「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

A laminate 20 is formed on a silicon substrate 11 by repeating a step of depositing a boron-doped silicon layer 72, forming a silicon nitride layer 78 on the top surface thereof, depositing a non-doped silicon layer 73, and forming a silicon nitride layer 79 on the top surface of the non-doped silicon layer.例文帳に追加

ボロンドープドシリコン層７２を堆積させ、その上面にシリコン窒化層７８を形成し、ノンドープドシリコン層７３を堆積させ、その上面にシリコン窒化層７９を形成する工程を繰り返すことにより、シリコン基板１１上に積層体２０を形成する。 - 特許庁

Further, since the overhead transmission line 1A includes step differences corresponding to height differences each between the protrusion strip 3 and the recessed strip 4 on its outer circumference, and has a surface shape rich in concavo-convex changes, snow hardly sticks on its outer circumference surface to enable to obtain a slow snow accretion effect.例文帳に追加

また、架空送電線１Ａは、その外周に凸条３と凹条４の高低差に応じた段差を有し、凹凸の変化に富んだ表面形状を有しているので、その外周面に雪が着雪しにくくなっており、難着雪効果を得ることができる。 - 特許庁

To provide a polishing pad formed so that a global step is small, dishing of a metal wiring hardly occurs, and the occurrence of dust and scratch is low, in a polishing pad to mechanically flatten the surface of an insulation layer, formed on a silicon substrate, or the surface of a metallic wiring.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、ダストやスクラッチの発生が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a device for and a method of polishing a flange surface of a quartz glass-made tube with flange like a quartz glass-made outer tube which can perform lap polishing of the flange surface in a step of the end of manufacture (condition after outer tube with flange).例文帳に追加

製作最終段階（フランジ付きアウターチューブとなった後の状態）でフランジ面のラップ・ポリッシュを行うことができる石英ガラス製アウターチューブのようなフランジ付石英ガラス製チューブのフランジ面研磨装置及びこのフランジ面の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To realize two-dimensional distribution of the ion implantation amount in a surface in response to a shape corresponding to a non-uniform pattern in the surface, which is likely to be generated in a process of utilizing plasma and in an annealing process when ion implantation is performed without using step rotation of a wafer.例文帳に追加

ウエハのステップ回転を用いることなくイオン注入を行う場合に、プラズマを利用した工程及びアニール工程で発生しやすい面内不均一パターンに対応した形状に対応した２次元イオン注入量面内分布を実現する。 - 特許庁

When the wire 3 introduced from the cutout part 13 is wound along the inside surface 12b of the flange 12, a bent portion 3a of the wire 3 can be offset by the diameter of the wire 3 to the outside surface 12a side of the flange 12 by means of the step D.例文帳に追加

このため、切欠部１３から導入したワイヤ３を鍔部１２の内側面１２ｂに沿って巻き付ける際に、ワイヤ３の屈曲部分３ａを段差Ｄによってワイヤ３の直径分だけ鍔部１２の外側面１２ａ側にオフセットさせることができる。 - 特許庁

The surface position control for the substrate following the detection of the position information on the substrate surface, and frequency response characteristics are executed, while permitting the mask and the substrate to be moved in a synchronous fashion, and a mask pattern is transferred to each shot region which is to be an object of exposure (in step 425).例文帳に追加

そして、マスクと基板とが同期移動されつつ、基板表面の位置情報の検出及び周波数応答特性に従った基板の面位置制御が実行され、露光対象となる各ショット領域にマスクパターンがそれぞれ転写される（ステップ４２５）。 - 特許庁

Engagement projections 20c each formed with a slope externally projected and on which the base end of a core member 20 is spread in a tapered way and a step connected to the outer peripheral surface of the core member 20 from its nearly highest projected part are formed on the outer peripheral surface of a middle part of the core member 20.例文帳に追加

コア部材２０の中間部の外周面に、外方に突出してコア部材２０の基端側がテーパ状に拡がる傾斜面とその略最大突出部からコア部材２０の外周面に連なる段差部とを備えた係合突部２０ｃを設ける。 - 特許庁

In the backwash step, a filtered substance 40b can be separated by the action of both the pressure of air blowing out of the inside surface of the filter 16 and the deformation or vibration of the filter cloth surface, enabling blinding to be efficiently prevented.例文帳に追加

これにより、逆洗工程において、濾過フィルタ１６の内表面から噴出する空気圧と、濾布表面の変形や振動の両方の作用により、濾過物質４０ｂを剥離させることができ、目詰まりを効率的に解消することが可能となる。 - 特許庁

To provide a tumbling molding method for a photocatalyst which produces the pure photocatalyst of a large surface area by using a pan type tumbling device or a tumbling device utilizing orbital motion without subjecting the photocatalyst to a firing step for forming the photocatalyst onto a base material surface.例文帳に追加

基材表面上に光触媒を固定するのに焼成工程を経ずに、パン型転動装置または公転運動を利用した転動装置を用いて、表面積の大きい、純粋な光触媒を生産する光触媒の転動成形方法を提供する。 - 特許庁

To prevent noise and vibration from occurring when a ball screw is operated by eliminating the abrupt change of the contact point of balls with a female screw groove in a boundary line between a worked surface and a non-worked surface formed in working for eliminating the step of a joint between a circulation groove and the female screw groove.例文帳に追加

循環溝と雌ねじ溝とのつなぎ目の段差を解消する加工時に形成される加工面と非加工面の境界線におけるボールと雌ねじ溝の接触点の急激な変化を解消し、ボールねじ作動時の異音、振動の発生を防止する。 - 特許庁

A joined part, formed by a joining method having a step in which a boundary surface 15 of a metallic material is welded between a primary ductile iron part 11 and a secondary steel part 12, has the boundary surface 15 arranged between the primary and secondary parts 11 and 12.例文帳に追加

第１の延性鉄部品１１及び第２の鋼部品１２の間に金属質材料の境界面１５を溶着させる段階を備えた接合方法より形成した接合部は、第１及び第２の部品１１、１２の間に配置した境界面１５を持つ。 - 特許庁

The nail body driving part 32 is formed at a base portion between a step part formed at the front surface bottom part of the solid part 3 and the solid part 3, and a part or all of the nail body driving part 32 is formed from the surface portion of the solid part 3 toward the inside of the solid part 3.例文帳に追加

そして釘体打ち込み部３２を、雄実３の表面側の付根部分に設けた段部と雄実３との付根部分とし、さらに釘体打ち込み部３２の一部又は全部が、雄実３の表面部分から雄実３内部に向かって形成されている。 - 特許庁

This disk 12a for the toroidal type continuously variable transmission is provided with the traction surface T contacting with a power roller and formed with a recess portion 76 whose wall thickness is reduced with a step difference 75 set to a boundary in the end of the traction surface in the side of a small diameter portion 70 of the disk 12a.例文帳に追加

パワーローラと接するトラクション面Ｔを有するトロイダル型無段変速機のディスク１２ａであって、ディスク１２ａの小径部７０側のトラクション面Ｔの端に段差７５を境として肉厚が減じる逃げ部７６が形成されている。 - 特許庁

In the end face grinding step, at least one of an inner circumferential side surface and an outer circumferential side surface of the glass substrate for the magnetic recording medium is ground using a grinding wheel to which abrasive grains have been adhered with a binder.例文帳に追加

また、側面部の平滑性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板に高い生産性で研削する端面研削方法、及び該端面研削方法を用いた端面研削工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

In the second step, a light L2 with different transmission is used as a predetermined light L to control the distribution of light intensity, and a micro irregular structure 3a decided beforehand by device designing is precisely formed on a boundary surface from the one surface of the transparent substrate 2 in the semiconductor layer 3.例文帳に追加

第２工程は、所定の光Ｌとして、異なる透過率の光Ｌ２を用いて光の強度分布を制御して、半導体層３の透明基板２の一面との界面に予めデバイス設計にて決めた微細凹凸構造３ａを精度良く形成する。 - 特許庁

A nitride semiconductor substrate having a two-monolayer step structure on the substrate surface is obtained by heat treating a GaN single crystal substrate 1 having a polished substrate surface in an atmosphere containing H_2 gas at a substrate temperature of 800°C or higher and 1,000°C or lower.例文帳に追加

基板表面が研磨されたＧａＮ単結晶基板１をＨ2ガスを含んだ雰囲気中、基板温度８００℃以上１０００℃以下で熱処理することにより、基板表面が２モノレイヤーステップ構造となった窒化物系半導体基板が得られる。 - 特許庁

In core 3 formation step, when the irradiation light L reaches the bottom surface of the PET substrate 1 part, a greater part of the irradiation light L is absorbed in the colored layer 5 and, as a result, irradiation light L reflected at the bottom surface of the PET substrate 1 part almost can be suppressed.例文帳に追加

このコア３形成工程において、照射線ＬがＰＥＴ製基板１部分の底面に達した際に、その殆どを上記着色層５に吸収させ、ＰＥＴ製基板１部分の底面で反射する照射線Ｌを殆どなくす。 - 特許庁

Thereby, an inner circumference surface, slide surface 23 of the axle insertion through hole 22 can be machined under a condition that raw material 21' of the swash plate 21 is fixed on a table 32A of a machining center 32 by using the fixing jig 33 which is engaged with the jig engagement step part 24.例文帳に追加

これにより、治具係合段部２４に係合させた固定治具３３を用いて、マシニングセンタ３２のテーブル３２Ａに斜板２１の素材２１′を固定した状態で、軸挿通穴２２の内周面、摺動面２３に対する機械加工を行うことができる。 - 特許庁

At the discharge step the position of the electrode with respect to the front surface of the plate-shaped body and the value of the energy to be supplied to the electrode for discharging electricity are decided so that breakages are caused mainly in the vicinity of the rear surface of the plate-shaped body by the Hopkinson effect.例文帳に追加

放電工程において、板状体の表面に対する電極の位置と、放電を発生させるため電極に供給されるエネルギーの値とは、ホプキンソン効果によって板状体の主に裏面近傍において破断が生じるように決定されている。 - 特許庁

The method of sticking the masking tape onto the substrate on which a coating liquid is applied is provided with a sticking step for forming a non-adhesion part which is not adhered to the substrate, on the adhesion surface of the masking tape and sticking the adhesion surface except the non-adhesion part onto the substrate.例文帳に追加

塗布液が塗布される基板上にマスキングテープを貼付する貼付方法において、マスキングテープの接着面に基板と接着しない非接着部分を形成し、当該非接着部分以外の接着面を基板に貼付する貼付工程を備える。 - 特許庁

The method also comprises the step of moving the part 6 toward the surface 5 to press the material 7, thereby pressing the terminal 2a by the part 5 via the material 7, and filling the material 7 in the cavity 4 while closely contacting the terminal 2a with the surface 5.例文帳に追加

押圧部６を端子配置面５に向かって移動させて成形材料７を押圧することによって、成形材料７を介して押圧部６で端子部２ａを押圧して端子部２ａを端子配置面５に密着させながら成形材料７をキャビティ４に充填する。 - 特許庁

Moreover, since the upper surface of a dielectric film (32) being in contact with the lower surface of wiring (34) of a peripheral circuit region, extends to a memory cell region so as to be in contact with the side of the capacitor (33), a step height between the peripheral circuit region and the memory cell region is remarkably reduced.例文帳に追加

また、周辺回路領域の配線（３４）の下面に接している絶縁膜（３２）の上面がメモリセル領域に延在して、キャパシタ（３３）の側部に接しているため、周辺回路領域とメモリセル領域の間の段差は著しく減少する。 - 特許庁

Therefore, even if the lower part 12A of the dash panel 12 and the front part 10A of the floor panel 10 are inclined/deformed at vehicle front surface collision, a step surface support part 20F of the inflated/deployed foot airbag 20 becomes approximately horizontal viewed from a vehicle longitudinal direction.例文帳に追加

このため、車両前面衝突時にダッシュパネル１２の下部１２Ａとフロアパネル１０の前部１０Ａが傾斜変形しても、膨張展開したフットエアバッグ２０の踏面支持部２０Ｆが車両前後方向から見て略水平となるようになっている。 - 特許庁

Since a pulse laser light LB1 passing from a beam shaping optical system 34 moves from one end to the other end on a surface of a object to be treated WO as a line beam image extending in the direction Y, a step scanning is carried out over the entire surface of the object to be treated WO.例文帳に追加

ビーム整形光学系３４からのパルス状のレーザ光ＬＢ1は、Ｙ方向に延びる線状ビーム像として処理対象物ＷＯ表面側で一端から他端に移動するので、処理対象物ＷＯの表面全体のステップ走査が行われる。 - 特許庁

The upper and lower jaws 21 are screwed respectively on the supporting part and the lower vise part, and step portion flanks are each mounted in two places with spring plungers 23, whose tips are sprung out into engaging holes in the surface plate 40 to support the surface plate 40 reliably on the jaw 21.例文帳に追加

又、口金２１は上部は支持部へ、下部はバイス下部へそれぞれネジ止めされ、段部側面には２ヶ所にスプリングプランジャ２３が装着され、スプリングで先端が突出して定板４０の係合穴に入り込み、定板４０は口金２１に確実に支持される。 - 特許庁

The opening lower end 43a of the element case 42 having a step part 46 formed thereon is a lyophilic site having less surface tension to a liquid than the center site of the protective film 48, and prevents the liquid from adhering onto an ultrasonic emission surface of the protective film 48.例文帳に追加

素子ケース４２の開口下端４３ａは、段差部４６が形成され、保護フィルム４８の中心部位より液体に対する表面張力を小さくした親液性部位であり、保護フィルム４８の超音波放射面に液体が付着するのを回避する。 - 特許庁

The etching processing method includes (a) a step of performing etching processing of the surface of a SiC substrate 2, both surfaces of which have been mirror-polished with reactive plasma, and at the same time, irradiating the surface or the backside of the SiC substrate 2 with a laser light 14.例文帳に追加

本発明に係るエッチング処理方法は、（ａ）表裏両面を鏡面研磨されたＳｉＣ素基板２の表面を反応性プラズマによりエッチング処理するとともに、ＳｉＣ基板２の表面または裏面にレーザ光１４を入射する工程を備える。 - 特許庁

When the ZnO thin film 2 and the ZnO laminate 10 is laminated, the film and body are grown at a growing temperature of 750°C or higher, or are formed to have a prescribed step structure on the film surface so that the roughness of the film surface falls within a prescribed range.例文帳に追加

ＺｎＯ系薄膜２やＺｎＯ系積層体１０を形成する場合には、成長温度７５０℃以上で成長させるか、又は、膜表面の粗さが所定の範囲になるように、膜表面のステップ構造が所定の構造となるように形成する。 - 特許庁

A recessed portion 15 one step depressed from a bottom surface in the surrounding is formed at a bottom portion of the water storage tank 10 for temporarily storing drain and an auxiliary exhaust port 14 is provided at its side surface, and an auxiliary pipe 42 for performing natural flow due to deadweight of the drain is connected.例文帳に追加

排水を一時的に溜める貯留槽１０の底部に、周りの底面より一段窪んだ凹部１５を形成してその側面に補助排出口１４を設け、排水の自重による自然流下を行うための補助排出管４２を接続する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of suppressing occurrence of pin holes over a long period of time without deteriorating the sensitivity or chargeability of a photoreceptor even when a charging step of the surface of the photoreceptor is carried out by means of a discharging in the vicinity of the surface.例文帳に追加

感光体表面の帯電工程が表面近傍での放電により行われる場合においても、感光体の感度や帯電性能を低下させることなく長期間に亘ってピンホールの発生を抑制できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In an Ar ion implantation step, ion implantation conditions (1.0×10^14 ions/cm^2 or less, at 10 keV) are provided not for making noncrystalline but for reforming near the surface of a source/drain region 9 and the surface of a polycrystalline silicon control gate 7.例文帳に追加

Ａｒイオン注入工程において、ソース/ドレイン領域９の表面および多結晶シリコン制御ゲート７の表面付近を非晶質化しないが改質するようなイオン注入条件(１.０×１０^１４イオン数/ｃｍ^２以下、１０ｋｅＶ)とした。 - 特許庁

In the removing step, one end side of the wiring pattern 104 is removed so that a shortest distance from one end of the wiring pattern 104 to an end surface of the metal substrate 102 through a surface of the insulating layer 103 becomes longer than a thickness of the insulating layer 103.例文帳に追加

除去工程では、配線パターン１０４の一端から絶縁層１０３の表面を経て金属基板１０２の端面に到達するまでの最短距離が、絶縁層１０３の厚みよりも長くなるように、配線パターン１０４の一端側を除去する。 - 特許庁

The method for producing the charging member comprises a step to perform surface treatment of a conductive member containing a binder and electron conductive particles dispersed in the binder by irradiating the surface with ultraviolet rays emitted from a light source placed outside of the conductive member.例文帳に追加

バンダーと、該バインダーに分散してなる電子導電性粒子とを含有する導電性部材の表面に、該導電性部材の外部に配置した光源からの紫外線を照射して表面処理を行う工程を有する帯電部材の製造方法である。 - 特許庁

A peripheral surface 51 of this transparent reflector 5 comprises an annular entrance plane 51a on which light of the light-emitting surface f is incident, and a belt-shaped radiation plane 51b which is continuously formed so as to be perpendicular to this annular entrance plane 51a, and becomes a step shape as a whole.例文帳に追加

この透明反射体５の側周面５１は、発光面ｆの光が入射する環状入射面５１ａと、この環状入射面５１ａに対して垂直に連成する帯状放射面５１ｂとで構成され、全体として階段状となっている。 - 特許庁

It is determined whether or not a road surface gradient difference is present between wheel bases at the stopped position (Steps S2-S14), and when it is determined that the road surface gradient difference is present between the wheel bases (the determination of Step S24 is "No"), the target braking force Ft is corrected (Steps S26-S36).例文帳に追加

停車している位置でホイールベース間に路面勾配差があるか否かを判断し（ステップＳ２〜Ｓ１４）、ホイールベース間に路面勾配差があると判断したときに（ステップＳ２４の判定が“No”）、目標制動力Ｆｔを補正する（ステップＳ２６〜Ｓ３６）。 - 特許庁

Thus, the air flow F collided with the collision surface 32 can be restrained from separating from the step height part 28, and generation of the turbulent flow in the vicinity of the guide surface 34 can be restrained, and adverse influence on a steering feeling of the vehicle 12 can be restrained.例文帳に追加

このため、衝突面３２に衝突した空気流Ｆが段差部２８から剥離することを抑制できて、案内面３４の近傍における乱流の発生を抑制でき、車両１２の操舵フィーリングに悪影響を与えることを抑制できる。 - 特許庁

In a manufacturing step of the machine tool, the level 24 is placed on upper faces 13a and 13a' of a pair of parallel guide rails 13 and 13' installed on a bed 11, and a part of the specified upper faces are set to be a first reference surface 25 and a second reference surface 27.例文帳に追加

工作機械の製造工程において、ベッド１１に敷設した一対の平行なガイドレール１３，１３′の上面１３ａ，１３ａ′に対し水準器２４を載せて一部の特定された上面を第１基準面２５及び第２基準面２７とする。 - 特許庁

In the magnetic head wherein the heating element 22 is disposed between the recording elements 21, 23 or reproducing elements 20, 24, a flying-surface 3 around the heating element 22 is processed into a depression shape by supplying power to the heating element 22 in a polishing step to process the flying-surface 3 of a slider.例文帳に追加

記録素子２１、２３または再生素子２０，２４の間に加熱素子２２が配置された磁気ヘッドにおいて、スライダ浮上面３を加工する研磨工程で加熱素子２２に電力を供給することで、加熱素子２２付近の浮上面３を凹状に加工する。 - 特許庁

The both ends of the front of the base of the device body projecting an image from a lens provided on the front surface are placed on a placing part of a lens cover having the placing part formed by notching a side surface to be step-like, so that the device body is inclined.例文帳に追加

側面を階段形状に切り欠いて形成される載置部を有するレンズカバーの前記載置部に、前面に設けられたレンズから映像を投写する装置本体の底面前方の両端部を載置することによって前記装置本体を傾ける。 - 特許庁

The colorimetric device 80 is provided with a step 84a between a conveyance surface of the colorimetric device 80 and a discharge surface 84 as a discharging mechanism for putting the test print TP for setup after color measurement off a conveyance path of the colorimetric device 80.例文帳に追加

測色装置８０には、測色を終えたセットアップ用テストプリントＴＰを、測色装置８０における搬送経路から退避するための排出機構として、測色装置８０における搬送面と排出面８４との間に段差８４ａを設けている。 - 特許庁

To obtain a device and a method for accurately detecting the surface position of a substrate and a method and a device for aligning even when a pattern having a large step difference is formed by a plurality of layers on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面に複数のレイヤによって大きな段差を有するパターンが形成されている場合でも、この基板の面位置を精度良く検出可能である面位置検出方法及び面位置検出装置、並びに露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

This method is designed to remove contaminating impurities adhered to the surface of a wafer and clean the surface thereof, and it includes such a heating step for heating the wafer in an oxidizing atmosphere that converts the contaminating impurities into oxide or hydroxide and eliminates them.例文帳に追加

本方法は、ウエハ表面に付着した汚染不純物を処理してウエハのの表面を清浄化する方法であって、ウエハに酸化性雰囲気内で熱処理を施す工程を備え、汚染不純物を酸化物、又は水酸化物に転化し、脱離させる。 - 特許庁

The method of etching a substance film on a semiconductor wafer set in a reactor chamber, using a surface wave plasma etching system having an insulation plate and a glass plate for transmitting a surface wave generated by a microwave to the reactor chamber, comprises a step of generating a surface wave plasma of Ar or/and Xe to preheat the glass plate and a step of etching the substance film.例文帳に追加

絶縁板及び反応チャンバーに表面波を伝えるガラス板を具備し、マイクロ波によって表面波が発生する表面波プラズマエッチング装置により、前記反応チャンバー内に載置された半導体ウェーハ上の物質膜をエッチングする方法において、前記方法は、アルゴンまたは／およびキセノンの表面波プラズマを発生させて前記ガラス板を予熱するステップと、前記物質膜をエッチングするステップとを含むことを特徴とする半導体ウェーハ上の物質膜エッチング方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical laminate having an alignment layer of a lyotropic liquid crystal compound, formed on the surface of the rubbed base film includes: a step A of forming a water soluble thin film on the surface of the rubbed base film; and a step B of forming an alignment layer of the lyotropic liquid crystal compound by applying an aqueous solution containing the lyotropic liquid crystal compound on the surface of the water soluble thin film.例文帳に追加

ラビング処理された基材フィルムの表面に、リオトロピック液晶化合物の配向層を形成する光学積層体の製造方法であって、ラビング処理された前記基材フィルムの表面に水溶性薄膜を形成する工程Ａと、前記水溶性薄膜の表面にリオトロピック液晶化合物を含む水溶液を塗布し、リオトロピック液晶化合物の配向層を形成する工程Ｂとを、含むことを特徴とする光学積層体の製造方法。 - 特許庁