「surface-defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

A line 1 of the light irradiated on the lower surface of the molded article 1 is imaged by a camera 3 to check a linear state of the line 1 of the light and detect the defect on the lower surface of the molded article 1.例文帳に追加

そして成形品１の下面に照射される光のライン１をカメラ３で撮像することによって、光のライン１の直線状態を見て、成形品１の下面の欠陥を検出することができる。 - 特許庁

To provide a silicon carbide surface which is electrically excellent with less defect by removing at least a part of the surface of silicon carbide formed on a substrate through chemical vapor deposition(CVD) by at least 500 nm.例文帳に追加

化学蒸着（ＣＶＤ）により基板上に形成された炭化珪素の表面の少なくとも一部を５００ｎｍ以上除去することにより、欠陥が少なく電気的に良好な炭化珪素表面を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial silicon wafer in which a slip accompanying heating during epitaxial growth is not caused and a decrease in surface roughness of an epitaxial film due to a void defect on a wafer surface can be eliminated.例文帳に追加

エピタキシャル成長時の加熱に伴うスリップが発生せず、ウェーハ表面のボイド欠陥に起因したエピタキシャル膜の表面粗さの低下も解消可能なエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a black defect correction technique which can cleanly correct black defect in fine patterns in black defect correction of a mask without causing the riverbed in black defect correction of the mask, does not exert damage by ion irradiation to the mask surface, is relatively simple in the device to be used without enlarging and enables the relatively simple conduction of the work, and to provide the device capable of executing such technique.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、マスクの黒欠陥修正においてリバーベッドができず、微細なパターンにおける黒欠陥でもきれいに修正が可能で、マスク表面にイオン照射によるダメージを与えることもなく、しかも用いる装置が比較的シンプルで大型化せず、作業も比較的単純に行うことができる黒欠陥修正手法を提示すると共に、そのような手法を実行できる装置を提供することにある。 - 特許庁

In the correction method of a photomask, a light shielding part and a light transmitting part are formed on one side surface of the substrate with the prescribed pattern and, further, the defect on the surface of the opposite side to the surface on which the pattern is formed is filled with transparent resin.例文帳に追加

基板の片面に、遮光部と透光部が所定のパターンで形成されたフォトマスクの修正方法であって、パターンが形成された面の反対側の面上の欠点を透明樹脂で充填することを特徴とするフォトマスクの修正方法。 - 特許庁

To reduce the development defect by forming a liquid film of developer over the entire surface of a wafer W even if the water repellency of the surface of the wafer W is high when development is carried out by discharging the developer to the surface of the rotating wafer W.例文帳に追加

回転しているウエハＷの表面に現像液を吐出して現像を行うにあたって、ウエハＷの表面の撥水性が大きくてもウエハＷの表面全体に亘って現像液の液膜を形成させ、現像欠陥を低減すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polymer film, especially a polyimide film which has no coating streaks, that is, a surface characteristic suitable as a substrate film of an electronic component, has the surface nature free from a surface defect like a crater, and carries a mechanical characteristic and heat resistance.例文帳に追加

電子部品の基材フィルムとして好適な表面特性すなわち塗工スジのない、しかもクレータのような表面欠陥を有さない表面性を有し、機械特性と耐熱性を具備した高分子フィルム特にポリイミドフィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

An echo 9 from the flat surface 6, an echo 11 from a flat surface 7 opposite to the flat surface 6, and another echo 10 arising according to circumstances are detected, and positions x_p, y_p and z_p of the mechanical defect 4 of the ingot block 1 are obtained from the another echo 10.例文帳に追加

平坦面６のエコー９と、この面とは反対側の平坦面７のエコー１１と、場合によっては生じる別のエコー１０が検出され、この別のエコー１０から、インゴットブロック１における機械的欠陥４のポジションｘ_ｐ，ｙ_ｐ，ｚ_ｐが求められる。 - 特許庁

An echo 9 from the flat surface 6, an echo 11 from a flat surface 7 opposite to the flat surface 6, and another echo 10 arising according to circumstances are detected, and positions x_p, y_p and z_p of the mechanical defect 4 of the ingot block 1 are obtained from the another echo 10.例文帳に追加

平坦面６のエコー９と、この面とは反対側の平坦面７のエコー１１と、場合によっては生じる別のエコー１０が検出され、この別のエコー１０から、インゴットブロック１における機械的欠陥４のポジションｘ_p，ｙ_p，ｚ_pが求められる。 - 特許庁

To provide a continuous casting mold having long service life, with which molten metal near the molten metal surface level can slowly be cooled and a cast slab having little surface defect can be produced and even in the case the molten metal surface level rises, the breakout and the damage of a mold are not caused.例文帳に追加

湯面レベル近傍の溶融金属を緩冷却することができる、表層欠陥の少ない鋳片を製造することが可能な、湯面レベルが上昇しても、ブレークアウトや鋳型の損傷が発生しない寿命の長い連続鋳造鋳型を提供する。 - 特許庁

To obtain a resin plate which does not increase an apparatus cost even when the large-size resin plate is produced, does not need a long time for processing, and has a flat surface without a surface defect by preventing air from remaining between a raw material plate and a press mold transfer surface.例文帳に追加

大寸法の樹脂板を製造する場合においても、装置コストを上昇させることなく、加工に長時間を要することなく、素材板とプレス型転写面との間の空気残留を防止して表面欠陥のない平坦面を持つ樹脂板を得る。 - 特許庁

The probe makes the ultrasonic waves expand and propagate radially inside the inspection object, whereby a defect inspection can be carried out by projecting the ultrasonic waves onto the defect S or the like existing inside the inspection object, even if the surface of the inspection object has irregularities or is made sloped.例文帳に追加

探触子は試験体内で超音波を放射状に拡大伝搬させるので、表面に凹凸や傾きが存在する試験体であってもその内部に存在する欠陥等Ｓへ超音波を照射し、その欠陥検査を行うことが可能である。 - 特許庁

Light is projected to the outer circumferential side face of a glass substrate or the end face at the mouth of a glass vessel and a component of the light diffuse reflected at a defect in the glass substrate or on the surface thereof and outgoing therefrom is detected thus detecting a defect of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の外周側面、又はガラス容器の口部端面に光を入射させ、その光のうちの、該ガラス基板の内部又は表面の欠点で乱反射し、該ガラス基板の表面から出てくる光を検出することで、ガラス基板の欠点を検出する。 - 特許庁

To provide a lens defect inspection device capable of forming many parallel light sources having prescribed angles by the effective use of surface illuminations and a louver layer, for example, imaging accurately a defect on a lens appearance by an imaging means, and automating inspection.例文帳に追加

面照明とルーバー層の効果的な使用により所定の角度を持った平行光源を多数形成でき、例えばレンズの外観上の欠陥を撮像手段に精度良く撮像できて検査の自動化を図ることが可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

This device has a configuration wherein, when detecting a foreign matter or a defect on the surface of the inspection object, a parameter for digital filtering is changed dynamically during inspection, and the foreign matter or the defect is discriminated by using a result acquired by removing a low-frequency changing component which is a noise component.例文帳に追加

そして、被検査体表面上の異物や欠陥を検出する際、デジタルフィルタリングのパラメータを検査中に動的に変化させ、ノイズ成分である低周波変動成分を除去した結果を用いて、異物や欠陥を弁別する構成とする。 - 特許庁

To allow thinning stop of a wafer by a thinning stop layer to be accurately performed by reducing the occurrence of a film formation defect of an epitaxial film due to an implantation defect of oxygen ions into a surface layer, and to capture metal impurities of the epitaxial layer and an active layer.例文帳に追加

表層への酸素イオンの注入欠陥に起因するエピタキシャル膜の成膜欠陥の発生を低減し、薄膜化ストップ層によるウェーハの薄膜化ストップを高精度に行え、エピタキシャル膜および活性層の金属不純物を捕獲可能とする。 - 特許庁

To solve the serious problems that the laser repairing method which corrects a defect and a residual defect of a photomask can hardly implement the uniform film deposition of large area and moreover, Cr particles generated at the time of laser transpiration restick to the surface of the substrate.例文帳に追加

フォトマスクの欠損欠陥、残留欠陥を修正するレーザリペア方法では、それぞれ大面積の均一な成膜が困難であり、またレーザ蒸散時に発生するＣｒが微粒子となり基板上に再付着すること大きな問題となっている。 - 特許庁

In this constitution, the unit 107 and the defect detection means 108 are moved to different positions in the generatrix direction of the photoreceptor 101 to be able to simultaneously operate the surface potential measuring means 106 and the defect detection means 108.例文帳に追加

この構成により、ユニット１０７及び欠陥検出手段１０８を感光体１０１の母線方向において互いに異なる位置に移動させ、表面電位測定手段１０６及び欠陥検出手段１０８を同時に動作させることが可能になる。 - 特許庁

An in-plane distribution display result of a defect or foreign matter on a sample surface and haze distribution display are comparatively displayed on the same screen, and those of inaccurate size and depth are colored and displayed in the distribution in a defect screen, so that the accurately measured defects are clearly displayed.例文帳に追加

欠陥または試料表面の異物の面内分布表示結果と、ヘイズ分布表示を同一画面で比較表示させ、さらに、欠陥面内分布内でサイズと深さの不正確なものを色をつけて表示し、正確に計測された欠陥を明示する。 - 特許庁

To provide a printed board inspection device constituted to make a defect appear clearly on a photographed image, as to the defect with a length direction thereof near to a moving direction of a printed board in the same direction, out of the defects such as flaws existing on a surface of the printed board.例文帳に追加

プリント基板の表面に存在する傷など欠陥のうち、その欠陥の長さ方向がプリント基板の移動方向と同一方向に近似するものについて、その欠陥が撮影画像上に明確に表れるようにしたプリント基板検査装置の提供 - 特許庁

After allowing the drawn POF 13 to pass a pass formation part, light dissipated by a defect from the circumferential surface of the POF 13 is detected by light receiving sensors 50a, 50b, and existence of a defect is determined based on signals from the light receiving sensors 50a, 50b.例文帳に追加

延伸されたＰＯＦ１３はパス形成部を経由した後、ＰＯＦ１３の外周面から欠陥によって散逸する光を受光センサ５０ａ，５０ｂにより検出し、この受光センサ５０ａ，５０ｂからの信号に基づき欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

An area having less crystal defect that is flat and superior in crystal quality and another area having concentrated crystal defect appear repeatedly at a nearly constant cycle Λ (≈400 μm) in an (a) axis direction on the crystal growth surface σ of a semiconductor substrate 1 made of GaN.例文帳に追加

ＧａＮから成る半導体基板１の結晶成長面σでは、結晶欠陥の少ない平坦で結晶品質の良好な領域と、結晶欠陥集中領域とがａ軸方向において、略一定の周期Λ（≒４００μｍ）で繰り返し現れる。 - 特許庁

An excessive surface 22, of bad crystalinity and comprising defect, which is deposited with a remaining gas in a temperature-falling process from a crystal growth temperature at completion of growth of silicon carbide is removed, and a Schottky electrode 25 is formed on a silicon carbide 24 with reduced defect.例文帳に追加

炭化珪素成長終了時の結晶成長温度からの降温過程で残留ガスにより堆積した結晶性が悪く欠陥を含んだ余分な表面２２を除去し、欠陥が低減された炭化珪素２４上にショットキー電極２５を形成する。 - 特許庁

To detect an uneven defect on an inspected specimen having a surface (smooth surface) having high reflectance and low diffusibility such as an ink-jet paper sheet, or an inspected specimen having a surface (rough surface) having low reflectance and high diffusibility such as a photosensitive material.例文帳に追加

インクジェット用紙のような反射率が高いが拡散性が低い表面（表面ツルツル）を有する検査物、あるいは感光材料のような反射率が低いが拡散性が高い表面（表面ザラザラ）を有する検査物上にある凹凸状欠陥検出を可能にする表面検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

An incident beam is made to get incident into a printed wiring board with wiring and an insulator on its surface by a laser beam source 62, the surface is scanned with the incident beam, and fluorescence from the surface of the printed wiring board is detected by a camera unit 50, so as to inspect a defect in a conductive part pattern existing in the surface of the printed wiring board.例文帳に追加

表面に配線と絶縁体が存在するプリント配線板にレーザ光源62により入射光を入射させ、その表面を入射光で走査して、プリント配線板の表面からの蛍光をカメラユニット50で検知し、プリント配線板の表面にある導体部パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide a process for producing a silicon wafer in which a defect is eliminated from the surface layer of the wafer for forming a device without sacrifice of productivity or production cost of the wafer.例文帳に追加

ウエハの生産性や生産コストを損なうことなく、デバイスが形成されるウエハ表層部に欠陥が存在しないシリコンウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of an image defect due to an image flow by efficiently removing the discharge product from the surface of an electrophotographic photoreceptor while maintaining the lifetime of the photoreceptor.例文帳に追加

感光体の寿命を保ちつつ電子写真感光体表面から効率よく放電生成物を除去して、画像流れによる画像欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

To prevent edge seam flaws as a surface defect in the vicinities of edges stretching in the rolling direction generated in a hot rolling stage in a method for producing a ferritic stainless steel sheet.例文帳に追加

フェライト系ステンレス鋼板の製造方法において、熱間圧延過程で発生する圧延方法に延びたエッジ近傍の表面欠陥であるエッジシーム疵を防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical recording medium which can effectively expel an optical recording medium of which the defect projects largely from the surface of a light transmission layer.例文帳に追加

光透過層の表面から欠陥が大きく突き出している光記録媒体を効果的に排除することができる光記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To adjust automatically a threshold of defect determination corresponding to characteristic fluctuation of a pattern image detection part 110 or individual dispersion of a surface characteristic of a wafer 6 to be inspected.例文帳に追加

パターン画像検出部１１０の特性変動や被検査ウェーハ６の表面特性の個体ばらつきに応じて、欠陥判定のしきい値を自動的に調整する。 - 特許庁

To provide a disk surface inspection device capable of adjusting automatically an optical system so as to have sufficient sensitivity for detecting a defect which is an inspection object.例文帳に追加

検査対象とする欠陥に対して検出するに十分な感度を持つよう光学系を自動調整できるようにしたディスク表面検査装置を提供することにある。 - 特許庁

Level difference is eliminated from the surface of the electrodes by the insulating layer and reduction of contrast due to an alignment defect of a liquid crystal material, irregular reflection of light and the like can be prevented.例文帳に追加

また、絶縁層により電極表面には段差がなくなり、液晶材料の配向不良や光の乱反射等によるコントラストの低下等を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a continuous casting method and immersion nozzle which effectively prevents mold powder from being engulfed into spouting flow of molten steel, when the molten steel is poured from the immersion nozzle into a mold, and as a result can prevent occurrence of a surface defect and an internal inclusion in a rolled steel sheet.例文帳に追加

浸漬ノズルからモールド内に溶鋼を注入する際に、該溶鋼の吐出流にモールドパウダが巻き込まれることを有効に防止する。 - 特許庁

To provide a bent part manufacturing method to manufacture a bent part by bending in the plane parallel to its surface without generating a defect of crack, etc.例文帳に追加

亀裂などの不具合を発生させずに板材をその表面に平行な面内で曲げて曲げ加工品を製造する曲げ加工品製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface inspection device includes a moving stage for the body to be inspected; a lighting device; an inspection coordinate detecting device; a light detector; an A/D converter; and a foreign object/defect determining unit.例文帳に追加

表面検査装置は、被検査体移動ステージ、照明装置と、検査座標検出装置、光検出器と、Ａ／Ｄ変換器と、異物・欠陥判定部、を有する。 - 特許庁

To provide a means for forming an oxide film on a metal surface, a means for repairing a defect in an oxide film, a high-performance electrolytic capacitor using such means, and an electrolyte of the same.例文帳に追加

金属表面の酸化皮膜形成手段、酸化皮膜欠陥の修復手段、その手段を用いた高性能電解コンデンサおよびその電解質を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of a roller in a film forming method which can continuously form a film-like object with little surface defect demanded by an optical film.例文帳に追加

光学的フィルムで要求される表面欠陥の少ないフィルム状物を連続的に成形できるフィルム成形方法におけるロールの清掃方法を提供する。 - 特許庁

To provide a connector for substrate mounting which prevents solder defect of a substrate connection part of a contact terminal caused by warpage and twist of a housing in mounting on a surface of a substrate.例文帳に追加

基板表面への実装の際に、ハウジングの反りや捩れによりコンタクト端子の基板接続部の半田不良が発生し難い基板実装用コネクタを提供する。 - 特許庁

To provide a marking device not required to remove after inspection a marking marked for the surface defect of a steel sheet by manual work or a separate removing device.例文帳に追加

鋼板の表面欠陥に施したマーキングを検査後に手作業で除去したり、個別の除去装置で除去したりする必要のないマーキング装置を提供する。 - 特許庁

The defect D such as reduction of the thickness of the inspection object 101 is inspected by comparing arrival times of the surface wave received by the receiving element 4 at respective scanning positions.例文帳に追加

そして、受信子４による受信波の到達時間を各走査位置で比較することにより検査対象部１０１の減肉等の欠陥Ｄを検査する。 - 特許庁

The glass sheet is bent by using the belt while being transported, by which the efficient production of the bent sheet glass suppressed of the surface defect is made possible.例文帳に追加

このベルトを用いて、ガラス板を搬送しながら曲げ成形することにより、表面の欠陥が抑制された曲げガラス板を効率良く製造することができる。 - 特許庁

To efficiently manufacture a SIMOX substrate which has little defect such as threading dislocation, has a highly safe SOI layer, and has a surface and an interface of high flatness.例文帳に追加

貫通転位などの欠陥が少なく、完全性の高いＳＯＩ層を有し、かつ、平坦度の高い表面及び界面を有するＳＩＭＯＸ基板を効率良く製造する。 - 特許庁

By irradiating an inspection surface A with each irradiation light LA1, LB1 from mutually different directions, each position on the domain showing a defect in each image is deviated slightly.例文帳に追加

照射光ＬＡ１，ＬＢ１が互いに異なる方向から被検査面Ａを照射することにより、各画像において欠陥を示す領域の位置がわずかにずれる。 - 特許庁

This method allows surface defects to be inspected, even when an image of an object to be inspected includes constant, periodic variations in density, and there is a defect therein.例文帳に追加

この方法により、被検査物の画像が、ある一定の周期的な濃淡を有し、その中に欠陥があるような場合でも、表面欠陥を検査することができる。 - 特許庁

To provide a method of dividing a semiconductor wafer, with which the semiconductor wafer having a solder layer formed on its reverse surface can be divided without causing a cutting defect.例文帳に追加

裏面に半田層が形成された半導体ウエーハを切削不良を起こすことなく分割可能な半導体ウエーハの分割方法を提供することである。 - 特許庁