「second exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The image exposure unit 5 is fixed in the image forming apparatus 1 by fixing the first supporting pin 71 and fixing a second supporting pin 75 in this order, after a positioning protrusion 68 is inserted in an insertion groove provided on a supporting plate 80.例文帳に追加

画像形成装置１への画像露光装置５の固定は、位置決め突起６８を支持板８０に設けられた挿入溝に挿入した後、第１支持ピン７１を固定し、第２支持ピン７５を固定するという順序で行われる。 - 特許庁

When the insulating part 21 is deteriorated by the exposure to the HF-containing gas to form a pore, electrical continuity is produced between the first and second conductive parts 24 and 25 to be detected by the ammeter 23.例文帳に追加

ＨＦ含有ガスへの曝露によって絶縁部２１が劣化して孔が生じると第一の導電部２４と第二の導電部２５の間に電気的導通が発生し、電流計２３によって検知される。 - 特許庁

A shutter includes a first opening/closing operation for obtaining a still image, by performing opening/closing operation so as to obtain predetermined exposure amount; and a second opening/closing operation for a purpose different from the first opening/closing operation.例文帳に追加

シャッタは所定の露光量が得られるように開閉動作して静止画を得る第１の開閉動作と、第１の開閉動作とは異なる目的の、第２の開閉動作とを有する。 - 特許庁

The distribution device comprises an exposure addition box which has a rear plate, a peripheral wall, a first attachment part to which an attachment frame for holding a wiring instrument is attached by screwing, and a second attachment part.例文帳に追加

分配装置は、後板と、周壁と、配線器具を保持する取り付け枠がネジ止めすることによって取り付けられる第１取り付け部、第２取り付け部とを有する露出増設ボックスを備える。 - 特許庁

In a photographic sequence of a second frame, time obtained by subtracting the time ts from the time Td is set as new time Td, and controlling of a series of exposure operations is performed.例文帳に追加

２コマ目の撮影シーケンスにおいては、Ｔｄ時間からｔｓ時間を減じたものを新たなＴｄ時間として一連の露光動作の制御が行われる。 - 特許庁

A second case 130 includes a display screen 134 and is connected to the first case 110 so as to be freely movable from an overlapping position on the upper surface part 114 to an exposure position where the operation panel part 112 is exposed outside.例文帳に追加

第２筐体１３０は、表示面１３４を有し、第１筐体１１０に対して、上面部１１４上で重なり合う位置から操作面部１１２を外部に露出させる露出位置に移動自在に連結される。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a first board 210 on which light-emitting elements 202a are mounted and a second board 200 on which a driving IC 201a for causing the light-emitting elements to emit light is mounted.例文帳に追加

露光装置は、発光素子２０２ａが実装される第１基板２１０とそれらを発光させる駆動ＩＣ２０１ａを実装する第２基板２００とを有する。 - 特許庁

At least either one of first or second insulating film is made of a photosensitive material and patterned through exposure, development, etc.例文帳に追加

また、前記第１の絶縁膜または第２の絶縁膜の少なくともいずれか一方の材料を、感光性材料とし、露光,現像などによりパターン形成する。 - 特許庁

After applying of the blue phosphor, the panel 12a is transferred to a combination machine 23, and the shadow mask 14 kept in the common mask stock area 15 is combined with the shadow mask 14, and then is transported to a light exposure device 27 by a second common transferring means 25.例文帳に追加

青色の蛍光体塗布終了後は、パネル12a を合体機23まで搬送し、マスクストックエリア15に保管したシャドウマスク14と合体させ、共用の第２の搬送手段25で露光装置27に送る。 - 特許庁

The same exposure mask as one used for manufacturing the first inspection wafer is used, a second inspection wafer is manufactured where the lithography conditions are changed and the pattern is formed (S6).例文帳に追加

第１検査ウエハの作製と同一の露光マスクを用い、リソグラフィー条件を変化させてパターンを形成してなる第２検査ウエハを作製する（Ｓ６）。 - 特許庁

In the case of flash-off photographing, the CPU 18 sets the photographing sensitivity to be raised to be around ISO 400 so as to properly expose the night view to be the background to the light by an exposure time (e.g., 1/4 second) in which camera shake does not become a problem.例文帳に追加

フラッシュオフ撮影時において、ＣＰＵ１８は、手ブレが問題とならない露光時間（たとえば、１／４秒）で背景となる夜景が適正に露光されるように、撮像感度をＩＳＯ４００相当に高める設定をする。 - 特許庁

Recording paper sheets 53a and 53b arranged along the width direction are conveyed to the pair of the second conveyance rollers 56 from the pair of the first conveyance rollers 55 after the image is recorded by the exposure device 21.例文帳に追加

幅方向に並べられた記録紙シート５３ａ，５３ｂは、露光装置２１において画像記録された後、第１搬送ローラ対５５から第２搬送ローラ対５６へ送られる。 - 特許庁

Then the stepper exposes the second original glass 20 on the wafer at every other positions, which are provided alternately with the exposure positions of the first original glass 10 by using the original glass 20.例文帳に追加

次いで、ステッパ装置は、第２の原板２０を使用して、マトリックス状に露光した第１の原板１０の露光位置に対し１つ置きとなる露光位置に第２の原板２０を露光する。 - 特許庁

The entire block copolymer present in a first area is removed by carrying out exposure and development under a first condition, and patterns including the first block phases and the second block phases are left in areas other than the first area.例文帳に追加

また、第１の条件で露光と現像を行い第１の領域に存在するブロックコポリマー全体を除去し、第１の領域以外の領域に第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを残存させる。 - 特許庁

Between the design graphic 11 and auxiliary graphic 14 obtd. by applying the undersizing process of 0.1 μm to the design graphic 11, an XOR-treated second exposure graphic 15 is exposed.例文帳に追加

次に、設計図形１１とこの設計図形１１に０．１μｍのアンダサイジング処理を施した補助図形１４との間にＸＯＲ処理を施した第２露光図形１５を露光する。 - 特許庁

When the specific pixel is changed from non-saturation to saturation, the second signal processing means 214 performs a complement processing and gain-up by using SVE (Spatially Varying Exposure) technology or the like without using signal of the specific pixel.例文帳に追加

また、特定画素が非飽和から飽和に切り替わった場合、特定画素の信号は用いずに、ＳＶＥ技術等を用いて補完処理やゲインＵＰを行う。 - 特許庁

The second coating includes an organic material capable of sufficiently sealing the pores of the first coating to reduce or eliminate infiltration of contaminant material, and is capable of being removed by exposure elevated temperatures.例文帳に追加

第２の皮膜は、第１の皮膜の表面を十分に封止して汚染物質の浸透を低減又は防止することができる有機材料を含み、高温への暴露によって除去することができる。 - 特許庁

Peripheral rim exposure can be effected simultaneously with respect to the substrates on the first and second mounting tables employing a common light source whereby a high processing capacity is obtained and the enlargement of the device can be suppressed.例文帳に追加

共通の光源を用いて第１及び第２の載置台上の基板に対して例えば同時に周縁露光を行うことができるため高い処理能力を有しかつ装置の大型化を抑えることができる。 - 特許庁

A moving amount detecting part 203 uses a first image and a second image each obtained within exposure time to calculate the moving amount α of the examinee between both the images.例文帳に追加

露光時間内に得られた第１の画像と第２の画像とを用いて動き量検出部２０３は夫々の画像間の被検体の動き量αを計算する。 - 特許庁

A weighting coefficient is decided so that the weighting of the first photometric value is smaller based on the obtained defocus amount, and an exposure value is calculated based on the result of the weighting calculation of the first photometric value and the second photometric value.例文帳に追加

そして、取得されたデフォーカス量に基づいて第１の測光値の重み付けが小さくなるように重み付け係数を決定し、第１の測光値と第２の測光値とを重み付け演算した結果に基づいて、露出値を演算する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of then executing a photoresist layer 38 on a second mask 34, arranged at a pitch of a distance 2x and deviated at a distance x to the openings 33A of the first mask 33, that is, one pitch on the photoresist layer 38, and secondary exposure.例文帳に追加

次に距離２ｘのピッチで配列し且つ第一マスク３３の開口３３Ａ…に対して距離ｘ、即ち１ピッチ分ずれた第二マスク３４をフォトレジスト層３８に施して二次露光を行う。 - 特許庁

Based on the object luminance computed by the first arithmetic means and the data inputted by the input means, a second arithmetic means 20e computes an appropriate exposure conditions.例文帳に追加

前記第１の演算手段によって演算された被写体輝度と、前記入力手段によって入力されたデータとに基づいて、第２の演算手段２０ｅは適正露出条件を演算する。 - 特許庁

A mobile unit including the exposure unit 7 to which image forming units 5a to 5d are fixed is held by a second fixing member 20 so that is can be pushed down from the mount state and be pulled out.例文帳に追加

また、画像形成ユニット５ａ〜５ｄが固定された露光ユニット７を含む可動ユニットは、第２の固定部材２０によって装着状態から押し倒して引き出せるよう保持される。 - 特許庁

Then, cartridge shutter 18 is, allowed to cover the exposure section on the electrophotographic photoreceptor 1 by a first section 18f, a second section 18d and a sheet member 30.例文帳に追加

そして、カートリッジシャッター１８は、第一の部分１８ｆ、第二の部分１８ｄ、及び、シート部材３０によって電子写真感光体１の露出部分をカバーする。 - 特許庁

An imaging portion 11 generates a first image signal SH and a second image signal SL+SH photographed by different exposure time, based on a reference read-out voltage Vm.例文帳に追加

撮像部１１は、基準読み出し電圧Ｖｍに基づき、異なる露光時間により撮像された第１、第２の画像信号ＳＨ，ＳＬ＋ＳＨを生成する。 - 特許庁

Two times of exposure are performed by the first and second photomasks in which circular light shielding parts waste distributed, a contact hole 66 is formed in the photosensitive resin 44, and a smooth ruggedness is formed in the area other than the TFT 43.例文帳に追加

円形遮光部が散在された第１フォトマスクと第２フォトマスクとで２回の露光を行い、感光性樹脂４４にコンタクトホール６６を形成すると共に、ＴＦＴ４３以外の領域に滑らかな凹凸を形成する。 - 特許庁

When the article is moved for the immersion member, the exposure apparatus evaluates the surface state of the article based on the collection state of liquid from the second liquid collection opening.例文帳に追加

露光装置は、液浸部材に対して物体を移動したときに、第２液体回収口からの液体の回収状態に基づいて、物体の表面の状態を評価する。 - 特許庁

Since the difference between the first reaction and the second reaction is large, the step of fixing such as exposure adjustment and the step of shutter operation can be distinguished clearly through the feeling from push-button.例文帳に追加

第１の反力と第２の反力の差が大きいため、露出調整等の固定段階とシャッタ動作の段階とを押ボタンからの感触を通じて明確に区別することができる。 - 特許庁

In the case of a photographing operation, the electric charge signals stored in respective periods resulting from dividing the exposure time into two as to the first field are respectively read as first and second division image data.例文帳に追加

そして、撮影動作時に、第１フィールドについて、露光時間を２つに分割した期間のうちのそれぞれの期間に蓄積される電荷信号を第１および第２分割画像データとしてそれぞれ読み出す。 - 特許庁

When fast sweeping at a second transfer speed is not completed within a period from exposure completion (t4) to a start (t6) of an operation to close a mirror, fast sweeping is carried out at a first transfer speed.例文帳に追加

露光完了後（ｔ４）〜ミラーの閉止動作開始時（ｔ６）までの間に第２の転送速度による高速掃出しが完了しない場合、第１の転送速度で高速掃出しを実行する。 - 特許庁

An object is alternately colored with two colors, where a color whose color difference becomes not more than a first threshold under the illuminant of an exposure avoiding light source and a color whose color difference becomes at least a second threshold under the illuminant of white light and/or sunlight.例文帳に追加

露光回避光源の光源下においては色差が第１閾値以下となり、白色灯または太陽光のいずれかまたは両方の光源下においては色差が第２の閾値以上となる２つの色を隣り合わせで着色する。 - 特許庁

The side-face coating body 3 is provided with a terminal exposure plate part 31 with window parts 31a, a top plate part 32, a bottom plate part, a first side plate part 34 and a second side plate part each equipped with a resin injection hole 34a for injecting resin into.例文帳に追加

側面被覆体３は、窓部３１ａを有する端子露出板部３１、上板部３２、下板部、樹脂を注入するための樹脂注入孔３４ａを有する第１側板部３４、及び第２側板部を備える。 - 特許庁

An aligning mark is disposed in the pattern formation and second and later patterns are formed by exposure after alignment using the mark.例文帳に追加

本発明は第１のパターン形成時にウエファ周端部に透明窓を複数個設けたフォトマスクを使用することにより、プリアライメント補正を可能にするものである。 - 特許庁

In an exposure head, the imaging optical system and the light emitting elements imaged to a latent image carrier by the imaging optical system are arranged in a first direction and a second direction.例文帳に追加

露光ヘッドには、結像光学系および前記結像光学系で潜像担持体に結像される第１の方向と第２の方向に発光素子が配設される。 - 特許庁

The total of the first and second exposure luminous energy is controlled in such a manner that a drawn image in the resist film is formed into dimensions in a desired dimensional range in the pattern area but not formed out of the pattern area.例文帳に追加

第１及び第２露光量の合計が、パターン領域内ではレジスト膜の描画像が所望の寸法範囲の寸法で形成され、パターン領域外では描画像が形成されないようにする。 - 特許庁

The third cathode is so formed in the opening of the second cathode as to increase the length of the outline of an exposure area of the electron-emitting material, and is connected electrically to the first cathode.例文帳に追加

第３のカソード電極は、第２のカソード電極の開口内に、電子放出材の露出領域の輪郭の長さを増やすように設けられており、第１のカソード電極と電気的に接続されている。 - 特許庁

In the second sequence for exposing the edge shot, the edge shot contained in the region B is exposed after exposure of the edge shot contained in the region A is completed.例文帳に追加

エッジショットを露光する第２シーケンスでは、領域Ａに含まれるエッジショットの露光が完了した後、領域Ｂに含まれるエッジショットの露光が行われる。 - 特許庁

The method further comprises steps of forming a first resist film (4a) and a second resist film (4b) of the film (4) having different solubilities due to exposure, and removing the film (4a) with a developer to form a resist pattern.例文帳に追加

次に、露光によって溶解度が異なる化学増幅型レジスト膜(4)の第１のレジスト膜(4a)及び第２のレジスト膜(4b)を形成し、現像液で第１のレジスト膜(4a)を除去してレジストパターンを形成する。 - 特許庁

A second negative type barrier wall member 33 is laid thereon prior to development and subjected similarly to mask exposure thus forming exposed parts 33-1 for making a barrier wall sectioning a seal wall and an ink channel and unexposed parts 33-2 serving as ink channels.例文帳に追加

未現像のまま、この上にネガタイプの第2の隔壁部材33を積層し、同様にマスク露光し、シール隔壁とインク流路の区画隔壁を作るための露光部33−1と、インク流路となる非露光部33−2を形成する。 - 特許庁

The step transferring the first mask pattern includes a step transferring the first mask pattern portion to one part 49 of the pixel 16a being in a position at an overlap exposure area, in which the first and the second areas are laid over the other.例文帳に追加

第１のマスクパターンを転写する工程は、第１および第２領域が重なった重複露光領域に位置する画素１６ａ内の一部分４９に第１のマスクパターン部分を転写する工程を含む。 - 特許庁

When the second patterning is performed, the position of the wafer W is adjusted, based on the detection result prior to placing the wafer W on the hot plate of the post-exposure baking (S4).例文帳に追加

２回目のパターニングでは、ウェハＷが露光後ベークの熱板に載置される前に、上記検出結果に基づいてウェハＷの位置が調整される（Ｓ４）。 - 特許庁

The inspection apparatus is equipped with a loading unit 12, a lid opening unit 15, an inspection stage 10, a first transferring unit 16, a second transferring unit 17, and an exposure case set unit 14.例文帳に追加

検査装置は、入庫部１２と、開蓋部１５と、検査ステージ部１０と、第１移載ユニット１６と、第２移載ユニット１７と、露光用ケースセット部１４とを備えている。 - 特許庁

The remaining portions of the light are directed to the remaining image areas of the photosensitive member and forms the images in the remaining image areas when the light from the landscape exists within the second exposure range.例文帳に追加

光の残りの部分は、風景からの光が第２の露光範囲内にある場合に、感光部材の残りのイメージ領域に指向させられ、残りのイメージ領域にてイメージを形成する。 - 特許庁

In the boundary between the first shot and the second shot in the exposure step, the photosensitive film corresponding to the boundary with partial superposition is exposed twice to light having the intensity gradually increasing or decreasing in accordance with the position.例文帳に追加

この時、露光段階で第１ショットと前記第２ショットとの境界は、一部重畳する境界に対応する感光膜は位置に応じて漸進的に増加したり減少する強さの光で二重露光する。 - 特許庁

While a mask 210 wound on the first roll 211 is released, the mask is wound up on the second roll 212 and the exposure region of the mask 210 passes above the glass 201.例文帳に追加

第１のロール２１１に巻かれたマスク２１０が解けながら、第２のロール２１２に巻取され、マスク２１０の露光領域がガラス２０１の上部を通過する。 - 特許庁