて良好な硬化被膜を効率的に形成することができ、しかも保存安定性に優れた被膜形成用組成物及びそれを用いた皮膜形成方法を提供すること - 特許庁

To provide a method for repairing any defective machining easily and reliably by specifying an accurate position, a size, a shape, etc., of a foreign matter adhered on a glass substrate, a glass scratch, an air bubble in the glass substrate, etc. which cause the defective machining in a laser scribing process of a thin film solar cell.例文帳に追加

この発明は、薄膜太陽電池のレーザスクライビング加工工程における加工不良を引き起こした要因であるガラス基板への付着異物、ガラスキズ、ガラス基板内部気泡等に対して、正確な位置・大きさ・形状等を特定し、どのような加工不良も容易にかつ確実にリペアできる方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable composition affording a material having excellent transparency, heat resistance, scratch resistance and flexibility, to provide a cured product and a laminate using the composition, and to provide a method for producing the cured product by which a volatilizing treatment of a solvent is not necessary and an environmental load can be reduced because a solvent is not essential during curing.例文帳に追加

透明性、耐熱性、耐擦傷性及び柔軟性に優れた材料を提供可能な活性エネルギー線硬化性組成物や、これを用いた硬化物や積層体を提供し、硬化時に溶媒を必須としないことから、溶媒の揮発処理を不要とし、環境負荷を低減することができる硬化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the capacitor characteristics by preventing scratch of a lower electrode due to CMP, and ensuring uniformity of the thickness of a capacity insulating film in the memory cell array and in the lower electrode, in the manufacturing method of a semiconductor memory device in which the capacity insulating film of ferroelectric, or the like, is formed as a component of a capacitor by application of a liquid material.例文帳に追加

半導体記憶装置のキャパシタの構成要素として、強誘電体等の容量絶縁膜を液状材料の塗布により形成する製造方法において、ＣＭＰによる下部電極へのスクラッチ防止と、容量絶縁膜膜厚のメモリセルアレイ内、下部電極内での均一性を実現し、キャパシタ特性を向上させる。 - 特許庁

To provide the chemical-mechanical polishing method of a semiconductor substrate capable of drastically reducing the generation of a scratch and peeling in a periphery even in the case of a low dielectric insulating film whose mechanical strength is small, and being excellent in the polish rate of a metal film of a wiring material, and to provide an aqueous dispersion for chemical-mechanical polishing used therefor.例文帳に追加

機械的強度が小さい低誘電絶縁膜であっても、スクラッチの発生や外周部における剥がれを大幅に低減可能であり、かつ配線材料たる金属膜の研磨速度に優れた半導体基板の化学機械研磨方法およびそのために用いられる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

To provide a new oxetane compound having excellent stability, an actinic energy ray curable composition having good ink stability and ink ejection stability, giving a recorded image having excellent curability, scratch resistance and adhesiveness and produced by using the new oxetane compound and provide an ink composition for ink-jet recording and an ink-jet recording method.例文帳に追加

本発明の目的は、安定性に優れた新規のオキセタン化合物、及び新規オキセタン化合物を用いて、インク安定性、インク吐出安定性が良好で、かつ形成した画像の硬化性、耐擦過性及び接着性に優れた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及びインクジェット記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of preparing chemical mechanical polishing aqueous dispersion capable of preventing a surface defect such as dishing, erosion, scratch or fang in a planarization process of a polishing object surface by chemical mechanical polishing, and to provide a chemical mechanical polishing aqueous dispersion preparing set excelling in long-term preservation stability, even in a condensed state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥を抑制することができる化学機械研磨用水系分散体の調製方法、および濃縮状態においても長期保存安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体調製用セットを提供することにある。 - 特許庁

To provide an ink composition which combines the excellent storage stability, the excellent curing rate by the irradiation with an active radiation, the high quality of the image after cure, the excellent flexibility and scratch resistance, the high adhesion to a medium to be recorded and the stable inkjet dischargeabilty; and a method for inkjet recording using this ink composition.例文帳に追加

保存安定性が良好でありながら、活性放射線の照射に対する硬化速度に優れ、硬化後の画像が高画質で、優れた柔軟性、耐擦過性を有し、被記録媒体への高い密着性を示し、かつ安定したインクジェット吐出性を兼ね備えたインク組成物、及び、前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of producing a silicon carbide nanoparticle dispersion in which dispersibility and dispersion stability are improved by suppressing the agglomeration of silicon carbide particles with each other, the silicon carbide nanparticle dispersion and a silicon carbide nano-particle film excellent in wear resistance, scratch resistance, heat resistance and hardness.例文帳に追加

炭化ケイ素ナノ粒子同士の凝集を抑制することにより分散性及び分散安定性を向上させることが可能な炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法及び炭化ケイ素ナノ粒子分散液、この炭化ケイ素ナノ粒子分散液を用いて得られる耐摩耗性、耐擦傷性、耐熱性、硬質性に優れた炭化ケイ素ナノ粒子膜を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative material for a floor material and its manufacturing method excellent in surface physical properties such as scratch resistance, abrasion resistance, water resistance, and pollution resistance, particularly excellent in water resistance and having no problem such as discoloration at portions applied with groove machining, and eliminating the troublesomeness of the selective coating work requiring some time and labor at the groove machining portions.例文帳に追加

耐擦傷性、耐磨耗性、耐水性、耐汚染性等の表面物性に優れることはもとより、特に溝加工を施した部位が耐水性に優れると共に色落ち等の問題の生じることがなく、かつ、結構手間の掛かる溝加工部位の選択的塗布作業の煩雑さをなくした床材用化粧材及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

The surface on which no scratch even microscopically exists is obtained by a first surface treatment for making the stainless steel surface ≥0.1 μm but ≤1.0 μm ruggedness in a region of 250 μm length and width by a specific mechanical polishing method and then a second surface treatment for performing electrolytic polishing by using a specific electropolishing liquid.例文帳に追加

ステンレス表面を特定の機械的研磨方法で縦、横２５０μｍの範囲で０．１μｍ以上、１．０μｍ以下とする第１次表面処理の後、第２次表面処理として特定の電解研磨液を用いた電解研磨を施すことによって微視的にも傷が存在しない表面を得ることにより問題を解決する。 - 特許庁

To provide a method for reforming the surface quality of a copper wire or a copper alloy wire for manufacturing an ultrafine wire with a diameter of 20 μm or less, which does not form surface defects such as a scratch, a crack and a stamp of a copper powder on the surface of a wire, and does not cause the breaking of the wire when drawing the wire into the ultrafine wire.例文帳に追加

極細線製造用の銅線或いは銅合金線であって、線材表面に傷、ひび割れ、銅粉のスタンプ等の表面欠陥がなく、極細線の伸線加工時に断線等が生じることがない、２０μｍ以下の極細線を製造するための銅線或いは銅合金線の表面性状改質方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin-composited grinding cleanser which can be satisfactorily pelletized in high yields, can exhibit an excellent deterging effect and does not scratch the surface of an object to be cleaned when used in blasting, deburring, coating film removal, etc., and has a high frequency of repeated use and a long lifetime.例文帳に追加

良好にペレットを作製することができて収率も高く、更にはブラスト洗浄、バリ取り、塗膜剥離等の使用に際しても優れた洗浄効果を有するとともに被洗浄物の表面を疵付けることなく、かつ繰り返し使用頻度が高く寿命の長い樹脂複合研掃材の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an optical film with reduced unevenness of drying and blowing and having high surface uniformity, to provide an antireflection film having both sufficient antireflection performance and scratch resistance, to provide a fast coating method to obtain the above antireflection film with high productivity, and to provide a polarizing plate and an image display device using the above antireflection film.例文帳に追加

乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い光学フィルム、十分な反射防止性能と耐擦傷性能を両立した反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを高い生産性で得ることのできる高速塗布製造方法、そしてそのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical member by injecting a raw material in a casting mold to polymerize the same, a first hard coat layer having scratch resistance is formed on the inner wall of the casting mold and a second hard coat layer having impact resistance is further formed on the first hard coat layer and a raw material is subsequently injected in the casting mold to be polymerized.例文帳に追加

鋳型を用いて原料を注入し重合させることにより光学部材を製造する方法において、鋳型の内壁に耐擦傷性を有する第１ハードコート層を形成し、さらに第１ハードコート層の上に耐衝撃性を有する第２ハードコート層を形成したあと、鋳型内に原料を注入し重合させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, ensuring small variation in line width, providing a high-definition pattern, and excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、線幅のバラツキが小さく、高精細なパターンが得られ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a barrier metal film and TEOS film, and suppress generation of surface defects such as dishing, erosion, scratch, and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、バリアメタル膜およびＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating material composition which is environment friendly and exhibits excellent defoaming property, to provide a method for manufacturing an antireflection film having excellent antireflection property, which is excellent in productivity, and to provide an image display device having excellent scratch resistance and antireflection property.例文帳に追加

生産性に優れた反射防止フィルムの製造方法であり、煩雑な工程を行わずに環境にやさしく、優れた消泡性を示す塗料組成物、さらに優れた反射防止性を有する反射防止フィルムの製造方法および画像表示装置を提供することにあり、優れた耐擦傷性、更には反射防止性を有する画像表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a TEOS film, and suppress generation of surface defects such as dishing, erosion, scratch, and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、ＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a barrier metal film and TEOS film, and suppress occurrence of surface defects such as dishing, erosion, scratch and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、バリアメタル膜およびＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a level wound coil and a package thereof which cause none of bending, deformation, and scratch of a tube during uncoiling by ETS method, and which achieve a smooth unwinding and cause no discoloration even when the mass of LWC is large, a plurality of LWCs are stacked one upon another, and the number of winding layers of LWC and the number of windings per layer are large.例文帳に追加

ＬＷＣの質量が大きい場合、ＬＷＣが複数積み重ねられている場合、並びにＬＷＣの巻き層数及び１層あたりの巻き数が多い場合においても、ＥＴＳ方式によるアンコイルの際に管の折れ、変形及び擦り疵が発生せず、引っ掛かりなく巻き解くことができ、更に、あんこ変色が発生しないレベルワウンドコイル、レベルワウンドコイルの梱包体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive lithographic printing plate original plate for an infrared laser that is superior in the balance of developability and scratch resistance, and to provide a method for making a lithographic printing plate using the original plate, in which proper development is performed with an alkaline developer, without having to use an organic solvent which presents hazards to human bodies and environment, and with which superior images can be formed.例文帳に追加

現像性、耐傷性のバランスに優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版、及び、それを用いた、人体や環境に対して影響が懸念される有機溶剤を使用することなく、アルカリ現像液により良好な現像が行われ、優れた画像を形成しうる赤外線レーザ用感光性平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide the high-speed mirror surface polishing method of a silicon wafer for improving a mirror surface polishing speed extremely, improving throughput by obtaining a mirror surface quickly with less processes, preventing damage such as scratch marks and a machining deterioration layer to a wafer, and preventing waste liquid problems and the damage to a polishing device and tools.例文帳に追加

鏡面研磨速度が著しく向上し、少ない工程数で短時間に鏡面が得られることによりスループットが向上し、ウエハにスクラッチ傷や加工変質層等のダメージを与えることがなく、しかも廃液処理問題や研磨装置および治具が損傷する不具合も生じることがないシリコンウエハの高速鏡面研磨方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and its method where a scratch, having various shapes occurring on the surface of a processed object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) and an adhering foreign substance are discriminated and inspected, when the processed object is polished or ground through CMP or the like, in the manufacturing of semiconductors or of magnetic heads.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした表面検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a recording method, which gives a highly glossy and high quality ink jet print being excellent in high speed recordability, having high weatherability and excellent storage stability and scratch resistance, dye ink gives uniform lustrous feeling and excellent print weatherability and storage stability irrespective of an image density and pigment ink gives uniform lustrous feeling and excellent print storage stability irrespective of the image density.例文帳に追加

高速記録適性に優れ、高い耐候性を有し、優れた保存安定性と耐擦過性を有する、高光沢・高品位のインクジェットプリントを与え、染料インクは画像濃度によらず均一な光沢感と優れたプリント耐候性と保存安定性を、顔料インクは画像濃度によらず均一な光沢感と優れたプリント保存安定性を与える記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection device and its method capable of discriminating a scratch having a various shape generated on the surface from adhering foreign matter and inspecting it, when polishing or grinding such as CMP or the like is performed onto a machining object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) in semiconductor production or magnetic head production.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした表面検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon carbide nanoparticle dispersion capable of improving the dispersibility and the dispersion stability by controlling the aggregation of the silicon carbide nanoparticles and the silicon carbide nanoparticle dispersion, and the silicon carbide nanoparticle film excellent in wear resistance, scratch resistance, heat resistance and hardness which is obtained by using this silicon carbide nanoparticle dispersion.例文帳に追加

炭化ケイ素ナノ粒子同士の凝集を抑制することにより分散性及び分散安定性を向上させることが可能な炭化ケイ素ナノ粒子分散液の製造方法及び炭化ケイ素ナノ粒子分散液、この炭化ケイ素ナノ粒子分散液を用いて得られる耐摩耗性、耐擦傷性、耐熱性、硬質性に優れた炭化ケイ素ナノ粒子膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive lithographic printing plate suitable for exposure with laser light whose emission wavelength is within a range of 350-450 nm, having good safe light properties, excellent in printing durability, linearity and printing performance, and excellent also in scratch preventiveness after development, and to provide a photosensitive composition giving the photosensitive lithographic printing plate, and a recording method for the photosensitive lithographic printing plate.例文帳に追加

本発明の目的は、発光波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲にあるレーザー光での露光に適し、良好なセーフライト性を有すると共に、耐刷性、リニアリティ及び印刷性能に優れ、現像処理後のスリキズ防止性に優れる感光性平版印刷版及びこの感光性平版印刷版を与える感光性組成物、ならびに感光性平版印刷版の記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing pad and an apparatus and method for polishing capable of speedily eliminating global steps by selectively polishing protrusion of concavity and convexity on the surface of semiconductor wafer in planarization of semiconductor wafer with CPM and obtaining a high quality semiconductor wafer with less concavity such as dishing or thinning and scratch mark or residual dust in the polishing of metal wiring or STI.例文帳に追加

ＣＭＰによる半導体基板の平坦化において、半導体基板表面の凹凸の凸部を選択的に研磨することでグローバル段差が速く解消でき、また、金属配線やＳＴＩにおける研磨においてもディッシングやシンニングなどの凹み量が少なく、かつスクラッチ傷や残存ダストが少ない高品位な半導体基板を得ることが可能な研磨パッドおよび研磨装置および研磨方法を提供するものである。 - 特許庁