「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(88ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a molding method for a cam shaft attaining enhancement of molding freedom of a side surface swelling part by a preliminary shaft pressing member and easiness of a machining step at low pressure-fitting load at insertion of the preliminary shaft to a cam lobe shaft hole.例文帳に追加

予備シャフト押圧部材による側面隆起部の成形自由度の向上と、予備シャフトのカムロブ軸孔挿入時に、低圧入荷重で加工工程簡易なカムシャフトの成形方法の提供。 - 特許庁

Then, on a wall surface 202 of the bathtub 3 positioned on the side of one or the other long side 23 of the frame 21, a step part 28 in which a person can sit while bathing into the bathtub 3 is swollen to the inside and provided.例文帳に追加

そして、框２１の一方又は他方の長辺２３側に位置する浴槽３の壁面２０２に、浴槽３への入浴時に腰掛け可能な段部２８を内方へ膨出させて設けている。 - 特許庁

A power meter 28 that is the loading device, and a step-up gear 32 having an input shaft 20a, that is connected to a drive shaft 28a of the power meter 28 through a joint 30, are fitted to the slide surface plate 26.例文帳に追加

スライド定盤２６には負荷装置である動力計２８と、動力計２８の駆動軸２８ａに継手３０を介して連結された入力軸２０ａを有する増速機３２とが取着される。 - 特許庁

To provide a knit cover material for use in a stamping forming step comprising sticking it on part or the whole of the surface of a form simultaneously with its formation, and having good stickability on the form.例文帳に追加

成形と同時に成形体の一部、または全部の表面にニット表皮材を貼着するスタンピング成形に用いる、成形体との貼着性に優れるスタンピング成形用ニット表皮材を提供する。 - 特許庁

After the inclined cam face 13 comes into surface contact with the sliding stepped face 6, an inward step edge (f) of the sliding face 6 is pressed n the course of the inclined cam face 13 to rotate the rotary shaft 1 up to a final angle.例文帳に追加

傾斜カム面１３が摺動段面６と面接触してから傾斜カム面１３の途中点で摺動段面６の内側段エッジｆを押してロータリ軸１を最終角度まで回転させる。 - 特許庁

To provide a sliding door support structure easily washable in water, without fear of dust entry into a room, while realizing barrier-free condition without a step between a floor surface and an outside opening part.例文帳に追加

床面と外部開口部との間に段差がないバリアフリー化を実現しつつ、土、砂埃等が室内に侵入するおそれがなく、容易に水洗いが可能な引き戸の支持構造を提供する。 - 特許庁

In particular, the sticking step is conducted by sticking the base layer 104 to the transparent substrate 1000 while pressing the surface of the base layer 104 by moving a pressing region from any one of corners (for example, the corner E) of the transparent substrate 1000.例文帳に追加

特に、貼り付け工程は、透明基板１０００のいずれか１つの角（例えば角Ｅ）から、押圧領域を移動させながら、下地層１０４の表面を押圧して貼り付けて行われる。 - 特許庁

Step 560 for establishing a jet spraying program 570 for removal of a coating, and the jet spraying program 570 for removing the surface base material to each predetermined reduced dimensional profile are established.例文帳に追加

皮膜を除去するためにジェット吹付けプログラムを設定するステップ５６０、表面の素地材料を所定の縮小寸法プロファイルの各々まで除去するためのジェット吹付けプログラム５７０が設定される。 - 特許庁

By forming each color layer 13a-13c of the color filter thereon, the top surface of the color filter is flattened with no step while maintaining an optimum thickness for each color layer 13a-13c.例文帳に追加

その上にカラーフィルタの各色層１３ａ〜１３ｃを形成することによって、各色層１３ａ〜１３ｃの最適膜厚を保持しつつ、カラーフィルタの上部表面を揃えて平坦化することができる。 - 特許庁

On a lower portion surface to the step 8 of this package base 3, an insulating layer 6 is adhered via an AuGe solder layer 7 and a terminal for an electrode wiring is formed by providing an electrode layer 5 on the insulating layer 6.例文帳に追加

このパッケージ基台３の段差８の下側面に絶縁層６をAuGe系半田層７を介して接着し、該絶縁層６上に電極層５を設けて電極配線用ターミナルを形成する。 - 特許庁

The upper wall 69 is three-dimensionally formed by the step surface 66f provided to the upper wall 69, and the rigidity of the upper wall 69 is increased, the resonance of the upper wall is suppressed, and the noise of intake air is reduced.例文帳に追加

上壁６９に設けられた階段面６６ｆによって上壁６９が立体形状となり、上壁６９の剛性が高くなって、上壁の共振が抑えられ、吸気騒音が低減される。 - 特許庁

A manufacturing method includes a step of imparting an image recording composition on an aluminum plate on a hydrophilic cylindrical surface, for instance, on a plate cylinder of a printer by transferring the composition from a donor material.例文帳に追加

この方法は、親水性円筒状表面、例えば印刷機械の版シリンダー上に設置されたアルミニウム版に像記録組成物をドナー材料からの移送により付与する段階を含んでなる。 - 特許庁

Next, (d) ion milling is performed to a surface planarized by the polishing in a direction forming a first angle with a stacking direction, so that a step is formed, wherein the main magnetic pole recesses with respect to the surrounding non-magnetic film.例文帳に追加

次に、（ｄ）研磨により平坦化された面に対して、積層方向と第１の角度をなす方向からイオンミリングを行い、主磁極が周囲の非磁性膜より落ち込んだ段差を形成する。 - 特許庁

In the step (c), illumination light of visible light or infrared light is applied onto the surface of the substrate 12 in a duration at least after the wet etching is started before a chemical liquid is brought into contact with the substrate.例文帳に追加

工程（ｃ）では、少なくともウェットエッチングを開始してから薬液が基板と接液するまでの期間において基板１２の表面に可視光又は赤外光からなる照射光を照射する。 - 特許庁

In addition, a method of manufacturing the solar cell has a step of forming a thin film containing Zn, Sn and O in a surface of a transparent electrode film by a sputtering method using the sputtering target mentioned above.例文帳に追加

また、本発明の太陽電池の製造方法は、上記スパッタリングターゲットを用いたスパッタ法により、透明電極膜の表面にＺｎ、Ｓｎ及びＯを含有する薄膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a magnetic head slider material capable of reducing the step of an air bearing surface and having sufficient strength, a magnetic head slider using the same, and a method for manufacturing the magnetic head slider material.例文帳に追加

エアベアリング面の段差の低減を図ることができ、かつ十分な強度を有する磁気ヘッドスライダ用材料、これを用いた磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

Additionally, at least a surface of a side of a step portion between the first electrode pad 420 and the second electrode pad 440 is formed from an insulating film (a protective insulating film 260 or a protective insulating film 500).例文帳に追加

また、第一電極パッド４２０と第二電極パッド４４０との間の段差部のうち、側面の少なくとも表面は、絶縁膜（保護絶縁膜２６０または保護絶縁膜５００）で形成されている。 - 特許庁

The step part 101d has a projecting portion 302 to a side surface on which the optical filter 103 is fitted, and the solid-state image pickup element 104 and the optical filter 103 are formed separated by a predetermined interval.例文帳に追加

段差部１０１ｄは、側面に光学フィルタ１０３が符合される凸部３０２を有し、固体撮像素子１０４と光学フィルタ１０３とが所定の間隔を隔てるように形成される。 - 特許庁

In a direction of an axial line O, the distance between a base end 58 as an end portion on the side of a combustion chamber of the step portion 54 and an end surface 57 of the main body fitting 5 is not less than 1 mm and not more than 7 mm.例文帳に追加

軸線O方向において、この段部５４の燃焼室側の端部である基端５８と、主体金具５の先端面５７との距離Ｌ０は、１ｍｍ以上７ｍｍとなっている。 - 特許庁

The Fe-Mn-Si-C powder reduces and activates the particle surface of the iron alloy powder, and thereby a so-called sintering neck is formed between the particles of the iron alloy powder during the carburizing step.例文帳に追加

Ｆｅ−Ｍｎ−Ｓｉ−Ｃ粉末が鉄合金粉末の粒子表面を還元して活性化することにより、浸炭工程中に鉄合金粉末の粒子間にいわゆる焼結ネックが形成される。 - 特許庁

A step surface 16 which is taller than the Fresnel surfaces 15 is provided at the outer peripheries of the Fresnel surfaces 15 so that the two Fresnel surfaces 15 are sealed especially when the two Fresnel lenses are put one over the other.例文帳に追加

特に２枚のフレネルレンズを重ねた際に２枚のフレネル面１５を密閉した構造になるように、フレネルレンズのフレネル面１５より外周に、フレネル面１５より高い段差面１６が設けられている。 - 特許庁

This method for forming a passive film includes a step for immersing an aluminum material in alkaline electrolyzed water obtained by the electrolysis of water, when forming the passive film of an aluminum oxide on the surface of the aluminum material.例文帳に追加

アルミニウム材の表面に酸化アルミニウムから成る不動態皮膜を形成する際に、該アルミニウム材を、水の電気分解によって得られたアルカリ性電解水中に浸漬することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a solar battery comprises a step of forming a concavity and a convexity on the surface of a polysilicon substrate by a reactive ion etching method using first etching gas comprising H_2O.例文帳に追加

Ｈ_２Ｏを含む第一のエッチングガスを用いた反応性イオンエッチング法によって、多結晶シリコン基板の表面に凹凸を形成する工程を備えてなる太陽電池の製造方法とする。 - 特許庁

In a cutting step with a dicer, a slit 4 crossing at a direction α, from the edge face 10b to the edge face 10d, is formed on the electrode 11 on the surface 10a of the dielectric board 10.例文帳に追加

その後、ダイサーによる切削によって、誘電体基板１０の表面１０ａ上の電極１１に、端面１０ｂと端面１０ｄを結ぶ方向αに交差する向きのスリット４を形成する。 - 特許庁

This manufacturing method adopts a constitution having a step of forming the protective layer R formed from the metal material on the surface of a substrate B formed from a resin material by using a cold-spraying method.例文帳に追加

樹脂材から形成される基材Ｂの表面上に、コールドスプレー法を用いて金属材から形成される保護層Ｒを形成する保護層形成工程を有するという構成を採用する。 - 特許庁

Then, by using a gas containing halogen, first dry etching is executed for the surface 3a of the wafer 3, while applying first bias power to a chuck 24 for placing the wafer 3 (first dry etching step S9).例文帳に追加

次に、ハロゲンを含むガスを用いて、ウェハ３を載置するためのチャック２４に第１のバイアス電力を印加しながら、ウェハ３の表面３ａに第１のドライエッチングを施す（第１のドライエッチング工程Ｓ９）。 - 特許庁

In the substrate disposing step, the GaN substrate 10 is disposed on a susceptor 4, having a surface layer containing silicon carbide (SiC) via an intermediate member 12 made of a material different from the silicon carbide.例文帳に追加

基板配置工程では、ＧａＮ基板１０を、炭化珪素（ＳｉＣ）を含む表面層を有するサセプタ４上に、炭化珪素とは異なる材料からなる中間部材１２を介して配置する。 - 特許庁

In the first step, the cold spray device 30 jets first copper powder 41 having a particle diameter R1 smaller than the thickness V1 of the aluminum film 12, and thereby an underlayer 21 is formed on the surface of the aluminum film 12.例文帳に追加

第１工程では、コールドスプレー装置３０が、アルミ膜１２の厚さＶ１より小さい粒径Ｒ１の第１銅粉末４１を噴射することにより、アルミ膜１２の表面に下地層２１を形成する。 - 特許庁

The joints 2 are formed between the adjacent panels 1 by moving the panels 1 in the connecting structure so as to bring the front surface side end part of the other panel 1b into contact with the step 4 of the one panel 1a.例文帳に追加

パネル１を連結方向に移動させて他方のパネル１ｂの表面側側端部を一方のパネル１ａの段差４に当接させることで隣接するパネル１間に目地２を形成する。 - 特許庁

The pretreatment method comprises a cement removal step of immersing the regenerated aggregate in a pretreatment solution composed of a sodium gluconate solution to thereby remove the cement components attached to the surface of regenerated aggregate.例文帳に追加

前記再生骨材をグルコン酸ナトリウム溶液からなる前処理溶液に浸漬することで、再生骨材の表面に付着したセメント成分を除去するセメント除去工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A preparation method for fine particles of crystalline polyol having a cationic polymer fixed on the surface thereof comprises a step of freeze-drying an aqueous solution in which the crystalline polyol and the cationic polymer coexist.例文帳に追加

結晶性ポリオールとカチオン性ポリマーの共存する水性溶液を凍結乾燥する工程を含む、表面にカチオン性ポリマーが固定化されている、結晶性ポリオール微粒子の調整方法。 - 特許庁

To reduce the total plating film thickness required for surface step and burial immediately after depositing a copper film regarding a semiconductor device having copper wiring using a damascene process and a manufacturing method in the semiconductor device.例文帳に追加

ダマシンプロセスを用いた銅配線を有する半導体装置及びその製造方法に関し、銅膜堆積直後の表面段差及び埋め込みに必要とされる総めっき膜厚を低減する。 - 特許庁

As a result, the surface area heated in the first high frequency heating step previously becomes an austenite structure where remaining spherical carbide disappears and the spherical carbide is substantially perfectly disappears.例文帳に追加

その結果、先に第一高周波加熱工程で昇温された表面領域は、残っていた球状炭化物が消失し、球状炭化物が略完全に消失したオーステナイト組織となる。 - 特許庁

A first value showing possibility that an object surface in each voxel is present is calculated from similarity of the pixel values of dots on the imaging device of each camera corresponding to each voxel (step 1).例文帳に追加

各々のボクセルにおける物体表面が存在する可能性を示す第一の値を、各々のボクセルに対応する各カメラの撮像素子上の点の画素値の類似性から求める（ステップ１）。 - 特許庁

A plurality of projected electrodes 5 are formed on a wiring pattern formed on the surface 1a of a substrate 1 so that their centers may become coincident with the cutting lines 6 of the substrate 1 (electrode forming step).例文帳に追加

基板１の表面１ａに形成された配線パターン上には、複数の突起電極５が、その中心が基板１の切断ライン６に一致するように形成される（電極形成工程）。 - 特許庁

A step of subjecting a semiconductor device pattern used for performing etching on or impurity injection into a photoresist layer, formed on the surface of a silicon wafer 103 to reduction exposure includes the formation of a reference chip.例文帳に追加

シリコンウエハ１０３表面に形成したフォトレジスト層に、エッチングまたは不純物注入を行うための半導体装置パターンを縮小露光する工程が、基準チップ形成処理を含む。 - 特許庁

A method for operating the upstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction.例文帳に追加

上流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。 - 特許庁

When the operator sets lenses to be worked of the displayed outside surface shapes, the computer 11 controls the aspheric working machine 14 in accordance with the shape data to work the inside surfaces of the lenses to be worked (step S5).例文帳に追加

オペレータが表示された外面形状の被加工レンズをセットすると、コンピュータ１１は形状データに基づいて非球面加工機１４を制御し、被加工レンズの内面を加工する(ステップS5)。 - 特許庁

To provide a parking support system capable of adequately guiding a vehicle to a target parking position even in the parking at a parking space having a special road surface status such as a step and a gradient.例文帳に追加

段差や勾配などの特殊な路面状況を有する駐車区画への駐車であっても、目標駐車位置に車両を適正に誘導することができる駐車支援装置を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing the R-Fe-B-based sintered magnet includes a step of performing grindstone processing for the surface of the magnet followed by oxidation heat treatment.例文帳に追加

本発明の表面改質されたＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、磁石表面に対して砥石加工を行ってから酸化熱処理を行う工程を含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

The LPP having the enveloping surface described above can be formed by properly increasing and decreasing the beam diameter of the laser beam for scanning exposure of a photoresist in a mastering process step for manufacturing the substrate.例文帳に追加

上記包絡面を備えたＬＰＰは、基板作製のためのマスタリング工程において、フォトレジストを走査露光するレーザ光のビーム径を適宜増減させることにより形成することができる。 - 特許庁

To provide a photoresist for an optical disk adaptable even to exposure with short wavelength light such as far UV without adding a new step and capable of forming a glass master disk having a good surface shape.例文帳に追加

新たな工程を加えることなく、遠紫外線等の短波長露光にも対応できて、良好な表面形状を有するガラス原盤を形成できる光ディスク用フォトレジストを提供する。 - 特許庁

The pin part 2 is advanced until an end part of a shoulder part 1 is located between an intermediate part of a step formed by the thin plate 3 and the thick plate 4 and an upper surface of the thin plate 3.例文帳に追加

このとき、ショルダー部１の端部が、薄板材３及び厚板材４により形成された段差の中間部と薄板材３の上面との間に位置するまでピン部２を進入させる。 - 特許庁

To provide a composition for treating the surface of a metal, which can form a film that can impart superior corrosion resistance to a metal material, particularly a metal structural body having a complicated shape, in a single immersion step.例文帳に追加

金属材料、特に形状が複雑な金属構成体に対し、単一浸漬工程にて優れた耐食性を付与し得る皮膜を形成せしめることが可能な金属表面処理組成物の提供。 - 特許庁

To provide a dicing film which rarely produces cutting waste materials in the dicing step of a semiconductor wafer and is excellent in the adhesion between the surface layer of the film and an acrylic adhesive, and to provide a base substance film for the dicing film.例文帳に追加

本発明は、半導体ウエハのダイシング工程における切削屑の発生がほとんどなく、フイルムの表面層とアクリル系粘着剤との密着性に優れたダイシングフイルムを提供する。 - 特許庁