「slit scanning」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the spectrum sensor 100, spectrum data are acquired by allowing an imaging element to receive light, while spectrally diffracting relative to each wavelength, light images taken successively by scanning of a slit 102.例文帳に追加

スペクトルセンサ１００では、スリット１０２の走査により順次取り込まれる光像を波長毎に分光しつつ撮像素子に受光させることによってスペクトルデータが取得される。 - 特許庁

The three-dimensional measuring device 20 measures the object to be measured disposed in the measurement space 3 by scanning horizontal laser slit light in the vertical direction.例文帳に追加

また三次元測定器２０は横方向のレーザスリット光Ｌ１を縦方向に走査させることにより、測定空間３に配置される測定対象物を測定する。 - 特許庁

A BD slit and a BD sensor are constituted as a single unit, and in the optical box, a BD detection unit is constituted rotatably and adjustably on the optical axis of a scanning lens.例文帳に追加

ＢＤスリットとＢＤセンサーを一体のユニットで構成して、光学箱に前記ＢＤ検出ユニットが走査レンズの光軸中心に対して回転調整可能なように構成する。 - 特許庁

In order to attain spatial and selective irradiation, laser light 2 is radiated through the image of a photomask having a slit pattern or beam scanning is carried out.例文帳に追加

空間的に選択的にレーザ光を照射するには、スリット型に作成したフォトマスクの像を結像させて照射するか、あるいはビームを走査するなどして行う。 - 特許庁

A lithographic apparatus for use in the process may comprise an exposure tool having a single illuminator and a single patterning device that is imaged through a single exposure slit onto a scanning substrate.例文帳に追加

このプロセスで使用するためのリソグラフィ装置は、単一のイルミネータと、単一の露光スリットを介して、スキャンする基板上に結像される単一のパターニングデバイスとを有する露光ツールを備えることができる。 - 特許庁

In this way, the effective detecting ranges E1, E2, and E3 of the sensors 450, 451, and 452 inspect the scanning range E0 of the slit nozzle in a shared state.例文帳に追加

これにより、各検出センサー４５０，４５１，４５２の有効検出範囲Ｅ１ないしＥ３が、スリットノズルの走査範囲Ｅ０を分担して検査する。 - 特許庁

A laser light scanning device 12 linearly scans a laser spot light, forms a plurality of slit lights and irradiates a coil with them and a TV camera 10 images a coil which is irradiated with the laser light.例文帳に追加

レーザ光走査装置１２はレーザスポット光を直線状に走査して複数本のスリット光を形成してコイルに照射し、テレビカメラ１０はレーザ光が照射されているコイルを撮像する。 - 特許庁

The three-dimensional measuring device 10 measures the object to be measured disposed in a measurement space 3 by scanning vertical laser slit light in the cross direction.例文帳に追加

三次元測定器１０は縦方向のレーザスリット光Ｌ１を横方向に走査させることにより、測定空間３に配置される測定対象物を測定する。 - 特許庁

Then, the moving direction of a slit formed at the time of actuating the focal plane shutter coincides with a scanning direction at the time of reading out the picture signal from the MOS type imaging device.例文帳に追加

このとき、フォーカルプレーンシャッタ作動時に形成されるスリットの移動方向とＭＯＳ型撮像素子から画像信号を読み出すときの走査方向とを一致させる。 - 特許庁

Then, a slit 42 is provided between a scanning lens and the synchronization detector 36, and the opening of the light beam made incident on the synchronization detector 36 is limited, so that the F number of the light beam is made large.例文帳に追加

そこで、走査レンズと同期検知器３６との間にスリット４２を設けて、同期検知器３６へ入射する光ビームの開きを制限することで、光ビームのＦナンバを大きくしている。 - 特許庁

An electrostatic slit 120 where the switching element of the conductive line loop selected in accordance with scanning processing is turned off and the switching element of an unselected conductive line loop is turned on is formed.例文帳に追加

走査処理に合わせて選択した導体線ループのスイッチング素子をオフとし、非選択の導体線ループのスイッチング素子をオンとした静電スリット１２０を形成する。 - 特許庁

As compared with a method for measuring the diffraction line intensity of asbestos by scanning the light detection slit 5 and the X-ray detector 8, a measuring time can be shortened largely.例文帳に追加

受光スリット５及びＸ線検出器８のスキャンによってアスベストの回折線強度を測定することに比べて、測定時間を大幅に短縮できる。 - 特許庁

A downward irradiating optical system 12 is operated to perform scanning to observe an image formed in a pinhole slit and to determine the distance between the part to be detected 2c and an object lens is appropriate or not.例文帳に追加

落射光学系１２を走査させ、ピンホールスリット上に結像される像を観察し、被検出部２ｃと対物レンズとの距離が適当であるか否かを判断する。 - 特許庁

The plurality of measurement points are arranged over a length substantially equal to or longer than the width of an exposure slit of an exposure station in a non-scanning direction.例文帳に追加

複数の計測ポイントは、露光ステーションにおける露光スリットの非走査方向の幅とほぼ等しいか、又はそれ以上の長さにわたって配置されている。 - 特許庁

In the laser scanning optical apparatus, the long lens 9 is adhered and fixed by adhesives 21 and 22 on a flat holder 12 along a slit 13 formed on the holder for passing light.例文帳に追加

光透過用のスリット１３を形成した平面状のホルダ１２に長尺状のレンズ９をスリット１３に沿って接着剤２１，２２にて接着固定したレーザ走査光学装置。 - 特許庁

On the other hand, a slit 551a provided to the encoder fence is tilted at a predetermined angle to a reference line L perpendicular to the main scanning direction, on the side surface of the encoder fence.例文帳に追加

一方、エンコーダフェンスに設けられたスリット５５１ａは、エンコーダフェンスの側面で、主走査方向に垂直な基準線Ｌに対して所定角度傾いて設けられている。 - 特許庁

A CD sensitivity is measured by operating the apparatus at a reduced speed and injecting errors at frequencies determined by the null frequency of scanning slit filter response.例文帳に追加

装置を低減された速度で動作させ、かつ、走査スリットフィルタ応答のヌル周波数によって決定される周波数で誤差を注入することによって、ＣＤ感度が測定される。 - 特許庁

The attitude of the light receiving unit 13 is adjusted so as to correct the deviation of the center line of the mask with respect to the scanning line L based on the result obtained by detecting the laser beam 24 having passed through the slit holes 42 and 43 with the light receiver 30.例文帳に追加

スリット穴４２，４３を通過したレーザ光２４を受光器３０で検出した結果に基づき、走査線Ｌに対するマスクの中心線のずれが補正されるように、受光ユニット１３の姿勢を調整する。 - 特許庁

Thus, it is possible to perform the object recognition function such as three-dimensional distance measurement by using a point light source for emitting the entire object without the need for a slit light source or a scanning mirror.例文帳に追加

したがって、スリット状光源やスキャンミラーを不要とし、被写体全体を照射する点光源を用いて３次元距離計測等の被写体認識機能を行うことが可能となる。 - 特許庁

Also, the moving speed of the slit coincides with scanning speed to read out the picture signal, and exposure time for the silver salt film coincides with that for the MOS type imaging device.例文帳に追加

また、スリットの移動速度と画像信号を読み出す走査速度、および銀塩フィルムに対する露光時間とＭＯＳ型撮像素子に対する露光時間とを一致させる。 - 特許庁

The cleaning device (15) includes a chamber (16) attached to the housing of the camera (12) and the chamber (16) has a linear slit (17) directed toward and aligned on the scanning zone (6).例文帳に追加

このクリーニング装置（１５）は、カメラ（１２）のハウジングに取り付けられているチャンバ（１６）を含み、このチャンバ（１６）は、走査ゾーン（６）に向けて方向付けられておりかつ走査ゾーン上に位置合わせされている直線スリット（１７）を有する。 - 特許庁

A slit portion 515a is formed in the auxiliary wiring 515 above the scanning line (Lscan) of a second wiring layer L2, then, a parasitic capacity (Cscan) is reduced, and the wiring delay is reduced.例文帳に追加

第２配線層Ｌ２の走査線Ｌscan上の補助配線５１５にスリット部５１５ａを形成することで、寄生容量Ｃscanを軽減して配線遅延を緩和する。 - 特許庁

In the prep scanning, a bed 31 is arranged deviated by the portion of an entrance length, and the position of a slit at an X-ray collimator 13 is arranged deviated in the direction of deviating the bed 31.例文帳に追加

プレップスキャン時においては、寝台３１を助走距離分ずらして配置し、Ｘ線コリメータ１３のスリットの位置を、寝台３１をずらした方向にずらして配置する。 - 特許庁

The optical scanning device 10 is provided with a laser diode LD12 which is furnished on a substrate 11 and emits an optical beam L, a collimator lens 13 and a slit plate 14 which are successively arranged on the optical path of the optical beam L.例文帳に追加

光学走査装置１０は、基板１１上に設けられ光ビームＬを発するＬＤ１２と、光ビームＬの光路上に順次配置されたコリメータレンズ１３、及び、スリット板１４が設けられている。 - 特許庁

The light-shielding member 16 limits the light-transmitting region of each convex lens 18 to a slit-like opening part 20 that is roughly parallel to the main-scanning direction, totally cutting off the transmitting light in other areas.例文帳に追加

遮光部材１６は、各凸レンズ１８の透光領域を、主走査方向と略平行なスリット状開口部２０に制限し、それ以外の部分の透光を全て遮断したものである。 - 特許庁

Then the image plane of the projecting optical system is detected by repeating slit scanning type spatial image measurement by using the pattern plate 90 while servo-controlling the optical axis direction and inclination of the pattern plate 90 by using the multi-point AF system.例文帳に追加

そして、多点ＡＦ系を用いてパターン板９０の光軸方向位置及び傾斜をサーボ制御しつつパターン板９０を用いてスリットスキャン方式の空間像計測を繰り返して投影光学系の像面を検出する。 - 特許庁

In the electron beam irradiation device, a shielding plate with a slit through which the electron beam passes, is arranged on the side of a metallic strip surface to which the electron beam is radiated, when electronic beam scanning is performed by the electron gun successively in the width direction of the running metallic strip.例文帳に追加

電子銃により、走行する金属ストリップの幅方向に連続して電子ビーム走査を行う場合に、該金属ストリップの電子ビームの照射面側に、電子ビームが通過するスリットを有する遮蔽板を配置する。 - 特許庁

To provide a shape inspection device and a shape inspection method that inspect a sectional shape of an arbitrary sectional line by scanning slit light once.例文帳に追加

一度のスリット光の走査により、任意の断面線における断面形状を検査することができる形状検査装置及び形状検査方法を提供する。 - 特許庁

The slit 7 extends beneath the common electrode 5 and the connection boundary of the common electrode 5 and the heating resistor part 6 is defined by the arranging direction of the heating resistor parts 6, i.e., the lines extending in the main scanning direction.例文帳に追加

スリット７は共通電極５の下方に延在しているとともに、共通電極４と発熱抵抗部６との接続境界は発熱抵抗部６の配列方向つまり主走査方向に延びる直線で規定される。 - 特許庁

On the basis of irregularity of brightness in a direction orthogonal to the scanning direction of the luminous flux separated by the dichroic mirrors 21, 22, the shape of opening of the slit is made to be a specified shape other than a rectangle.例文帳に追加

本発明では、ダイクロイックミラー２１，２２で分離された光束の走査方向に直交する方向における輝度ムラに基づいて、スリットの開口形状を方形以外の特定の形状とする。 - 特許庁

By combining the picture storage function of the CCD camera or the like and the optical scanning, the same function as the projection of slit light according to continuous light is realized.例文帳に追加

本発明は、ＣＣＤカメラ等の映像蓄積機能と光スキャンとを組み合わせて、連続光によるスリット光の投射と同一機能を実現している。 - 特許庁

To rationalize integrated exposure on an object to be exposed, when the object is exposed by the slit scanning exposing method using a pulsed light type exposure beam.例文帳に追加

パルス発光型の露光ビームを用いてスリットスキャン露光方式で露光を行うときに露光対象となる物体上の積算露光量を適正化する。 - 特許庁

To sufficiently secure the strength of a reticle even if a method for charged particle beam exposure in which scanning is performed while the reticle is illuminated with a charged particle beam having a circular-arcuate slit-like illuminating area is used.例文帳に追加

円弧スリット状の照明領域を有する荷電粒子線でレチクルを照明しながら走査する荷電粒子線露光方法においても、レチクルの強度を十分に確保できるようにする。 - 特許庁

The adjusting step may act on a magnitude of an image magnification composition along a length of an slit shaped area, i.e. an image distortion in the scanning direction.例文帳に追加

調整するステップは、スリット形状の領域の長さ、すなわち走査方向の像歪みに沿って、投影系の像倍率成分の大きさに作用してもよい。 - 特許庁

A slit member 105, in parallel with a main scanning direction and a transmission light amount adjustment means for eliminating a light made incident to the line sensor at an obtuse angle, are provided in the vicinity of the line sensor.例文帳に追加

ラインセンサの近傍に、主走査方向に対して平行なスリット部材１０５と、ラインセンサに対して鈍角で入射する光を除去する透過光量調整手段と、を有する。 - 特許庁

A suction port is provided at the position in the vicinity of the slit over the range corresponding to the moving region of the nozzle part to suck mist generated at the time of scanning coating of the nozzle part.例文帳に追加

またスリット近傍位置には前記ノズル部の移動領域に対応する範囲に亘って吸引口が設けられており、ノズル部のスキャン塗布時に生じるミストを吸引するように構成される。 - 特許庁

The timings at which a slit light ray scanned by a MEMS mirror 14 passes an end A of the effective scanning range are detected with an optical fiber 20A and an optical detector 36A.例文帳に追加

ＭＥＭＳミラー１４で走査されるスリット光が実効的な走査範囲のＡ端を通るタイミングを光ファイバ２０Ａ及び光検出器３６Ａにより検出する。 - 特許庁

A three-dimensional dose distribution is obtained by controlling the amount of radiation absorption in each position in the direction of slits of a variable bolus 42 prepared by a radiation energy absorber and whose amount of radiation absorption is made variable in each position in the direction of slits and scanning a slit-shaped dose distribution formed by a slit collimator 50 and the variable bolus 42.例文帳に追加

放射線エネルギ吸収体で作成され、スリット方向各位置の放射線吸収量が可変とされた可変ボーラス４２のスリット方向各位置における放射線吸収量を制御して、スリットコリメータ５０と可変ボーラス４２によって形成されるスリット状線量分布を走査することにより、３次元線量分布を得る。 - 特許庁

A mounting face 53 of an aperture plate 51 is formed on an cylinder 49 on which a collimator lens of a laser scanning unit of an image forming apparatus is mounted, a stepped face 54 is formed adjacent to the mounting face 53 for supporting an adjustment slit plate 56 for optical adjustment of the laser light, and the adjustment slit plate 56 is disposed detachably on the stepped face.例文帳に追加

画像形成装置のレーザスキャニングユニットのコリメータレンズを取付けている円筒４９には、アパーチャ板５１の取付面５３が形成され、該取付面５３に隣接させて、レーザー光の光学調整を行う調整スリット板５６を支持させる段差面５４を形成し、調整スリット板５６を段差面に着脱可能に配設するようにした。 - 特許庁

A beam is statically deflected to the maximum deflection by all the deflectors 110 and in front of a specific slit aperture along the path of the charged particle beam, then scanning is made in a direction in parallel with a direction for crossing the direction of static deflection, at the same time, the current of the charged particle beam captured by the end part of each slit aperture 150 is recorded successively.例文帳に追加

荷電粒子ビームの経路に沿った特定のスリット・アパーチャより上／前のすべての偏向器を使用してビームを最大偏向まで静的に偏向させ、次に、静的偏向の方向に対して直交する方向と平行する方向にスキャンすると同時に、各スリット・アパーチャの縁部によって捕捉された荷電粒子ビームの電流を順に記録する。 - 特許庁

In a document reader having a scanning exposure reading system and a document moving and reading system, a first reference density sheet 151 for a first shading correction by the scanning exposure reading system is provided on a platen glass 11 and a second reference density sheet 152 for a second shading correction in the document moving and reading system is provided on a glass 12 for slit exposure.例文帳に追加

走査露光読み取り方式と、原稿移動読み取り方式とを有する原稿読み取り装置において、原稿台ガラス１１上に、走査露光読み取り方式での第１のシェーディング補正用の第１の基準濃度シート１５１を設けると共に、スリット露光用ガラス１２上に、前記原稿移動読み取り方式での第２のシェーディング補正用の第２の基準濃度シート１５２を設けた原稿読み取り装置。 - 特許庁

In a specified number of writing electrodes 3a disposed in two rows in the subscanning direction on a flexible substrate 3b while being arranged in the main scanning direction, a slit 4 or a cut 7 extending in the main scanning direction is made in the flexible substrate 3b between writing electrodes 3a, 3a in the first row and writing electrodes 3a, 3a in the second row.例文帳に追加

可撓性の基材３ｂに主走査方向に整列されて配置されかつ副走査方向に２列配置された所定数の書込電極３ａにおいて、１列目の書込電極３ａ,３ａと２列目の書込電極３ａ,３ａとの間の可撓性の基材３ｂに、スリット４または切れ目７が主走査方向に延びるように設けられている。 - 特許庁

The slit 80A has a concaved surface so as to continuously narrow the width of a sub-scanning direction with approach to a central part from the end of a main scanning direction and the shape is symmetrical with respect to a central point O through which the main light beam of laser beams emitted from the laser diode passes.例文帳に追加

スリット８０Ａの形状は、主走査方向Ｘの端部から中央部に進むに従って副走査方向Ｙの幅が連続的に狭くなるように、つづみ状にくびれた形状に決定されており、その形状がレーザダイオードから射出されたレーザビームの主光線が通過する中央点Ｏに対して点対称状に形成されている。 - 特許庁

In a specified number of writing electrodes 3a arranged in the main scanning direction on a flexible substrate 3b, a slit 4 extending in the subscanning direction is made in the flexible substrate 3b between adjacent writing electrodes 3a and 3a.例文帳に追加

可撓性の基材３ｂに主走査方向に整列されて配置された所定数の書込電極３ａにおいて、互いに隣接する書込電極３ａ,３ａの間の可撓性の基材３ｂに、スリット４が副走査方向に延びるように設けられている。 - 特許庁

A scanning exposure apparatus has a light source capable of changing the central wavelength of exposure light to undergo pulsed oscillation, and scan-exposes a substrate with slit-like exposure light while periodically changing the central wavelength in synchronization with the pulsed oscillation of the exposure light.例文帳に追加

本発明の走査露光装置は、パルス発振される露光光の中心波長を変更可能な光源を有し、前記露光光のパルス発振と同期させて前記中心波長を周期的に変化させつつ帯状の露光光で基板を走査露光する。 - 特許庁