「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(82ページ目) - Weblio英語例文検索

The process for fabricating a group III nitride based compound semiconductor laser comprises a step for forming a plurality of semiconductor layers composed of a group III nitride based compound semiconductor on a substrate, a step for forming an electrode narrower than the semiconductor layer on the surface thereof, and a step for forming a ridge by etching the semiconductor layer using the electrode as a mask.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体レーザの製造方法において、基板上にIII族窒化物系化合物半導体から成る複数の半導体層を形成する工程と、前記半導体層の表面に、前記半導体層よりも狭い幅を有する電極を形成する工程と、前記電極をマスクとして前記半導体層をエッチングし、リッジ部を形成する工程とを含む。 - 特許庁

In the image forming apparatus in which an electrophotographic photoreceptor after a transfer step is circulated to an electrifying step without passing through a cleaning step in which a cleaner is brought into contact with the surface of the photoreceptor, the photoreceptor contains a polycarbonate copolymer containing repeating units of formula (1) as a bonding resin in the uppermost layer.例文帳に追加

転写工程後の電子写真感光体を電子写真感光体表面に接触するクリーニング工程に付することなく帯電工程に循環する画像形成装置において、該電子写真感光体が、最上層に結着樹脂として下式で表される繰り返し単位を含むポリカーボネート共重合体を含有するものであることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

The antenna coil for the IC card can be manufactured through a step of applying an epoxy resin on the rough surface of the electrolytic copper foil to provide an epoxy resin layer, a step of applying a polyurethane adhesive on the epoxy resin layer to adhere a synthetic resin film thereto, and a step of treating the electrolytic copper foil by resist treatment and etching and forming a specified circuit pattern.例文帳に追加

このようなＩＣカード用アンテナコイルは、電解銅箔の粗面にエポキシ系樹脂を塗布して、エポキシ系樹脂層を設ける工程と、エポキシ系樹脂層上にポリウレタン系接着剤を塗布し、合成樹脂製フィルムを貼合する工程と、次いで、電解銅箔にレジスト処理及びエッチング処理を施して、所定の回路パターンを形成する工程を経て、製造することができる。 - 特許庁

A method of forming a carbon nanotube includes (1) a step of preparing a substrate having a plurality of projections, (2) a step of forming a catalyst layer that covers the projections, and promotes growth of a carbon nanotube, and (3) a step of injecting a gas containing carbon on the catalyst layer to grow the carbon nanotube on a surface of the catalyst layer.例文帳に追加

（ｉ）複数の突起部を有する基板を準備する段階と、（ｉｉ）前記基板上に、前記突起部を覆い、カーボンナノチューブの成長を促進させる触媒層を形成する段階と、（ｉｉｉ）前記触媒層上にカーボンが含まれるガスを注入して、前記触媒層の表面上に前記カーボンナノチューブを成長させる段階と、を含むカーボンナノチューブの形成方法である。 - 特許庁

A member 21 is painted by performing an electrodeposition coating step of forming an electrodeposition coating film 41 on the surface of the member 21 constituting an automotive body by electrodeposition coating, an intermediate coating step of applying an intermediate coating onto the film 41 of the member 21 by directly applying a middle coating, and a top coating step of performing top coating on the member 21 onto which an intermediate coating is applied.例文帳に追加

電着塗装により自動車ボディを構成する部材２１の表面に電着塗膜４１を形成する電着工程と、部材２１の電着塗膜４１上に中塗塗料を直接塗布して中塗りする中塗工程と、中塗りされた部材２１に上塗塗料を塗布して上塗りする上塗工程とを実行することにより、部材２１を塗装する。 - 特許庁

The method includes a step of forming a first trench 64 having a predetermined depth on an insulating substrate 61, a step of forming an organic film 65 over the entire surface of the insulating substrate 61 including the first trench 64, and a step of selectively removing the organic film 65 and forming a second trench 67 having a smaller width than the first trench 64 in a part corresponding to the first trench 64.例文帳に追加

絶縁基板６１に所定深さを有する第１トレンチ６４を形成する段階と、第１トレンチ６４を含む絶縁基板６１の全面に有機膜６５を形成する段階と、有機膜６５を選択的に除去し、第１トレンチ６４と対応する部分に第１トレンチ６４よりも狭い幅を有する第２トレンチ６７を形成する段階とを備える。 - 特許庁

The ceramics package manufacturing method executes: an intermediate body forming step of forming a rectangular parallelepiped ceramics intermediate body 51 having an internal cavity; and a cutting step of cutting the ceramics intermediate body 51 formed at the intermediate body forming step so that a cut surface passes through the cavity between a pair of opposed surfaces (11a, 11b) of the ceramics intermediate body 51.例文帳に追加

本発明に係るセラミクスパッケージ製造方法は、内部に空洞部を有する直方体のセラミクス中間体５１を形成する中間体形成工程と、前記中間体形成工程で形成されたセラミクス中間体５１を、セラミクス中間体５１の対向する一組の面（１１ａ、１１ｂ）の間で切断面が前記空洞部を通るように切断する切断工程と、を行う。 - 特許庁

The method includes: an electrode pad forming step of forming an electrode pad 11 on a board 12; a solder bump forming step of forming the solder bump 14 on the electrode pad 11, with the surface of the solder bump being at least partially covered with a flux 15; and an oxygen exposure step of supplying an oxygen having reactive properties, such as an ozone (O3) gas, to the solder bump 14.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、基板１２に電極パッド１１を形成する電極パッド形成工程と、電極パッド１１上に、表面の少なくとも一部がフラックス１５で覆われた半田バンプ１４を形成する半田バンプ形成工程と、半田バンプ１４に反応性を有する酸素、例えば、オゾン（Ｏ_３）ガスを供給する酸素照射工程と、を含む。 - 特許庁

The method of fabricating the semiconductor device is characterized by comprising a step of forming an oxide film or oxynitride film on the surface (000-1) or (11-20) of the silicon carbide layer, a step of forming the gate insulating film by heat treatment in an atmosphere containing ammonia gas after the oxide film or oxynitride film has been formed, and a step of forming the gate electrode on the gate insulating film.例文帳に追加

炭化珪素層の（０００−１）面または（１１−２０）面上に酸化物膜または酸窒化物膜を形成する工程と、酸化物膜または酸窒化物膜の形成後に、アンモニアガスを含む雰囲気中で熱処理しゲート絶縁膜を形成する工程と、ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a rare-earth magnet has a sticking step for sticking a permeating material (Nd-Cu alloy) that can produce liquid phase onto a surface of a magnetic alloy containing a rare-earth element (R1) at a temperature lower than its eutectic point and a permeating step for heating after the sticking step to permeate and diffuse the permeating material into the grain boundary of the magnetic crystal grain of alloy.例文帳に追加

本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素（Ｒ１）を含む磁性合金の表面にその共晶点よりも低温で液相を生じ得る浸透材（Ｎｄ−Ｃｕ合金）を付着させる付着工程と、この付着工程後に加熱して磁性合金の結晶粒の粒界へ浸透材を浸透拡散させる浸透工程とを備えてなる。 - 特許庁

The method for preparing dendrimer-modified magnetic fine particles comprises (1) a step for providing magnetic fine particles having a functional group at a surface thereof, (2) a step for providing a dendrimer having a functional group at a base end portion thereof and synthesized to a desired generation and (3) a step for binding the functional group of the magnetic fine particles and the functional group of the dendrimer directly or indirectly through a crosslinking agent.例文帳に追加

デンドリマー修飾磁気微粒子の製造方法は、(1)表面に官能基を有する磁気微粒子を準備する工程と、(2)官能基を基端部分に有し、所望の世代まで合成したデンドリマーを準備する工程と、(3)前記磁気微粒子の前記官能基と、前記デンドリマーの前記官能基を直接又は架橋剤を介して間接的に結合させる工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter array having simplified manufacturing steps, particularly a method for manufacturing the color filter array substrate provided with an overcoat layer having a flat surface, and to provide a thin film patterning apparatus capable of performing the patterning step without using a photolithography step and capable of simplifying the manufacturing step and a method for manufacturing the color filter array substrate utilizing the same.例文帳に追加

本発明は、製造工程を単純化したカラーフィルタアレイ基板の製造方法、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The formation method of an oxide layer includes a step for forming a layer of reaction inhibitory action group on the surface of a substrate, a step for forming a layer of a metal precursor or a semiconductor precursor on the layer of reaction inhibitory action group, and a step for oxidizing the metal precursor or semiconductor precursor in order to obtain a layer of a metal oxide or a semiconductor oxide.例文帳に追加

基板の表面に反応抑制作用基の層を形成する段階と、反応抑制作用基の層上に金属前駆体または半導体前駆体の層を形成する段階と、金属酸化物または半導体酸化物の層を得るために金属前駆体または半導体前駆体を酸化させる段階と、を含む酸化物層の形成方法を提供する。 - 特許庁

This method has, furthermore, a step for segmenting the heart in one image of the digitized images, a step for forming the two-dimensional maximum intensity projection of the heart surface from each digitized image, and a step for fusing the images by overlapping one two-dimensional projection on the other two-dimensional projection.例文帳に追加

この方法は、さらに、上記のデジタル化された画像のうちの１つにおいて心臓をセグメンティングするステップと、上記のデジタル化された画像の各々から心臓の表面の２次元最大強度投影を形成するステップと、上記表面の一方の２次元投影を、この表面の他方の２次元投影に重ね合わせることによって上記の画像を融合するステップを有する。 - 特許庁

A manufacturing method of a fuel cell (100) includes: a connection step of connecting an electrode material (20) on a metal support (10); and a calcination step of disposing a solid oxide electrolyte on the electrode material (20) and calcinating the solid oxide electrolyte, and an insulative oxide film (11) is formed on the surface of the metal support (10) in the calcination step.例文帳に追加

燃料電池（１００）の製造方法は、金属支持体（１０）上に電極材料（２０）を結合させる結合工程と、電極材料（２０）上に固体酸化物電解質を配置して固体酸化物電解質を焼成する焼成工程と、を含み、金属支持体（１０）は、焼成工程において表面に絶縁性の酸化皮膜（１１）を形成する成分を含む。 - 特許庁

The additional molding step comprises a crushing step made by a roll molding means (D) formed by a plurality of roll pieces D1, D2, D3, and crushing a clearance formed on a back surface side of a flange portion 3; and a folding step upwardly folding an end portion 12 on a groove portion 1 side of the crushed flange portion 3.例文帳に追加

追加の成形工程を、複数のロール駒Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３にて形成されるロール成形手段（Ｄ）からなるものであって、フランジ部３の裏面側に形成された空隙を押し潰すように加工する押潰し工程と、これによって押し潰されたフランジ部３の溝部１側の端部１２を上方に折り曲げるように加工する折り曲げ工程と、からなるようにする。 - 特許庁

The film deposition method where a thin film of an evaporated material is deposited on the surface of a base material comprises: a step where a crystalline material is evaporated; a step where a noncrystalline material is evaporated; and a step where the mass ratio between the mass of the crystalline material to be evaporated and the mass of the noncrystalline material to be evaporated is regulated.例文帳に追加

この成膜方法は、蒸発させた材料の薄膜を蒸着によって基材表面に成膜する成膜方法であって、結晶性材料を蒸発させるステップと、非結晶性材料を蒸発させるステップと、蒸発させる結晶性材料の質量と蒸発させる非結晶性材料の質量との質量比を調整するステップとを有している。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises a step wherein through holes are formed in an interlaminar insulating layer (silicon oxide layer, BPSG layer) formed on a semiconductor substrate 11 including elements, a step wherein a barrier layer is formed on the surface of the interlaminar insulating layer and the through holes, and a step wherein a wiring layer is formed on the barrier layer.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、素子を含む半導体基板１１の上に形成された層間絶縁層（シリコン酸化層，ＢＰＳＧ層）にスルーホールを形成する工程と、層間絶縁層およびスルーホールの表面にバリア層を形成する工程と、バリア層の上に配線層を形成する工程とを含み、バリア層を形成する工程は、以下の工程（ａ）〜（ｄ）を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer endless belt includes: a step of forming the base material layer made of polyimide resin on the inner surface of a cylindrical mold by a centrifuging molding; a step of forming the elastic layer made of imide-modified elastomer by the centrifuging molding on the base material layer; and a step of further forming a releasing layer made of polyimide resin by the centrifuging molding on the elastic layer.例文帳に追加

この多層無端ベルトの製造方法は、遠心成形により、円筒形金型の内表面に、ポリイミド樹脂からなる基材層を形成する工程と、前記基材層上に、遠心成形により、イミド変性エラストマーからなる弾性層を形成する工程と、更に前記弾性層上に、遠心成形により、ポリイミド樹脂からなる離型層を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises: a dopant introduction step of introducing a dopant into a silicon carbide epitaxial layer 14; a carbon film formation step of forming a carbon film 24 on a surface of the epitaxial layer 14 using a PLD method, an FCVA method, or an ECR sputter method; and an annealing step of annealing the epitaxial layer 14 with the carbon film 24 remaining.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、炭化珪素のエピタキシャル層１４にドーパントを導入するドーパント導入工程と、ＰＬＤ、ＦＣＶＡ法又はＥＣＲスパッタ法を利用してエピタキシャル層１４の表面にカーボン膜２４を形成するカーボン膜形成工程と、カーボン膜２４が残存した状態でエピタキシャル層１４をアニール処理するアニール処理工程とを備える。 - 特許庁

The casket is manufactured by a first step of preparing the gasket 13 by molding rubber or resin, a second step of exposing to at least one kind of gas plasma selected from gaseous hydrogen, gaseous nitrogen, gaseous oxygen, gaseous fluorine, gaseous fluoride and inactive gas, and a third step of forming the film 16 on the exposed surface of the gasket 13 by exposing to the plasma of a gaseous hydrocarbon.例文帳に追加

また、ゴムや樹脂を成形してガスケット１３を作成する第１の工程と、水素ガス、窒素ガス、酸素ガス、フッ素ガス、及びフッ化物ガス、不活性ガスから選ばれた少なくとも一種のガスのプラズマに上記ガスケット１３を曝す第２の工程と、炭化水素ガスのプラズマに曝すことにより上記ガスケット１３の暴露面に非晶質炭素膜１６を形成する第３の工程とからなる。 - 特許庁

The method includes a step (402) of positioning the workpiece in a microwavable chamber (502), a step (404) of positioning a coating material in the microwavable chamber, and a step (406) of heating at least the workpiece and the coating material using microwave range electromagnetic energy such that a diffusion coating of the coating material is formed on the surface of the workpiece.例文帳に追加

方法は、マイクロ波処理可能チャンバ（５０２）の中に工作物を位置決めするステップ（４０２）と、マイクロ波処理可能チャンバの中に被覆材料を位置決めするステップ（４０４）と、工作物の表面に被覆材料の拡散被覆膜が形成されるように、マイクロ波範囲電磁エネルギーを使用して、少なくとも工作物及び被覆材料を加熱するステップ（４０６）と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a three-dimensional structure includes: a step of preparing the substrate 200; a mask forming step of forming the etching mask 204 to the surface of the substrate 200 by using the method for forming the etching mask; and an etching step of dry-etching the substrate from a diagonal direction using the etching mask 204 and of forming a plurality of holes.例文帳に追加

また、３次元構造体を製造するに際して、基板２００を準備する工程と、前記基板２００表面に、上記したエッチングマスクの形成方法を用い、エッチングマスク２０４を形成するマスク形成工程と、前記エッチングマスク２０４を用い、前記基板を斜め方向からドライエッチングして複数の開孔を形成するエッチング工程と、を有する製造方法を用いる。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device comprises: a first step of growing a layer constituting the second semiconductor layer on the first semiconductor layer; a second step of ion-injecting a first-conductivity-type impurity into the entire surface of the layer; and a third step of selectively ion-injecting a second-conductivity-type impurity into portions to be the second semiconductor regions of the layer.例文帳に追加

そして、その製造方法は、前記第１半導体層の上に前記第２半導体層を構成する層を成長する第１の工程と、前記層の全面に第１導電形の不純物をイオン注入する第２の工程と、前記層の前記第２半導体領域となる部分に第２導電形の不純物を選択的にイオン注入する第３の工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask having a mask pattern formed of step parts of two or more kinds of height, includes, before a stage of forming at least one kind of step part in 2nd order or later, a stage of making the substrate surface smooth by coating the step parts formed in the previous stage with the photosensitive resin and then polishing the photosensitive resin.例文帳に追加

マスクパターンが２種類以上の高さの段差部から形成されるフォトマスクの製造方法において、２番目以降に形成される少なくとも１種類の段差部形成工程の前に、前工程によって形成された段差部に感光性樹脂を塗布し、次いで研磨を行うことにより基板表面を平滑にする工程を含むフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

The nitride semiconductor device is manufactured by a step of forming at least one or more nitride semiconductor device layers 3 on a growth substrate 1, a step of joining one principle surface of the support substrate 10 on the nitride semiconductor device layer 3, and a step of removing the growth substrate 1 from the joined nitride semiconductor device layer 3 and support substrate 10.例文帳に追加

窒化物系半導体素子は、成長用基板１上に、少なくとも１層以上の窒化物系半導体素子層３を形成する工程と、窒化物系半導体素子層３上に、支持基板１０の一方の主面を接合する工程と、接合された窒化物系半導体素子層３及び支持基板１０から成長用基板１を除去する工程とによって製造される。 - 特許庁

The manufacturing method includes an electrode forming step for forming an electrode 13 on the surface of a semiconductor layer 11; an insulation film forming step of forming insulation films 12, 14 containing nitrogen on the electrode 13; and a heat treatment step of carrying out heat treatment in an atmosphere including water vapor, oxygen, or hydrogen to form nitrogen concentration distributions in the insulation films 12, 14.例文帳に追加

半導体層１１の上方に電極１３を形成する電極形成工程と、当該電極１３上に窒素含有の絶縁膜１２、１４を形成する絶縁膜形成工程と、水蒸気、酸素、又は水素を含む雰囲気で熱処理を施して、前記絶縁膜１２、１４中に窒素濃度分布を形成する熱処理工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the multifunctional material having the photocatalytic function possesses a step for forming a binder layer on the surface of a base material, a step for forming a layer comprising a mixture of a photocatalyst particle having <0.3 μm particle diameter with one of particles of tin oxide, zinc oxide and bismuth oxide having a particle diameter ≤4/5 times that of the photocatalyst particle and a firing step.例文帳に追加

基材表面にバインダー層を形成する工程と、バインダー層上に平均粒径が０．３μｍ未満の光触媒粒子と前記光触媒の粒径の４／５以下の酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ビスマスのいずれかの粒子との混合物からなる層を形成する工程と、焼成する工程とを具備することを特徴とする光触媒機能を有する多機能材の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a toner for electrostatic charge image development which has good dispersibility, reduces drying with low temperature air and adhesion to a wall surface, causes no secondary aggregation, stabilizes electrostatic properties, and ensures a sharp particle size distribution by high-yield and high-efficiency removal of coarse powder when a coarse powder removing step is carried out between a fluidized drying step and an external addition step.例文帳に追加

分散性が良好で、低温風での乾燥及び壁面への付着軽減し、二次凝集の発生がなく、静電特性を安定にし、更に、流動乾燥工程と外添工程との間に粗粉を除去する粗粉カット工程を設けた場合、高収率、高効率に粗粉カットされた粒度分布のシャープな静電荷像現像用トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the polymer-coated particles by coating the surface of nuclear particles with a polymer is provided, comprising a step of treating the nuclear particles with a coupling agent without substantially using any surfactant, a step of dispersing the thus treated nuclear particles in a good dispersion solvent, and a step of polymerizing a hydrophobic monomer following addition of the monomer.例文帳に追加

核粒子の表面をポリマーで被覆してポリマー被覆粒子を製造する方法であって、上記製造方法は、実質的に界面活性剤を使用することなくカップリング剤で核粒子を処理する工程と、該処理された核粒子を良分散溶媒に分散させる工程と、疎水性モノマーを添加して重合する工程とを含むポリマー被覆粒子の製造方法である。 - 特許庁

The method for arraying particulates A is carried out by combining a particulate spreading step to spread on the surface of an oxide substrate 1 the particulate-dispersed liquid obtained by dispersing the particulates A in a medium by using a surfactant, a light irradiating step to irradiate the substrate 1 with light by using the prescribed pattern and a medium removing step to remove the medium.例文帳に追加

この発明の微粒子Ａの配列方法は、界面活性剤を用いて微粒子Ａを媒体に分散させた分散液を酸化物基板１表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板１に所定のパターンにより光を照射する光照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程の各工程を組み合わせることを特徴としている。 - 特許庁

The method of fabricating a ZnO semiconductor thin film comprises: a step of forming a ZnO thin film on a surface in an oxygen atmosphere; a step of forming an oxygen dispersion layer by an oxygen-affinity metal on the ZnO thin film; and a step of dispersing oxygen contained in the ZnO thin film to the oxygen dispersion layer by heat treating the ZnO thin film and the oxygen dispersion layer.例文帳に追加

酸素雰囲気で基板上にＺｎＯ薄膜を形成する工程と、ＺｎＯ薄膜上に酸素親和的な金属による酸素拡散層を形成する工程と、ＺｎＯ薄膜及び酸素拡散層を熱処理して、ＺｎＯ薄膜に含まれた酸素を酸素拡散層に拡散させる工程と、を含むことを特徴とするＺｎＯ半導体薄膜の製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing a conductive film includes: a development step of forming a metal silver portion by exposing and developing a photosensitive film having a silver salt emulsion layer on a support; a reduction treatment step of contacting a reducing agent to a surface of the metal silver portion; and a smoothing treatment step of smoothing the photosensitive film that has been subjected to the reduction treatment.例文帳に追加

支持体上に銀塩乳剤層を有する感光フィルムを露光して現像処理することにより金属銀部を形成する現像工程と、金属銀部の表面に還元剤を接触させる還元処理工程と、還元処理が施された感光フィルムを平滑化する平滑化処理工程と、を有することを特徴とする導電性膜の製造方法。 - 特許庁

This particulate-adsorbed pattern-formed material is formed by the method comprising a step to imagewisely form the region having polymerization initiating ability on the surface of the substrate , a step to produce a graft polymer having a nonionic polar group in the region by atom transfer radical polymerization and a step to make particulate adsorbed on the produced graft polymer.例文帳に追加

基板表面に重合開始能を有する領域を画像様に形成する工程と、該領域に原子移動ラジカル重合を用いて非イオン性極性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに微粒子を吸着させる工程と、を含むことを特徴とする微粒子吸着パターン形成方法、及びそれを用いて作製された微粒子吸着パターン材料。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes: a step of forming a source electrode 20, a gate electrode 24, and a drain electrode 22 on a nitride semiconductor layer 19, respectively; a step of forming a silicon nitride film 26 on the nitride semiconductor layer; and a step of processing an upper surface of the silicon nitride film between the gate electrode and the drain electrode using a solution containing a hydrofluoric acid.例文帳に追加

窒化物半導体層１９上に、ソース電極２０、ゲート電極２４およびドレイン電極２２をそれぞれ形成する工程と、前記窒化物半導体層上に窒化シリコン膜２６を形成する工程と、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間の前記窒化シリコン膜の上面をフッ酸を含む溶液を用い処理する工程と、を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method of a wiring board includes: a laminate formation step of forming a laminate containing an insulating layer or a conductive layer by laminating a plurality of layers formed by at least either of the insulating layer and the conductive layer; and a cutting step of cutting the laminate formed by the laminate formation step along a surface intersecting with the plurality of layers.例文帳に追加

絶縁層と導電層との少なくともいずれかによって形成した層を複数積層させて前記絶縁層および前記導電層を含む積層体を形成する積層体形成工程と、前記積層体形成工程において形成した前記積層体を、複数の前記層と交差する面に沿って切断する切断工程と、を含む配線基板の製造方法とした。 - 特許庁

The synthetic method of the single layer carbon nanotube includes a 1st step for preparing a liquid mixture containing an organic metallic compound of a precursor for the carbon nanotube synthesis and a carbon supply source, a 2nd step for adding a supporting body on the surface of which the carbon nanotube is synthesized into the liquid mixture and a 3rd step for irradiating the liquid mixture into which the supporting body is added with ultrasonic wave.例文帳に追加

カーボンナノチューブ合成の前駆体である有機金属化合物と炭素供給源とを含む混合液を調製する第１段階と、表面上でカーボンナノチューブが合成される支持体を混合液に添加する第２段階と、支持体が添加された混合液に超音波を照射する第３段階と、を含むことを特徴とする単層カーボンナノチューブの合成方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the ferrite magnet is provided with a finely grinding step of pulverizing a composition including ferrite powder and SiO_2 powder having 50-150 m^2/g specific surface to obtain pulverized powder, a molding step of compacting the slurry in which the pulverized powder is dispersed in the dispersion medium in a magnetic field to obtain a compact and a step of firing the compact.例文帳に追加

本発明は、フェライト粉末と比表面積が５０〜１５０ｍ^２／ｇのＳｉＯ_２粉末とを含む組成物を粉砕して粉砕粉末を得る微粉砕工程と、粉砕粉末を分散媒に分散させたスラリーを磁場中で加圧成形することにより成形体を得る成形工程と、成形体を焼成する工程と、を備えることを特徴とするフェライト磁石の製造方法である。 - 特許庁

The method for producing the polyurethane film comprises a step of coating a substrate with a polyurethane solution, a step of dipping the substrate in a coagulation bath containing at least one non-solvent and coagulating the polyurethane film in which the pores are distributed from the surface to the interior and a step of removing the residual solvent and the non-solvent in the polyurethane film with a non-polar or a low-polar solvent.例文帳に追加

また、ポリウレタン溶液を基材に塗布する工程、少なくとも１つの非溶剤を含む凝固浴に前記基材を浸漬して、細孔が表面から内部に分布するポリウレタン膜を凝固させる工程、および非極性または低極性溶剤により前記ポリウレタン膜中の残留溶剤および非溶剤を除去する工程、を備えるポリウレタン膜の製造方法である。 - 特許庁

This method is provided with a step for inputting an original element to be added on the surface of a paper product on a home page picture, a step for confirming and ordering the paper product displayed on the home page picture in the state of really adding the inputted original element and a step for sending data on the inputted original element onto a communication line in the case of ordering.例文帳に追加

紙製品の表面に付されるオリジナル要素をホームページ画面上で入力するステップと、入力された上記オリジナル要素を実際に付した状態でホームページ画面上に表示される紙製品を確認して発注するステップと、この発注時に、上記入力されたオリジナル要素に関するデータを通信回線上へ送出するステップとを具備している。 - 特許庁

The step B comprises step b1 for forming a precursor layer by arranging function liquid containing the precursor material of semiconductor on the corresponding underlying surface in the opening, and step b2 for heating the precursor layer to obtain at least one semiconductor layer composed of the above-mentioned semiconductor.例文帳に追加

さらに、前記工程Ｂは、前記複数の半導体層の少なくとも一つについて、前記開口部内の対応する下地表面上に半導体の前駆材料を含有した機能液を配置して、前駆層を形成する工程ｂ１と、前記半導体からなる前記少なくとも一つの半導体層が得られるように、前記前駆層を加熱する工程ｂ２と、を含んでいる。 - 特許庁

A method for acquiring an image from a sample flake repeats steps of acquiring an image of a surface layer of a sample (1) and steps of slicing the surface layer of the sample and exposing the next flake on the surface, and includes the step of exposing the sample to a staining agent after at least one of the steps of slicing the surface layer of the sample.例文帳に追加

試料(1)の表面層の画像を取得するステップと、前記試料の表面層を除去し、それにより次の薄片を表面にもたらすステップとが繰り返される、試料の薄片から画像を得る方法であって、少なくとも、前記試料の表面層の除去のうちの一つの除去の後に、前記試料は染色剤にさらされるステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern form includes a step in which an agent for transforming the surface material of a substrate is attached to the surface material of the substrate in the shape of a pattern by the use of a pattern, so as to chemically transform the surface material of the substrate, thereby forming a pattern of a region chemically transformed on the surface material of the substrate.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材の表面材料を化学的に変性するために、版を用いて基材の表面材料に前記表面材料を変性する変性剤をパターン状に付着させ、基材の表面材料に化学的に変性された領域のパターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The oxidation-resistant rare earth based magnet powder has a coating layer principally comprising a pigment on the surface thereof, and its producing process comprises a step for mixing rare earth based magnet powder and processing liquid containing a pigment, and a step for drying the processing liquid containing a pigment adhering to the surface of the rare earth based magnet powder.例文帳に追加

本発明の耐酸化性希土類系磁石粉末は、顔料を主たる構成成分とする被着層を表面に有してなることを特徴とするものであり、その製造方法は、希土類系磁石粉末と顔料含有処理液を混合した後、顔料含有処理液が表面に付着した希土類系磁石粉末を乾燥することを特徴とするものである。 - 特許庁

The method of forming the dielectric film includes a step for dipping a base material having arithmetic average surface roughness Ra ≥1/2 and ≤2 times of average particle diameter of dielectric particles and a counter electrode into a solvent containing the dielectric particles and a step for depositing the dielectric particles on the surface of the base material by applying voltage between the base material and the counter electrode.例文帳に追加

誘電体粒子を含む溶媒中に、誘電体粒子の平均粒子径の１／２倍以上２倍以下の算術平均粗さＲａの表面を有する基材と、対電極と、を浸漬する工程と、基材と対電極との間に電圧を印加して基材の表面に誘電体粒子を堆積する工程と、を含む、誘電体膜の形成方法である。 - 特許庁