「temperature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film-forming material which at a low temperature can form a film having high etching resistance and attaining a high etching selectivity ratio in organic-film etching; and a method of forming a pattern with the film-forming material.例文帳に追加

低温で、高い耐エッチング性を有し、かつ有機膜に対して高いエッチング選択比を有する膜を形成可能な膜形成用材料、および該膜形成用材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus, where more high-accuracy pattern formation is enabled by improving uniformity in the intra-plane temperature of a large-diameter semiconductor wafer in lithographic processes.例文帳に追加

リソグラフィ工程における大口径半導体ウエハの面内温度均一性を向上させ、より高精度なパターン形成が可能な半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable positive photosensitive polyimide composition which enables to process a fine pattern, gives a heat resistant film whose linear thermal expansion coefficient is close to that of a substrate, and which does not require imidization at a high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線熱膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of keeping an output image density constant without occurrence of mismatch between a development contrast and a toner charge amount even when any variation pattern of temperature and humidity occurs.例文帳に追加

どのような温度湿度の変化パターンが発生した場合でも、現像コントラストとトナー帯電量のミスマッチを発生させないで、出力画像濃度を一定に保つことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The operation system 4 positions the substrate 1 relatively to the projection system 3, projects the patterning radiation beam on a target portion of the substrate 1, and adjusts pattern data based upon the detection result to perform temperature compensation.例文帳に追加

作動システム４により基板１を投影システム３に対して位置決めし、パターン化放射線ビームを基板１の目標部分上に投影し、検出結果に基づいてパターンデータを調整して温度補償する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A connector for a hydraulic sensor 19, an oil temperature sensor 2, a rotation sensor 21 and a solenoid valve 23 is mounted on the bracket 11 for connecting these parts to be mounted with the control unit 33 by the wiring pattern 32.例文帳に追加

また、ブラケット１１には、油圧センサ１９、油温センサ２０、回転センサ２１、ソレノイドバルブ２３用のコネクタ２２を搭載し、これらの搭載部品を配線パターン３２によってコントロールユニット３３に接続する。 - 特許庁

After a substrate is coated with the coating liquid before drying, trimming is made by applying laser beams as needed, baking is made at a temperature of 400°C or higher, or laser baking is made, thus forming the transparent conductive film pattern.例文帳に追加

この塗布液を基板上に塗布、乾燥させた後、必要に応じレーザー光線照射によるトリミングを行い、４００℃以上の温度で焼成、又はレーザー焼成して透明導電膜パターンを形成する。 - 特許庁

To obtain developer and rinse having a higher flash temperature without impairing fine pattern forming ability, reducing fire hazards, capable of being stored in larger quantities and having high productivity.例文帳に追加

微細パターン形成能力を損なうことなく、従来の現像液、リンス液に比べ、より引火温度が高くより火災の危険性が低く、かつ、より大量の保管が可能で生産性の高い現像液、リンス液等を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of correcting color smear due to elongation and contraction caused by the temperature change of a latent image carrier holding member to hold a latent image carrier without forming a detection pattern.例文帳に追加

潜像担持体を保持する潜像担持体保持部材の温度変化による伸縮によって色ずれを、検知パターンを形成することなく、色ずれ補正を行うことのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the third step, the heat treatment temperature, heat treatment time or heat-up pattern is set according to the quantity of solvent contained in the resist solution, so that the number of defects generated in the resist film can be reduced.例文帳に追加

この第３工程において、レジスト液に含まれる溶剤の量に応じて、熱処理温度または熱処理時間または昇温パターンを設定することによって、レジスト膜に生成する欠陥数を低減させる。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing patterned tempered glass, in which the temperature difference between inner and outer parts of a glass substrate subjected to heating and surface pattern formation is increased to the maximum, and thereby tempering is more thoroughly performed through rapid cooling.例文帳に追加

表面のパターン形成と共に加熱されたガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくし、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにするパターンド強化ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁

To improve failure rate detecting accuracy by removing influence by a surrounding environmental temperature change in a heat image pattern for acquiring the quality of fusion of an aluminum seal fused on a bottle opening part by using an infrared camera.例文帳に追加

ボトル開口部に融着させたアルミシールの融着の良否を赤外線カメラを用いて取得した熱画像パターンの周囲環境温度変動による影響を除いて不良率検出精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a molding device by which a design face can be effectively cooled, and the design face can be easily maintained at a desired temperature or higher when transferring a molding pattern formed in the design face to the molding material.例文帳に追加

意匠面を効率的に冷却できるとともに、意匠面に形成された成型パタンの成型材料への転写時に、意匠面を所望の温度以上に保つことが容易な成型装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high quality casting having no defect at a low cost by lowering molten metal pouring temperature without damaging the molten metal fluidity at the pouring time, in the method for manufacturing the casting using a lost-foam pattern.例文帳に追加

消失模型を使用した鋳物製造方法において注湯時の湯流れ性を損なうことなく注湯温度を下げ、欠陥のない高品質な鋳物製品を低コストで製造する方法を提供する。 - 特許庁

The stencil mask or the aperture includes a thermal oxidation film formed at a comparatively low temperature at least on its side or on its whole surface of opening pattern, thereby achieving a small corner R value.例文帳に追加

本発明のステンシルマスク又はアパーチャは、開口パターンの少なくとも側面または全面に、比較的低温で形成した熱酸化膜を備えることにより、コーナＲ値の小さいステンシルマスク又はアパーチャを提供する。 - 特許庁

A change pattern of the degree of opening of the J-T valve 21 in time series is previously determined taking characteristics of a very low temperature freezing apparatus into consideration, and is stored in a storage section 32 referred to by the control device 31.例文帳に追加

時系列におけるＪ−Ｔ弁２１の開度の変化パターンが、極低温冷凍装置の特性等を考慮して予め定められて、制御装置３１に参照される格納部３２に格納されている。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern-like thin film layer which has a mask layer material having a high heat resistance by a lift-off process and has a good stripping property, while preventing generation of a decomposed gas at its processing temperature upon formation of the thin film.例文帳に追加

マスク層材料の耐熱性が高く、又薄膜形成時の処理温度下での分解ガスの発生もなく、さらに、剥離性が良好なリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide spectacle frames whose color is changed by a temperature change as if a person has different spectacle frames and whose pattern is altered to impart different designs.例文帳に追加

この発明の目的は、温度の変化によってメガネフレーム自体の色彩を変化させるようにして、複数のメガネフレームを有するようにし、模様を変化させて異なる意匠とすることができるメガネフレームを提供することにある。 - 特許庁

By using laser annealing which is a relatively low temperature process, only the minute defect of the surface of the mold can be annealed, so that only the minute defect can be corrected without deforming the pattern shape of the mold.例文帳に追加

比較的低温プロセスであるレーザアニールを用いることで、モールド表面の微小欠陥のみをアニールが可能となり、モールドのパターン形状を変形させることなく、微小欠陥のみを修復することが出来る。 - 特許庁

By lowering the temperature of forming the hard mask pattern 4a, the copper deposit on the aluminum electric conductive film 3 can be suppressed so that the copper deposit might not be arranged between circuit patterns 3a formed by ething.例文帳に追加

ハードマスクパターン４ａの形成を低温化したことで、アルミニウム導電膜３中の銅の析出を抑制することができ、蝕刻によって形成される配線パターン３ａ間に銅析出物が配置されることはない。 - 特許庁

To provide a measuring precision improving method in a method for finding minute deformation of a material at high temperature by speckle pattern measurement of a metal foil by welding an inoxidizable metal foil on the surface of the metal material to be measured.例文帳に追加

酸化しない金属箔を被測定金属材料表面に溶接し、高温での材料の微小変形をその金属箔のスペックルパタ−ン計測で求める方法における、計測精度向上方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion with a substrate, close to each other, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a structure that equalizes the amount of incoming heat to temperature sensors, irrespective of the positions of sensors in an electric cooker having a plurality of heaters for changing a heating pattern in accordance with a use.例文帳に追加

調理の使用用途に応じて加熱パターンを切り換える複数のヒータを有する電気調理器において、各ヒータの位置に関わらず、温度センサーへの受熱量を同等にする構成を提供することを目的としている。 - 特許庁

To solve such problems that cooling of the connected mold/disk to room temperature prior to separation results in difficulty of the separation and damages to the imprinted pattern produced in a resist film during the separation.例文帳に追加

連結したモールド／ディスクを分離する前に、それらを室温まで冷却すると、分離が困難であること、ならびにレジスト膜に生じたインプリント・パターンを分離中に損傷することなどの問題が発生しうる。 - 特許庁

To provide a metal nanoparticle paste which easily provides metallic junction superior in conductivity and mechanical strength using low temperature-sintering characteristics of metal nanoparticles and can form a wiring pattern having superior conduction.例文帳に追加

金属ナノ粒子の低温焼結特性を用いて、簡易に、導電性及び機械的強度に優れた金属的接合を得、また導通性に優れた配線パターンを形成できる金属ナノ粒子ペーストを提供する。 - 特許庁

The irregular pattern-forming coating material is used in a resin coated metallic plate and comprises an aliphatic saturated hydrocarbon having a boiling point of higher than the normal temperatures and lower than the decomposition temperature of the coating resin.例文帳に追加

樹脂塗装金属板に用いられる塗料であって、常温より高く、塗料樹脂の分解温度よりも低い沸点を示す脂肪族飽和炭化水素を含有する凹凸模様形成用塗料である。 - 特許庁

To suppress extension of dislocation generated in activation thermal treatment at a high concentration impurity region by lowering stress generated around pattern edge without performing activation thermal treatment at high temperature for long hours.例文帳に追加

高温で長時間の活性化熱処理を行うことなく、パターンエッジ部周辺に発生する応力を軽減することにより高濃度不純物領域の活性化熱処理で発生する転位の拡張を抑制する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using an imprint method by which the compression pressure between the mold and a substrate can be reduced without accompanying changes in the substrate temperature, and to provide a producing method of a semiconductor device.例文帳に追加

インプリント法を用いたパターン形成方法に関し、特に、モールドと基板との圧着圧力を低減でき、且つ、基板温度の変更を伴わないパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a method of forming, at low temperature, a low-dielectric-constant insulating material layer used to form an organic electronic element by a coating method or printing method; a layer or pattern formed by the method; and the organic electronic element.例文帳に追加

塗布法又は印刷法により有機電子素子を形成するために用いる低誘電率絶縁材料層を低温で形成する方法、該方法で形成された層又はパターン及び有機電子素子を提供する。 - 特許庁

After the pattern of a first conductor 3 is formed on a semiconductor substrate 1, a plasma radical oxidation is performed on the first conductor 3, a conformal oxide film 4 is formed, and the edge of the conductor is rounded at a low temperature.例文帳に追加

半導体基板１上に第一の導電体３のパターンの形成後、第一の導電体３にプラズマ・ラジカル酸化を施し、低温にて、コンフォーマルな酸化膜４を形成して導電体の縁部を丸める。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition capable of obtaining a highly conductive electrode pattern by using conductive powder having particle diameters of about 0.01 to 1.5 μm and by low-temperature calcination in a range of 350 to 600°C, with precision, and without line disorder, as well as a manufacturing method of an electrode using the composition.例文帳に追加

粒径が０．０１〜１．５μｍ程度の導電性粉末を使用し、かつ、３５０〜６００℃の範囲内での低温焼成によって導電性の高い電極パターンを得ることが可能である。 - 特許庁

Materials of the package, intermediate substrate, and dielectric substrate are so selected that when the superconducting filter is cooled from room temperature down to the critical temperature of the resonator pattern, the difference between the contraction factor of the intermediate substrate and the contraction factor of the dielectric substrate is smaller than the difference between the contraction factor of the dielectric substrate and the contraction factor of the package.例文帳に追加

パッケージ、中間基板、及び誘電体基板の材料は、室温から共振器パターンの臨界温度まで冷却したとき、中間基板の収縮率と誘電体基板の収縮率との差が、誘電体基板の収縮率とパッケージの収縮率との差よりも小さくなるように選択されている。 - 特許庁

Atmosphere in a print room 31 disposed with an ink jet printer 22 is controlled to have a temperature within a specified range and a humidity of a specified level or below by means of a temperature regulator 32 comprising a dehumidifier 34 and a heater 35 before a color pattern is printed on an ink receiving layer of water dispersing resin with a coloring material composed of aqueous pigment ink.例文帳に追加

インクジェットプリンタ２２が配置された印刷室３１内の雰囲気を、除湿器３４とヒータ３５とを有する温度調節装置３２により、所定の範囲の温度、所定の湿度以下に管理し、水性顔料インクからなる着色材により水分散性樹脂製のインク受容層に着色模様を印刷する。 - 特許庁

The calcining temperature and the sintering temperature are determined to form the silicon nitride porous body in which the ratio (X_ON/X_SiN) of the peak intensity X_ON of oxynitride to the peak intensity X_SiN of β-type silicon nitride in X-ray diffraction pattern is 20-40 and the three point bending strength (25°C) is ≥70 MPa.例文帳に追加

このときの仮焼温度及び反応焼結温度は、Ｘ線回折パターンにおける酸窒化物のピーク強度Ｘ_ONとβ型窒化ケイ素のピーク強度Ｘ_SiNとの強度比（Ｘ_ON／Ｘ_SiN）が２０〜４０であり、且つ、３点曲げ強度（２５℃）が７０ＭＰａ以上である窒化ケイ素多孔質体が形成されるように決定される。 - 特許庁

After the circuit pattern is formed by printing the silver paste on the substrate and the voltage is impressed upon the circuit, the electric circuit is formed by tentatively drying the substrate in an infrared heating furnace adjusted to ≥150°C in temperature and, successively, drying the substrate in a circulating hot air oven adjusted to ≥150°C in temperature.例文帳に追加

前記銀ペーストを基板上に印刷して回路パターンを形成し、該回路パターンに電圧を印加した後、前記基板を、１５０℃以上に温調した赤外線加熱炉内で仮乾燥し、続いて１５０℃以上に温調した熱風循環炉で乾燥して、前記基板上に電気回路を形成する。 - 特許庁

To provide a temperature correcting method and a variable resistance type infrared sensor with this correcting means capable of preventing the deterioration of image quality caused by the appearance of FPN(fixed pattern noise) fluctuations on a screen and preventing the fluctuation of sensitivity for the infrared light without requiring a means for keeping the temperature of a sensor substrate invariably constant.例文帳に追加

センサ基板温度を常に一定に保つ手段を必要とせずに、ＦＰＮ変動分が画面に現れることによる画質の劣化を防ぎ、なおかつ赤外光に対する感度の変動を防ぐことができる、温度補正方法とこの補正手段を具備した抵抗変化型赤外線センサの実現。 - 特許庁

When the receiver receives a signal having the same ID as the temporary registered ID during travelling, it is determined whether the temperature and the pressure of the signal increase or not, and whether the temperature and the pressure match a traveling pattern or not (S190, S200).例文帳に追加

送信機に温度、圧力、ＩＤを送信させ、受信機側では停車中に受信したＩＤを仮登録しておき、走行中に仮登録ＩＤと同じＩＤの信号を受信したら、当該信号中の温度及び圧力が上昇を示し、かつ、走行パターンと一致しているか否かを判定する（Ｓ１９０，Ｓ２００）。 - 特許庁

The structure that the metal balls 106 are not provided at the four corners of the grid pattern is determined based on the result of the temperature cycle test that abrupt changes in ambient temperature are repeated after mounting a semiconductor device 1 on a mounting board via the bump electrodes of the metal balls 106 and the shock test which provides an established shock.例文帳に追加

格子状形状の４隅に金属ボール１０６を設けない構造は、半導体装置１を金属ボール１０６のバンプ電極を介して実装基板へ実装した後、急激な周囲温度の変化を繰り返す温度サイクル試験、及び所定の衝撃力を与える衝撃試験の結果に基づく処理である。 - 特許庁

In a rod 3 for hair curling which is equipped with a heating unit 11 in a main body 9 of the rod, the heating unit 11 is formed by flatly arranging a resistance pattern material 33 on a sheet 31 and the upper limit of an exothermic temperature of the main body 9 of the rod is set at the temperature suitable for the hair treatment.例文帳に追加

ロッド本体９に発熱体１１を設けた頭髪カール用ロッド３において、前記発熱体１１は、シート３１に抵抗パターン材３３を平面状に配索してなり、前記ロッド本体９の発熱温度の上限を頭髪処理に適した温度に設定したことを特徴とする。 - 特許庁

The laminated sheet 20 is a sheet for drawing a liquid pattern on a drawing surface 22a which receives droplets consisting of conductive ink at a drawing temperature by the drawing surface 22a, and it includes a via hole 21h which is located on the side of the carrier sheet 21 with the green sheet 22 being interposed therebetween and contracts by expansion of the carrier sheet 21 at the drawing temperature.例文帳に追加

積層シート２０は、導電性インクからなる液滴を描画温度の描画面２２ａで受け、描画面２２ａに液状パターンを描画するためのシートであり、グリーンシート２２を挟んでキャリヤシート２１の側に、描画温度におけるキャリヤシート２１の膨張によって収縮する貫通孔２１ｈを備える。 - 特許庁

When a user depresses a selection key 213 in the operation unit 2 during temperature presentation, the number corresponding to the temperature pattern during the presentation at a time point when receiving an operation signal KS thereof is stored in an input information memory 142 as the number representing a digit of the input secret number.例文帳に追加

そして、上記温度提示中に操作ユニット２で利用者が選択キー２１３を押下した場合に、情報処理ユニット１ではその操作信号ＫＳを受信した時点で提示中の温度パターンに対応する数字を、入力された暗証番号の１桁を表す数字として入力情報記憶部１４２に記憶する。 - 特許庁

To provide a display method of a cooling temperature pattern in a cooling zone of a continuous heat treatment furnace for a steel sheet, in which an actual cooling rate and cooling temperature history are displayed on a display panel of an operation panel of the cooling zone, while indicated on a continuous cooling transformation diagram and can be reflected to quality management of a steel sheet coil.例文帳に追加

冷却帯の操作盤の表示パネルに実際の冷却速度や冷却温度履歴を鋼の連続冷却変態図上に示して表示して鋼板コイルの品質管理に反映させることができる、鋼板の連続熱処理炉の冷却帯における冷却温度パターンの表示方法を提供する - 特許庁

The concrete curing method comprises the cure preparation step of forming a cover 12 around the placed concrete body 11 so as to leave a specified space between them and the air control step of allowing the atmosphere temperature of the cover 1 to follow the concrete body 11 temperature pattern which changes as the result of the concrete hydration reaction.例文帳に追加

コンクリート打設後のコンクリート躯体１１の周囲に所定間隔を有してカバー部１２を覆設する養生準備工程と、セメント水和反応に伴って変動するコンクリート躯体１１の温度パターンにカバー部１２の雰囲気温度を追随させる空気調整工程と、を有するコンクリートの養生方法である。 - 特許庁

The method for press forming the optical element provided with fine pattern with ruggedness of 0.1-50 μm on an optically functional face with a pair of top and bottom mold members, is characterized in that the glass raw material is press formed at a room temperature and the mold members are kept at a temperature corresponding to 10^13-10^8 dPa.s of glass viscosity.例文帳に追加

０．１μｍ〜５０μｍの凹凸を持つ微細パターンを光学機能面に備えた光学素子を、上下一対の型部材により、プレス成形する方法において、ガラス素材を室温にて、また、前記型部材をガラスの粘度で１０^13〜１０^8 ｄＰａ・ｓに相当する温度で、プレス成形することを特徴とする。 - 特許庁