「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(85ページ目) - Weblio英語例文検索

The conductive paste film 13 formed at the film forming step S3 has a thickness gradually increasing from the center toward the outer circumference owing to influence of a surface tension.例文帳に追加

膜形成工程Ｓ３で形成される導電性ペースト膜１３は、表面張力の影響によって、中心から外周側へ向かうに連れて徐々に厚みが大きくなるように形成される。 - 特許庁

To provide a handy scanner capable of reading an original with high accuracy without being affected even by a page step difference, recessed and projecting parts, wrinkles and bending of the paper surface or the like and without needing subtle skill.例文帳に追加

原稿の表面にページの段差や凹凸、紙面のしわやたわみなどがあっても、その影響を受けず、微妙な手加減を要さずとも精度よく読み取ることができるハンディスキャナを提供する。 - 特許庁

In a first film forming step, the reflecting film RM is formed on an entire surface of a plurality of three-dimensional shape units 2a, then the screen 10 can be formed with relative ease, and has high reflecting characteristics.例文帳に追加

スクリーン１０は、第１成膜工程において、反射膜ＲＭが、多数の立体部２ａの全面に亘って形成されるので、比較的簡単に製造できながらも反射特性が高いものとなる。 - 特許庁

After sticking a support substrate 31 to a rear surface of the substrate 13 which is fixed to the attraction stage 21, the attraction stage 21 and the step absorbing layer 22 are removed, and thus the display device 1 is manufactured.例文帳に追加

吸着ステージ２１に固定された基板１３の裏面に支持基板３１を張り合わせたのち、吸着ステージ２１および段差吸収層２２を取り外すことで表示装置１を製造する。 - 特許庁

In the step S12, a treatment using a pure water rinsing liquid is conducted, and since its surface is covered with the protective film made of a material insoluble in the pure water rinsing liquid, dissolution of the LBO substrate can be prevented.例文帳に追加

工程Ｓ１２では、純水リンス液を用いた処理を行なうが、表面を純水リンス液に不溶な材料からなる保護膜で覆っているので、ＬＢＯ基板の溶解を防ぐことができる。 - 特許庁

Removing the peripheral part of the transparent conductive film 39 protruding in the direction from the amorphous silicon film 35 to the surface of the circuit board 17 in the manufacturing step enhances the operation reliability of the X-ray detector.例文帳に追加

製造過程でアモルファスシリコン膜35より回路基板17の面方向に突出する透明導電膜39の周辺部を除去しているため、Ｘ線検出器の動作の信頼性が高まる。 - 特許庁

In the state the push button 12 is pushed in, the tip end surface 12a of the push button 12 touches and pushes the switch spring 11e, and so an arm bends and the step 11f touches the ground plate 6.例文帳に追加

プッシュボタン１２が押込まれた状態では、プッシュボタン１２の先端面１２ａがスイッチバネ１１ｅに接触して押すことによりアーム部がたわみ、段部１１ｆが地板６に当接することになる。 - 特許庁

At the auxiliary charging step D1, the battery is charged until a voltage of the battery becomes within a range of a film formation voltage region R where an SEI film is formed on a surface of a negative electrode mixture layer.例文帳に追加

予備充電工程Ｄ１では，バッテリの電圧が負極合材層の表面にＳＥＩ被膜が形成される被膜形成電圧領域Ｒの範囲内に入るまでバッテリを充電する。 - 特許庁

The side fold-in surface 8 is formed by successively folding prismatic ear parts formed of the barrel wind of the wrapping film material 4, and a fin-seal band 28 is formed on the ear parts in a folding-in step.例文帳に追加

サイド折り込み面８は、フィルム包材４の胴巻きにより形成された角筒状の耳部を順次折り込んで形成されており、この耳部には折り込み過程でフィンシール帯２８が形成されている。 - 特許庁

The foaming member 12 is superposed and constituted in the state that the first foaming member 14 and the second foaming member 15 are surface-contacted and that it surrounds the first step part 16 (first projection part 17).例文帳に追加

発泡部材１２は、第１発泡部材１４と第２発泡部材１５とが面接触した状態、かつ第１段部１６（第１突出部１７）を包囲した状態で積層されて構成されている。 - 特許庁

To provide a cab floor structure capable of ensuring a piping space in a tilt cab vehicle comprising a radiator arranged under a floor forming a step surface for putting the feet of occupants seated in right and left seats.例文帳に追加

左右の座席に着座した乗員の足を置くステップ面となるフロアの下方にラジエータを配置するチルトキャブ車両において、配管のスペースを確保するようにしたキャブフロア構造を提供する。 - 特許庁

The hooking surface of the first hooking projection 16 and a step hook 23 of the second hooking projection 17 having been passed, hook with an opening side 29 of the projection hook 5 in engagement state.例文帳に追加

通過した第一係止突起１６の係止面及び第二係止突起１７の階段係止部２３は、共に突起係止部５の開口側面２９に引掛かり係止状態となる。 - 特許庁

In the loading step, the ring 8 is loaded in the axial direction before an inner circumferential surface of the ring 8 is subjected to the plastic flow in the groove of the second diameter part 6, and the ring 8 is fixed to the second diameter part 6.例文帳に追加

荷重工程では、リング８の内周面が第２直径部６の溝内に塑性流動し、リング８が第２直径部６に固定されるまでリング８を軸線方向に荷重する。 - 特許庁

In the module; an opaque white substrate 12 is provided at a middle step in a case 13, an LED element 11 is mounted on the surface (a side facing the opening of the case) of the substrate 12, and electric wiring and components are arranged on the back.例文帳に追加

白色不透明の基板１２をケース１３の中段に設け、基板１２の表側（ケースの開口部に面する側）にＬＥＤ素子１１を搭載し、裏側に電気配線と部品を配置する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the shape of wiring lines can be easily controlled and a step on a surface of an insulating film filling a gap between wiring lines can be avoided, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本実施形態は、配線形状の制御が容易になり、且つ、配線間を埋める絶縁膜表面の段差が回避できるような半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a panel material in a partition panel capable of preventing the occurrence of an uneven step between a holding section of an outside frame material and a glass panel basic material and, at the same time, improving beauty in an adhesion surface between them.例文帳に追加

外枠材の保持部とガラスパネル基材との間に段差を生じないようにするとともに、両者の接着面における美観性の向上を図った間仕切パネルにおけるパネル材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, which can form a thin film so as to excellently cover the surface having a step without oxidizing a base when forming the thin film, and to provide a substrate-treating apparatus.例文帳に追加

薄膜を形成する際の下地を酸化させることなく、段差被覆性に優れた薄膜を形成することが可能な半導体装置の製造方法、及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The retainer 48 is furnished with a slipoff preventive piece 63 which is hitched resiliently at a step part 26 formed on the inside circumferential surface of the body and thereby restricts slipping-off of the plunger 40 from the body 20.例文帳に追加

リテーナ４８には、ボディ２０の内周面に形成された段差部２６に弾性的に掛止されることでプランジャ４０のボディ２０からの抜け出しを規制する抜止片６３が設けられている。 - 特許庁

In the final floating surface polishing process of a rover 50, a resistance value of the ELG 2 and a resistance value of the real element 1 are detected (measured) in an area where the resistance value of the real element 1 is detectable (step 100).例文帳に追加

ローバー５０の最終浮上面研磨工程において、実素子１の抵抗値が検知可能な領域で、ＥＬＧ２の抵抗値と実素子１の抵抗値を検知（測定）する（ステップ１００）。 - 特許庁

On the occasion of joining a heat sink (2) and a lead frame (3) together, first, an application step is carried out to apply a resin solution (L), which is obtained by dissolving a polyimide-based resin in a solvent, to a joining portion of an upper surface of the heat sink (2).例文帳に追加

ヒートシンク（２）とリードフレーム（３）との接合にあたり、まず、ヒートシンク（２）の上面の接合部に対し、ポリイミド系樹脂を溶剤に溶解させた樹脂溶液（Ｌ）を塗布する塗布工程を実施する。 - 特許庁

The step of forming the semiconductor light-emitting element wafer laminates and forms epitaxial layers having different compositions on a first principal surface of a substrate using an epitaxial growth method and provides the P-type contact layer on an uppermost layer.例文帳に追加

半導体発光素子ウエハを形成する工程では、基板の第１主面にエピタキシャル成長法を用いて組成の異なるエピ層を積層形成して、最上層にＰ型コンタクト層を設ける。 - 特許庁

The repair method of repairing the gas turbine member comprises the step of placing oxide ceramics in a defective part on a surface of the gas turbine member, and welding-and-repairing the member as the defective part being allowed to remain as is.例文帳に追加

本発明のガスタービン部材の補修方法は、ガスタービン部材表面の欠陥部に酸化物系セラミックスを付与し、前記ガスタービン部材の欠陥部を残存させた状態のまま溶接補修する。 - 特許庁

The top-surface and flank parts of an uncoated fiber part from the V-groove part 35 or V-groove step part 37 to the coating-removed end part 38 of the coated optical fiber are made open.例文帳に追加

Ｖ溝部３５又はＶ溝段差部３７から、被覆光ファイバーの被覆除去端部３８までの間の被覆無し光ファイバー部分の上面部及び側面部が開放されている光ファイバーアレイである。 - 特許庁

When the drum rotates till the lock position, this washing machine determines that the opened drum lid is caught by the inner surface of the outer tub to stop the drum and stop the rotation of the motor and notifies the cause to a user (Step S11).例文帳に追加

ドラムがロック位置まで回転した場合には、開いたドラム蓋が外槽の内面に引っかかってドラムが停止したためにモータの回転が停止したと判別し、その旨を報知する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

Stepped parts 6, the thickness of the parts is thinned by one step compared with the original thickness of the island, are provided at the outside parts of the semiconductor element 1 in the upper surface 2a of the island 2.例文帳に追加

アイランド２における上面２ａのうち半導体素子１より外側の部分に、当該部分における板厚をアイランド本来の板厚より薄くするように一段低くした段付き部６を設ける。 - 特許庁

An unsaturated polyester resin is blended with 33% of an FRP-recycled powder as a filler and a curing agent and coated on the surface of the mold lubricant-treated layer 3 to form a gel coat layer 4 (step 2).例文帳に追加

不飽和ポリエステル樹脂に、ＦＲＰリサイクル粉末を充填材として、３３［％］混入し、硬化剤を混ぜて、離形剤処理層３表面に塗布してゲルコート層４を形成させる（工程２）。 - 特許庁

The method comprises a calculation step for calculating a probable extraction point from the actual extraction point of the celom surface by using front and rear sound rays sandwiching a prescribed sound ray of the ultrasonic echo data.例文帳に追加

超音波画像生成方法は、超音波エコーデータの所定の音線を挟む前後の音線を用いて体腔表面の実抽出点から予想抽出点を算出する算出ステップを有する。 - 特許庁

Furthermore, the position of the imaging apparatus 120 is calculated by interpolation when the imaging apparatus 120 is focused on the surface of a bump 115 other than the measurement object, based on the measured position (step S30).例文帳に追加

さらに，測定した位置に基づき，測定対象以外のバンプ１１５の表面に撮像装置１２０の焦点が合致するときの撮像装置１２０の位置を補間により算出する（ステップＳ３０）。 - 特許庁

The total film thickness of the silicon nitride film 211 and the silicon oxide film 212 is large so that the upper surface of the polycrystalline silicon layer 207 is not exposed when a silicide layer is subjected to be formed in a following step.例文帳に追加

シリコン窒化膜２１１およびシリコン酸化膜２１２の合計の膜厚は厚いので、後の工程でシリサイド層を形成する際には、多結晶シリコン層２０７の上面は露出しない。 - 特許庁

In the irregularity formation step, a solvent S is adhered only to a first region 10b exposed from the internal electrode pattern 12 on the first main surface 10a of the ceramic green sheet 10 to form irregularities.例文帳に追加

凹凸形成工程では、セラミックグリーンシート１０の第１の主面１０ａにおいて内部電極パターン１２から露出する第１の領域１０ｂのみに、溶剤Ｓを付着させて凹凸を形成する。 - 特許庁

A step is provided on the surface of a silicon substrate to form surfaces different from each other and transistors are formed on respective surfaces, while the transistors are insulated and separated between the transistors by a silicon layer and an insulating sidewall.例文帳に追加

シリコン基板表面に段差を設けて、互いに異なる表面を形成し、各表面にトランジスタを形成し、トランジスタ間をシリコン層と絶縁性のサイドウォールとによって絶縁分離する。 - 特許庁

In this method, the vacuum chamber of a plasma unit contains a step wherein a wafer, having a plurality of integrated circuits including electrical coupling members, is arranged so that the polymer covered surface faces a plasma source.例文帳に追加

前記方法は、前記ポリマー被覆された表面がプラズマ源に面するように、プラズマ装置の真空チャンバ内に、前記結合部材を含む複数の集積回路を有するウエハを配置するステップを有する。 - 特許庁

In a step of roughening a doped polysilicon surface for forming a capacitor, after a semiconductor substrate is held in a reaction chamber heated uniformly at a predetermined pressure for a predetermined time, a gas is introduced.例文帳に追加

キャパシタを形成するドープトポリシリコンの表面を粗面化する工程において、均一に加熱された反応室内で、所定の圧力、所定の時間、半導体基板を保持した後、ガスを導入する。 - 特許庁

Consequently, the dust cleaner can remove the dust from the surface of the substrate K while maintaining the substrate K at a desired temperature and can stabilize a laminating step performed afterward though the cleaner has a small size.例文帳に追加

このようにしたことにより、小型の装置であっても基板の温度を所望の温度に保ちつつ、基板の表面を除塵することができ、後に行うラミネート工程を安定させることができる。 - 特許庁

To provide a method for a silicon epitaxial wafer which can have a flatness for a main surface equivalent to that of a mirror-polished silicon single-crystalline wafer, and can have a high efficiency in a mirror polishing step.例文帳に追加

鏡面研磨されたシリコン単結晶ウェーハと同等の主表面平坦度を持ち、かつ、鏡面研磨工程の高能率化を図ることができるシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for treating a cylindrical base material includes an electrolytic alkaline water treatment step in which the peripheral surface of the cylindrical base material is treated with electrolytic alkaline water of ≥pH 9.例文帳に追加

ｐＨ９以上の電気分解アルカリ性水を用いて、円筒状基材の外周面を処理する電気分解アルカリ性水処理工程を備えることを特徴とする円筒状基材の処理方法。 - 特許庁

To provide a method for efficiently dividing a sapphire wafer by grinding and lapping the rear surface of a sapphire wafer, processing the wafer in a dry etching step, then scribing the wafer.例文帳に追加

サファイアウェーハの背面をグラインディング、ラッピングしてから、ドライエッチング工程により加工した後にスクライビングすることで、サファイアウェーハをより効率的に分割可能にするサファイアウェーハの分割方法に関する。 - 特許庁

By using powder paint made of mineral particles and resin, a mineral minute particle dispersion film is applied to the surface of the rare earth-based permanent magnet in an electrostatic powder coating step.例文帳に追加

無機質微粒子と樹脂とからなる粉体塗料を使用して静電粉体塗装により希土類系永久磁石の表面に無機質微粒子分散樹脂被膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The surface forming method is a method for forming a desired pattern in a calcium fluoride substrate and has a step for irradiating the substrate with a beam through a mask in which the above desired pattern has been formed.例文帳に追加

弗化カルシウム基板に所望のパターンを形成する方法であって、前記所望のパターンが形成されたマスクを介して前記基板にビームを照射するステップを有する形成方法を提供する。 - 特許庁

The first step portions 31a, 31b are configured to form difference in level to a surface at an upstream side, of the indoor heat exchanger 4 near an end portion of the indoor heat exchanger 4.例文帳に追加

第１段差部３１ａ，３１ｂは、室内熱交換器４の端部近傍において室内熱交換器４の上流側の表面に対して段差が生じるように設けられた部分である。 - 特許庁

Then, the surface of the conductive material seed 54 is covered with a resist mask 56, and a spiral coil 32b is laminated by an electrolytic plating by using the conductive material seed 54 as an electrode (first plating step).例文帳に追加

次に、導電性材料リード５４の表面をレジストマスク５６で覆い、導電性材料シード５４を電極として、電解メッキ法によりスパイラルコイル３２ｂを積層する（第１メッキ工程）。 - 特許庁

The method includes a step of moving the wafer into contact with a molding surface having a predetermined non-cylindrical, aspheric curved shape, to form the wafer into a corresponding shape.例文帳に追加

この方法は、ウェハーを対応する形状に形成するために、ウェハーを移動させて予め定められた非円筒、非球状の湾曲した形状を有するモールド面に接触させるステップを含んでいる。 - 特許庁

In forming two V-shaped grooves in this structural body, one step 22 is formed on one groove forming part of a silicon substrate 20 in advance, and then, an etching protective film 23 is formed on a surface of the silicon substrate.例文帳に追加

２つのＶ型の溝を形成するに当たり、シリコン基板２０の溝形成部位の一つに段差２２を予め形成した上で、エッチング保護膜２３をシリコン基板１２０の表面に形成する。 - 特許庁

An internal electrode 102 is made on the main surface of the ceramic green sheet 100 by giving conductive paste, and a step absorbing layer 104 is made by giving ceramic paste.例文帳に追加

セラミックグリーンシート１００の主面上には、導電性ペーストを付与することによって内部電極１０２が形成され、セラミックペーストを付与することによって段差吸収層１０４が形成される。 - 特許庁

To provide a device capable of detecting hydroplaning generated in a state where water screen is not thick, and hydroplaning at an early stage without confusing them with a bump or a step on a road surface.例文帳に追加

水膜が厚くない状態で発生するハイドロプレーニングや、早期段階でのハイドロプレーニングを、路面のバンプや段差等と混同することなく検出するハイドロプレーニング検出装置を提供すること。 - 特許庁