「scratch method」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain water pigment dispersion for producing water-based ink for ink-jet recording, which is printed in high quality on plain paper and has excellent water resistance, scratch resistance and marker resistance and to provide a method for producing the water pigment dispersion.例文帳に追加

普通紙上に高品位な印刷ができ、耐水性、耐擦過性及び、耐マーカー性に優れたインクジェット記録用水性インクを作製することができる水性顔料分散体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By using the method, monomers such as 4-hydroxybutyl (meth)acrylate or the like are easily obtained form unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid or the like as the carboxylic acid, wherein the monomers are usable as raw materials of resins with excellent weather resistance, scratch resistance.例文帳に追加

該方法によれば、カルボン酸としてアクリル酸などの不飽和カルボン酸から、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどの耐候性、耐擦傷性に優れる樹脂原料となるモノマーを簡便に製造することができる。 - 特許庁

To provide a scratch machining method and machining device, forming a groove pattern at a level of several nm on the surface of a work, and performing polishing in a comparatively short time to be advantageous in cost.例文帳に追加

加工対象の表面に数ｎｍレベルの溝パターンを形成することができ、研磨加工を比較的に短時間で行えてコスト面に有利性があるスクラッチ加工方法およびその加工装置を提供すること - 特許庁

To provide a method and a device for mounting a substrate to a dicing frame which is capable of mounting the substrate to the dicing frame with excellent adhesion without leaving scratch marks on a pattern and without generating wrinkles and air bubbles on the surface material even if the substrate is thin or its surface is large in unevenness.例文帳に追加

薄厚基板や凹凸の大きい基板であってもパターンを傷付けること無く、さらに密着性良く、しわや気泡を発生させないでダイシングフレームにマウントする方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of depositing a thin film exerting no influence on a base material, excellent in water repellency, oil repellency and wiping properties of oily ink and having satisfactory scratch resistance, and to provide a thin film-deposited body.例文帳に追加

本発明の目的は、基材への影響が無く、優れた撥水性、撥油性、油性インクの拭き取り性を有し、かつ耐擦過性が良好な薄膜形成方法と薄膜形成体を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition capable of providing a small surface roughness of a polished object and remarkably reducing nanoscratch, and a manufacturing method of a substrate having a small surface roughness and a remarkable reduction of the nano scratch.例文帳に追加

研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、且つナノスクラッチを顕著に低減できる研磨液組成物、及び表面粗さが小さく、且つナノスクラッチが顕著に低減した基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide ink for inkjet which can be used for printing on various recording media and is excellent in strike-through resistance, image scratch resistance, paper feed adaptability, and outgoing properties; and an inkjet recording method using the same.例文帳に追加

本発明の目的は、様々な記録媒体に印字が可能で、裏抜け耐性、画像擦過耐性、給紙適合性、出射性に優れたインクジェット用インク及びそれを用いたインクジェット記録方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electro-optical device which can positively prevent a heater stage from forming an unexpected scratch on a substrate when the substrate placed on the heater stage is heated up to a processing temperature.例文帳に追加

ヒータステージに載置された基板を処理温度まで加熱する際、ヒータステージから基板に意図せず傷が形成されてしまうことを確実に防止することができる電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated plate which is excellent in scratch resistance, optical characteristics, surface hardness and mechanical strength and is excellent in shock resistance, too, to provide a method of manufacturing the laminated plate and to provide a front plate for a display device comprising the laminated plate.例文帳に追加

耐傷付き性、光学特性、表面硬度性、機械的強度に優れ、かつ耐衝撃性にも優れた積層板、その積層板の製造方法、その積層板からなる表示装置用前面板を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition facilitating formation of an image whose film strength on the surface is strong, which has excellent scratch resistance and which has suppressed tackiness of the surface, and to provide an inkjet recording method and a printed material using the above ink composition.例文帳に追加

表面の膜強度が強く、耐擦過性に優れ、表面のべとつきが抑制された画像を形成しうるインク組成物、および該インク組成物を用いたインクジェット記録方法、及び印刷物を提供する。 - 特許庁

To provide a test method and a test device for allowing endurance including scratch resistance to be appropriately and simply evaluated in the state that is close to a real use even when an optical product is coated.例文帳に追加

コーティングされた光学製品であっても、実際の使用に即した状態で、耐擦傷性能を含む耐久性について適切且つ簡易に評価をすることが可能となる試験方法ないし試験装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photolike electrophotographic image receiving material capable of obtaining print having gloss uniformity, smoothness and a high image density, and having excellent image quality such as scratch resistance and scuff resistance after printing, and to provide an electrophotographic recording method.例文帳に追加

フォトライクな光沢均一性、平滑感、高い画像濃度を有し、プリント後の耐傷性や耐擦性といった画像品質に優れたプリントが得られる電子写真受像材料及び電子写真記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of color filter with which a filter pattern can be directly transferred on a transparent substrate and the transferred filter pattern is excellent in preservable property, solvent resistance and scratch resistance.例文帳に追加

透明基板上に直接フィルターパターンを転写することが可能であり、転写されたフィルターパターンが保存性、耐溶剤性および耐擦過性に優れるカラーフィルターの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a light transmissive protective film with a pressure sensitive adhesive for an optical recording medium having excellent scratch resistance, weather resistance, a low double refractive index and the like and useful as an optical film and to provide the optical recording medium.例文帳に追加

耐擦傷性、耐候性、低複屈折率等に優れた、光学フイルムとして有用な光学記録媒体用の感圧接着剤付き光透過性保護膜の製造方法及び光学記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a rewinding guide which can realize an accurate rewinding, improve linearity of the bonding wire, and lengthen the life of a guide until a scratch failure is generated on the wire, and a rewinding method using the same.例文帳に追加

精密な巻取り形態を実現し、かつ、ワイヤの直進性を高め、ワイヤにキズ不良が発生する迄のガイドの寿命が長くした半導体素子用ボンディングワイヤの巻取りガイド及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a conveying method and equipment for conveying a coil in a state of a horizontal hole while forcedly executing blast cooling in order to prevent the generation of scratch and defect in shape about the coil whose strength is low at high temperature.例文帳に追加

高温時、強度が低いコイルについては、擦れ傷および形状不良の発生を防止するために、コイルを強制的に衝風冷却しながら横穴状態で搬送する搬送方法とその設備を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing efficiently a silica aerogel film having a low refractive index and excellent scratch resistance, an anti-reflection coating formed by such silica aerogel, and an optical element having such anti-reflection coating.例文帳に追加

低屈折率及び優れた耐擦傷性を有するシリカエアロゲル膜を効率良く製造する方法、かかるシリカエアロゲル膜からなる反射防止膜、及びかかる反射防止膜を有する光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide a material to be recorded by ink jet having excellent lamination strength and resistivity to scratch, and to provide a recorded product having an excellent quality level of a recorded image particularly when the material is recorded by ink jet by using a pigment ink, and a method for using the recorded product.例文帳に追加

ラミ強度及び擦過性に優れたインクジェット用被記録材、特に顔料インクを用いてインクジェット記録した場合に、記録像の品位に優れる記録物、及び該記録物の使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing device, and a polishing method capable of highly accurately polishing a floating surface of a magnetic head by reducing a machining level difference, and restraining the occurrence of a scratch in a low bar state of continuing a plurality of magnetic head sliders.例文帳に追加

複数の磁気ヘッドスライダが連なったローバーの状態で、磁気ヘッドの浮上面を加工段差が小さく、スクラッチの発生を抑制し、かつ高精度に研磨可能な研磨装置及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film having a low refractive index layer having superior surface hardness without inducing polymerization inhibition by oxygen and having both excellent scratch resistance and productivity, and to provide a method for manufacturing the film.例文帳に追加

酸素による重合阻害を生ずることなく、優れた表面硬度を有する低屈折率層を有し、優れた耐擦傷性と生産性を兼ね備えた反射防止フィルムおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a high-performance abrasive agent for an insulation film layer for semiconductors permitting improvement in an abrasion speed and concurrent reduction in scratch and dust on abrading an insulation film layer for semiconductors by the CMP method.例文帳に追加

ＣＭＰ法による半導体の絶縁膜層の研磨にあたり、研磨速度の向上が図れ、同時にスクラッチ及びダストを低減できる高性能な半導体の絶縁膜層用研磨剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for simply and productively manufacturing an electrolytic polishing pad which has an excellent flattening characteristic, can restrain generation of a scratch, has high polishing speed and is hardly exfoliated between a polishing layer and a negative electrode layer.例文帳に追加

平坦化特性に優れ、スクラッチの発生を抑制でき、研磨速度が大きく、かつ研磨層と陰極層との間で剥離しにくい電解研磨パッドを簡便かつ生産性よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide inkjet recording ink giving high image density and excellent also in discharge stability, liquid stability and scratch resistance, and an ink cartridge, an inkjet recording apparatus, an image forming method and an imaged product using the same.例文帳に追加

画像濃度が高く、吐出安定性や液安定性、耐擦過性にも優れたインクジェット記録用インク、これを用いたインクカートリッジ、インクジェット記録装置、画像形成方法及び画像形成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming an antireflective film comprising at least a silica aerogel film having a low refractive index and excellent scratch resistance in a relatively short time, and to provide an optical element comprising such an antireflective film.例文帳に追加

低屈折率及び優れた耐擦傷性を有するシリカエアロゲル膜を少なくとも有する反射防止膜を比較的短い時間で形成する方法、かかる反射防止膜を具備する光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide a scratch sheet having novel constitution employing a method incapable of discriminating the data applied to the surface of a sheet to be concealed from the surface thereof though a transparent film used in a coating layer removable by scratching.例文帳に追加

スクラッチ除去可能な被覆層に透明フィルムを用いるものの、隠蔽すべきシート面に施された情報をその表面からは判別できないような方法を採用した新規構成のスクラッチシートの提供。 - 特許庁

To provide a CMP device, polishing method for CMP, a semiconductor device, and its manufacturing method which are capable of suppressing the generation of dust or polishing scratch generated on a wafer due to the drying of a polishing pad or slurry under storage, in the CMP device having automatic exchanging function of the polishing pad.例文帳に追加

研磨パッドの自動交換機能を有するＣＭＰ装置において、保管中の研磨パッドやスラリーが乾燥することによる発塵やウエハに発生する研磨傷を抑制することのできるＣＭＰ装置、ＣＭＰ研磨方法、半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate for magnetic disk and a manufacturing method of a magnetic disk by which the occurrence of scratch can be reduced by eliminating efficiently grinding scrap in grinding slurry, grinding pad scrap, or glass scrap, when a glass substrate is ground by grinding slurry including grinding grain.例文帳に追加

ガラス基板を砥粒を含む研磨スラリーで研磨する場合に、研磨スラリー中の研磨くず、研磨パッドくずもしくはガラスくずを効率的に除去することにより傷の発生を低減しうる磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供するものである。 - 特許庁

To provide a curable composition which is excellent in discharge stability of ink, ductility, blocking sensitivity, and scratch resistance and can be cured with high sensitivity by irradiating with radiation, and to provide an ink composition, an inkjet recording method using the ink composition, and a method for preparing the curable composition.例文帳に追加

インクの吐出安定性、延伸性に優れるとともに、ブロッキング感度、擦過性に優れ、放射線の照射により高感度で硬化可能な硬化性組成物、インク組成物、及びそれを用いたインクジェット記録方法、ならびに硬化性組成物の調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of a cold-rolling metal strip by which heavy reduction and high-speed rolling are possible and which is made efficient and stable by increasing the critical draft of the generation of seizure (heat scratch) and rolling speed, a method of manufacturing a cold-rolled steel strip and a rolling roll for cold rolling.例文帳に追加

焼き付き（ヒートスクラッチ）の発生限界圧下率・圧延速度を上げて、強圧下・高速圧延の可能で、かつ効率性の良い安定した金属帯の冷間圧延方法、冷延鋼帯の製造方法および冷間圧延用圧延ロールを提供することにある。 - 特許庁

To provide both a method for producing a polyester substrate solving problems such as a scratch, an adhesion of foreign matter, etc., by transportation in the production process and a method for producing a polyester substrate having excellent performances such as transparency, antistaticity, resistance to a developer, etc., to be applied to an APS color film.例文帳に追加

製造工程搬送によるスリキズや異物付着などの問題を改善したポリエステル支持体の製造方法を提供し、ＡＰＳカラーフィルムに適用する透明性、帯電防止性、現像液に対する耐性など優れた諸性能を有するポリエステル支持体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pipe supplying method from a level wound coil (LCW) capable of uncoiling at an unwinding speed of 4.0 m/sec or more without generating a fold, deformation, dint, and scratch even if the uncoiling is conducted on the ETS system and provide a pipe supplying method and unwinding device for the pipe from a package of LWC.例文帳に追加

ＥＴＳ方式によりアンコイルしても、管の折れ、変形、窪み及び擦り疵が発生せず、４．０ｍ／秒以上の巻き解き速度でアンコイルすることができるＬＣＷからの管の供給方法、ＬＷＣの梱包体からの管の供給方法及び管巻き解き装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate for magnetic disk and a manufacturing method of a magnetic disk by which the occurrence of scratch and attachment of metallic foreign matters can be reduced by noticing metallic foreign matters which is not noticed conventionally beyond our expectation and eliminating them.例文帳に追加

本発明は、意外にも従来着目されていなかった金属異物に着目し、これを除去することにより傷の発生および金属異物の付着を低減しうる磁気ディスク用基板の製造方法、ならびに磁気ディスクの製造方法、を提供するものである。 - 特許庁

To provide a recording method suitable for an inkjet recording system, by which an image having high color developing properties can be obtained with favorable fixing properties though this recording method employs a pigment ink, resulting in obtaining an image, in which feathering is suppressed and which is excellent in scratch resistance and resistance to line marker.例文帳に追加

顔料インクを用いる記録方法でありながら、高い発色性の画像を良好な定着性で得ることができ、得られた画像は、フェザリングが抑制された、耐擦過性や耐ラインマーカー性に優れたものである、インクジェット記録方式に好適な記録方法の提供。 - 特許庁

To provide a conveying method for long plastic films and a surface treatment method for long plastic films using it whereby it is practicable to solve such conventional problems as a drop in the quality or the yield due to scratch(es) generated on a guide roll.例文帳に追加

特に長尺プラスチックフィルム表面処理方法において、従来、問題となっていたガイドロール上で入る擦りキズによる品質低下や歩留低下を解決するための長尺プラスチックフィルムの搬送方法を提供し、これを用いた表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for polishing the surface of a glass plate capable of suppressing the expansion of the scratch existing on the surface of glass plate and having a diameter of 40 μm or more to a diameter of 100 μm or more and to provide a glass substrate for the flat panel display polished by the method and the flat panel display using the glass substrate.例文帳に追加

ガラス板表面に存在する直径４０μｍ以上の傷が１００μｍ以上に拡大することを抑制してガラス板表面を研磨する方法、この方法により研磨されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びこのガラス基板を使用したフラットパネルディスプレイの提供。 - 特許庁

To provide an optical recording medium having excellent scratch resistance and antifouling properties of the surface of the optical recording medium on a recording and reproducing laser beam incident side, to provide its manufacturing method, to provide a recording and playback method of the optical recording medium and to provide an optical recording and reproducing apparatus.例文帳に追加

記録及び再生レーザ光線が入射する側の光記録媒体表面の耐擦傷性や防汚性に優れた光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法、並びに、光記録媒体の記録再生方法及び光記録再生装置の提供。 - 特許庁

To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method of a polishing tool for excellently exhibiting a polishing characteristic for various kinds of polishing objects by reducing a defect such as a scratch and sticking of resin caused on a polishing object surface of the polishing objects of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの研磨対象物の被研磨面に発生するスクラッチ等の欠陥および樹脂の付着を低減し、各種の研磨対象物に対してその研磨特性を良好に発揮できる研磨方法、研磨装置、および研磨工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet suitable for being molded into a three- dimensional shape by a vacuum molding method or a vacuum pressure forming method to be bonded to the surface of a base material having a three- dimensional uneven shape and having excellent physical properties such as abrasion resistance, scratch resistance, solvent resistance or the like.例文帳に追加

三次元凹凸形状を有する基材の表面に真空成形法又は真空圧空成形法等により立体形状に成形して貼付するに好適であり、しかも優れた耐磨耗性や耐擦傷性、耐溶剤性等の表面物性を備えた化粧シートを提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material for a CTP style with good inking properties, superior in on-machine developing properties, and superior in printing wear, ground staining resistance during storing for a long period, scuff and stain resistance (scratch resistance) on non-imaging parts, its manufacturing method, and a printing method using the lithographic printing plate material.例文帳に追加

インキ着肉性が良好で機上現像性に優れ、かつ耐刷性、長期保存時の地汚れ耐性、非画像部のキズ汚れ耐性（耐傷性）に優れるＣＴＰ方式用の平版印刷版材料、その製造方法、及びその平版印刷版材料を用いた印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film in which the film strength is high and the scratch resistance and abnormal surface property such as color irregularities of reflection light are improved, to provide a manufacturing method of the antireflection film, and to provide a polarizing plate and a liquid crystal display device using the antireflection film.例文帳に追加

膜強度が高く、耐傷性や表面性異常（反射光の色ムラ）が改善された反射防止フィルムとその製造方法、その反射防止フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a coating liquid, which can improve the scratch resistance of an inkjet recorded image and can stably form a film excellent in blocking resistance irrespective of the type of recording medium, and a recorded matter and an image recording method employing the coating liquid.例文帳に追加

記録媒体の種類によらず、インクジェット記録画像の耐擦性を改善し且つ耐ブロッキング性に優れる被膜を安定して形成することができるコート液並びにこれを用いた記録物及び画像記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing composition with which a polyimide film on a semiconductor substrate is polished at high speed while damage such as a scratch is suppressed and which achieves high flatness after the polishing, and to provide a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加

半導体基板上のポリイミド膜を、スクラッチなどの傷の発生を抑制しつつ、高速で研磨することができ、研磨後の高い平坦性を達成しうる研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an active ray curable ink-jet ink having improved jetting stability and skin sensitization tolerance and excellent curing rate, scratch resistance and luster feeling of formed image and to provide an ink-jet recording method using the same.例文帳に追加

本発明の目的は、出射安定性、皮膚感作耐性が良好で、形成した画像の硬化速度、耐擦過性、光沢感に優れた活性光線硬化型のインクジェットインクとそれを用いたインクジェット記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a curable composition capable of forming a cured film superior in a low refractive index and scratch resistance in one coating process; or to provide a laminate for antireflection, which has the cured film and method for manufacturing the same.例文帳に追加

低屈折率性および耐擦傷性に優れた硬化膜を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an industrially safe method of producing an acrylic syrup that has excellent curing properties, has excellent transparency in which foaming does not occur during curing, has high surface hardness and excellent scratch resistance, is tough, and has excellent design.例文帳に追加

硬化性が良好で、硬化時に発泡せず透明性に優れ、表面硬度が高く耐傷つき性に優れた、強靱で意匠性に優れたアクリルシラップを、工業的に安全な製造方法で製造する方法を提供する。 - 特許庁