「temperature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a human recognition system which recognizes the existence of a human by setting a reference pattern representing the temperature distribution of the human according to inputted outside world information, and to provide an image processor composing the system.例文帳に追加

入力された外界情報に応じて、人間の温度分布を表す基準パターンを設定することにより、人間の存在を認識する人間認識システム、該人間認識システムを構成する画像処理装置を提供する。 - 特許庁

Each BGA 2 (for instance, BGA inner peripheral part) of the BGA board 1 weak in temperature stress is connected as a connection pattern between BGAs 3 and connected to a constant current circuit 4 and a voltage monitor circuit 5.例文帳に追加

本発明は、特に温度ストレスに弱いＢＧＡ基板１の各ＢＧＡ２（例えば、ＢＧＡ内周部）をＢＧＡ間連結パターン３として連結し、定電流回路４及び電圧監視回路５に接続されるように構成される。 - 特許庁

To provide a magnetic disk drive which prevents a failure of a head IC and crack of a solder bump which connects a copper foil pattern of an FPC by efficiently reducing temperature rise of a head IC inexpensively.例文帳に追加

この発明は、低コストで、ヘッドＩＣの温度上昇を効率よく低減させ、ヘッドＩＣの故障やこれとＦＰＣの銅箔パターンを接続している半田バンプのクラック発生が防止可能な磁気ディスク装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a sublimable transfer sheet which can decorate an object to which an image is sharply transferred, even when the glass transition temperature of a substrate sheet is low, and at the same time, can transfer a desired pattern shape to the object.例文帳に追加

基体シートのガラス転移温度が低い場合であっても、被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことができると同時に、所望のパターン形状を被転写物に転写できる昇華性転写シートを提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, a film of which even when cured at ≤250°C, after curing ensures physical properties comparable to those of a film cured at a high temperature, to provide a method of manufacturing a pattern-cured film using the resin composition, and to provide electronic components.例文帳に追加

２５０℃以下で硬化しても、硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

Thus, the instruction contents from the main control circuit 11 are immediately reflected in the heating power output, then, temperature control of a fixing roller 5 constituting the fixing device is performed on the basis of a heating pattern intended by the main control circuit 11.例文帳に追加

これにより、本体制御回路11からの指示内容が直ちに加熱電力出力に反映され、本体制御回路11が意図する加熱パターンにより定着装置を構成する定着ローラ５の温度制御を行うことができる。 - 特許庁

Since the direction that the two reflectances are shifted is reversed and the places of the wavelengths of these intersecting points are not changed even when a temperature drift by the pattern of a modulation signal is generated in the DBR regions 101a and 101c, an oscillation wavelength is not changed.例文帳に追加

変調信号のパターンによる温度ドリフトがDBR領域101a、101cに発生しても、2つの反射率分布のシフトする方向は逆であってそれらの交差点の波長位置は変化しないので、発振波長は変化しない。 - 特許庁

The electronic circuit module comprises a module substrate 2000 having terminals on both principal surfaces and mounting an electronic component on one principal surface, and a ceramic component 1000 calcined at low temperature having terminals on both principal surfaces and having a conductor pattern internally.例文帳に追加

両方の主面に端子を有し、一方の主面に電子部品が実装されるモジュール基板２０００と、両方の主面に端子を有し、内部に導体パターンを有する低温焼成セラミック部品１０００とを備える。 - 特許庁

The bent part 30a is almost at 45° to the print pattern 12, so a soldering iron is easily inserted between the ends 30 and 35 and comes into contact with both ends 30 and 35 at the same time to heat them nearly to the same temperature.例文帳に追加

屈曲部３０ａはプリントパターン１２に対してほぼ４５°の角度をなしているから、半田鏝４０は端部３０，３５間に容易に挿入され、端部３０，３５の両方に同時に接触し、ほぼ同じ温度に加熱する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition suitable for use as a material of protective films and insulating films of electronic parts which cannot be subjected to high temperature treatment and electronic parts which require alkali resistance and to provide a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

高温処理ができないような電子部品や耐アルカリ性を必要とする電子部品の保護膜、絶縁膜の材料として好適な感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for heat treatment of a semiconductor device by which pattern deformation and spattering of a metal thin film is prevented even when heating the semiconductor device at a warming speed of ≥30°C/sec in the temperature area of ≥500°C.例文帳に追加

半導体装置を５００℃以上の温度領域において昇温速度３０℃／秒以上で加熱する場合でも、金属薄膜のパターン変形及び飛散を防ぐことができる半導体装置の熱処理方法を得る。 - 特許庁

Since the exothermic amount is made small by having the area of the extherms on both end parts of the exothermic pattern reduced, the temperature distribution in the fixing belt to which the heat from the heating panel 11 is transmitted can be gently lowered on both end parts.例文帳に追加

発熱パターンの両端部の発熱線の面積が減少して発熱量が少なくなるので、加熱パネル１１から熱が伝達される定着ベルトの温度分布を両端部で緩やかに低下させることができる。 - 特許庁

In the crystallization step, the crystallization direction is controlled based on a temperature gradient according to the pattern, and the region R is shifted slightly within crystallization range with a single irradiation to repeat the irradiation.例文帳に追加

結晶化工程では、明暗のパタンに応じた温度勾配を利用して結晶化の方向を制御すると共に、一回の照射で結晶化する範囲以内で照射領域Ｒを少しづつずらして繰り返し照射を行なう。 - 特許庁

By forming a mesh pattern of 100-8,000 mesh on the surface of a fluororesin substrate, heated at its softening temperature or above, by heat transfer, the super-water repellent material is produced having a contact angle with water of 140-179°.例文帳に追加

軟化温度以上に加熱したフッ素樹脂基材の表面に熱転写により１００〜８０００メッシュの網目模様を形成することにより、水との接触角が１４０〜１７９°である超撥水性材料を製造する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal pattern having a high sensitivity to electroless plating, having an excellent homogeneity of a plated film, and retaining a high adhesion to a substrate even after a long-term storage under the condition of high temperature and high humidity.例文帳に追加

無電解めっき感度が高く、めっき被膜の均質性に優れ、高温・高湿環境下に長期間保存されても基板に対する密着性が高い金属パターンを得ることができる金属パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and an apparatus for manufacturing a sheet in which a fine pattern is formed on the surface in which one cycle of heating and cooling of a mold is performed for a short time, and the temperature of a mold surface can be equalized simultaneously.例文帳に追加

金型の加熱と冷却の１サイクルを短時間で行い、同時に金型表面の温度を均一化することができる、微細パターンが表面に賦形されたシートの製造方法と製造装置を提供すること。 - 特許庁

Then, the sector mold W having the surface treated profile surface Wa and set to a predetermined temperature is arranged on a lower mold 1 at a predetermined position and the pattern molded article Z is further placed on the profile surface Wa through an adhesive.例文帳に追加

そして、下型１上に表面処理したプロファイル面Ｗａを備えた所定温度のセクターモールドＷを所定位置に配置し、更にプロファイル面Ｗａ上に接着剤を介してパターン成形物Ｚを載置する。 - 特許庁

The temperature sensor has a substrate 4 having a flake type thermistor mounting recession 11 and a through hole 12, and an undersurface electrode pattern 6 of a predetermined area which is formed below the mounting recession 11 and is electrically connected to one electrode terminal.例文帳に追加

フレーク型サーミスタ実装凹部１１とスルーホール１２を有する基板４と、フレーク型サーミスタ実装凹部１１下部に形成され一方の電極端子に電気的に接続される所定面積の下面電極パターン６を有する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of giving a polyimide film by a low-temperature process, a pattern forming method using the photosensitive resin composition, and a semiconductor device with a film produced from the photosensitive resin composition.例文帳に追加

低温プロセスでポリイミド膜を得ることができる感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法、当該感光性樹脂組成物により製造される膜を備える半導体装置を提供する。 - 特許庁

To remarkably improve abnormality detection accuracy in diagnosis of operation by setting a reference pattern corresponding to the environmental temperature and travelling condition before an earthquake breaks out just before executing diagnosis operation.例文帳に追加

診断運転を実施する直前に環境温度や地震発生前の走行状況等に応じた参照パターンを設定することにより、診断運転時における異常の検出精度を大幅に向上させることができるようにする。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminated electronic component includes a step of forming an internal electrode pattern layer 12a on a surface of a support sheet 20 elongated in a longitudinal direction using a printing method and drying it with a predetermined temperature.例文帳に追加

長手方向に沿って細長い支持シート２０の表面に、内部電極パターン層１２ａを印刷法により形成して所定の乾燥温度で乾燥させる工程を有する積層型電子部品の製造方法である。 - 特許庁

Then, based on the reference infrared absorption patterns and the infrared absorption pattern of the film to be measured, multi-variate analysis by the PLS (partial least squares regression) method is made, and based on the result of the analysis, the film-forming temperature or the like is calculated.例文帳に追加

次に、参照用赤外線吸収スペクトルパターンと、被測定膜の赤外線スペクトルパターンとに基づいて、ＰＬＳ法による多変量解析を行なった後、解析の結果に基づいて、成膜温度などを算出する。 - 特許庁

To provide a compact self-ballasted fluorescent lamp 11 through downsizing of a substrate 53 by restraining excessive temperature rising of an electronic component 55 and securing an area capable of forming a wiring pattern, capable of obtaining nearly the same appearance as an ordinary lighting bulb.例文帳に追加

電子部品55の過度な温度上昇を抑制し、配線パターンを形成可能な面積を確保しながら基板53を小形化し、一般照明用電球と略同じ外観を得られる電球形蛍光ランプ11を提供する。 - 特許庁

This is heated to eliminate gas in the interlayer insulation film 6 to quickly cool it down to a substrate holder temperature, and after impurities in the contact hole 6A are removed by RF plasma annealing, a wiring layer 7 is formed as a desirable pattern.例文帳に追加

これを加熱して層間絶縁膜６中のガス除去して基板ホルダ温度まで急速冷却し、ＲＦプラズマアニールによりコンタクトホール６Ａ中の不純物を除去した後配線層７を所望のパターンに形成する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, focus latitude, bridge defect preventing performance and dependency of sensitivity on post exposure baking (PEB) temperature, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method increasing the accuracy of a method (Tm method) detecting mutation of a base sequence of a nucleic acid by heating a double-stranded nucleic acid to the temperature (Tm value) at which the nucleic acid is dissociated into a single-stranded nucleic acid or its dissociation pattern.例文帳に追加

２本鎖核酸を加熱して１本鎖核酸に解離する温度点（Ｔｍ値）あるいは解離パターンから核酸の塩基配列の変異を検出する方法（Ｔｍ法と呼ぶ）の検出精度を高めた方法を提供する。 - 特許庁

Then, the connecting electrode 51A is connected to the connecting electrode 51B to thereby be a temperature compensated crystal oscillation module 50 in which the wiring pattern of the ceramic substrate 41 is thermally separated from the metal pin terminal 46.例文帳に追加

そして、接続用電極５１Ａと接続用電極５１Ｂとを接続することによりセラミック基板４１の配線パターンと金属ピン端子４６とを熱的に離間した温度補償型水晶発振モジュール５０を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition which is useful in producing electrical/electronic materials, can be subjected to i-line exposure and can provide a relief pattern of polyimide resin, under a low-temperature heat-curing condition of 230-280°C.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能であり、２３０〜２８０℃の低温熱硬化条件においてポリイミド樹脂のレリーフパターンを与えうる感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The line thermal printer is arranged such that chopping control information (chopper pattern and chopper end period) is determined based on the print density and the temperature of a thermal head 12 and used in a drive control circuit 23 for controlling the heating time of a heating element 24.例文帳に追加

印字密度及びサーマルヘッド１２のヘッド温度に基づいてチョッピング制御情報（チョッパパターン及びチョッパ終了期間）が決定され、駆動制御回路２３による発熱素子２４の発熱時間の制御に供される。 - 特許庁

To provide a method for setting injection velocity of a casting in a die casting machine with which the danger enclosing the air in an injection sleeve into molten metal at the increasing velocity range of a plunger is not developed and the molten metal temperature can be kept to automatically set the injection velocity pattern.例文帳に追加

プランジャの増速域で射出スリーブ内の空気が溶湯に巻き込まれる危険性がなく、かつ溶湯温度を維持できる射出速度パターンを自動的に設定する射出速度設定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a plasma processing method wherein, when a resist pattern is removed by an ashing process of a low temperature RIE system, it is possible to remove a polymer in a side wall around a substrate and a bevel with a simple configuration.例文帳に追加

レジストパターンを低温ＲＩＥ方式のアッシング処理で除去する際、基板周辺の側壁部やベベル部のポリマーの除去を、簡単な構成により可能にするプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrically-conductive ink which forms a layer with a high electrical conductivity even when it is heated at a low temperature, and which hardly causes the change of properties owing to the drying before a picturing, and additionally which can form a finer pattern due to its excellent levelling resistance.例文帳に追加

低い加熱温度によっても高い導電性を有する被膜が得られ、描画前の乾燥による変質が起こり難いことに加え、耐レベリング性に優れ、より微細なパターン形成を可能とする導電性インクを実現する。 - 特許庁

In the substrate member 28, an inorganic color filter 3 is pattern-formed on a translucent substrate 2, an overcoat layer 6 covering the color filter 3 is formed on the substrate 2, and a high-temperature stabilization layer 7 is formed on the overcoat layer 6.例文帳に追加

基板部材２８は、透光性基板２の上に無機系カラーフィルタ３をパターン形成し、基板２の上にカラーフィルタ３を覆ってオーバーコート層６を形成し、オーバーコート層６の上に高温安定化層７を形成して成る。 - 特許庁

To provide an electrically conductive ink composition which can form a good electrically conductive small-gauge wire pattern and enables low temperature firing or curing by ultraviolet irradiation, a printing method which can simply print a good electrically conductive small-gauge wire pattern with the use of the electrically conductive ink composition, and a print formed by the printing method.例文帳に追加

良好な導電性細線パターンを形成することができ、低温焼成もしくは紫外線照射による硬化が可能な導電性インキ組成物、該導電性インキ組成物を用いて良好な導電性細線パターンを簡便に印刷することができる印刷方法、及び該印刷方法により形成された印刷物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having re-adherability after exposure, and improved in pattern formability with an alkali developer, heat resistance after re-adhesion and pasting ability at low temperature when formed into a film shape; an adhesion sheet using the composition; an adhesive pattern; a semiconductor wafer with an adhesive layer; and a semiconductor device; and a method for manufacturing the device.例文帳に追加

アルカリ現像液によるパターン形成性及び再接着後の耐熱性と、フィルム状に形成されたときの低温貼付性の改善された、露光後の再接着性を有する感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an effective manufacturing method of a highly efficient semiconductor device which can use even ArF (argon fluoride) excimer laser light as exposure light in patterning, can control the thickening amount of a resist pattern to be fixed even if conditions such as temperature and atmosphere change, and has a fine wiring pattern or the like beyond exposure limit in a light source of an exposure device.例文帳に追加

パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンの厚肉化量を温度、雰囲気等の条件が変化しても一定にコントロールすることができ、露光装置の光源における露光限界を超えて微細な配線パターン等を有する高性能な半導体装置の効率的な製法方法の提供。 - 特許庁

A film forming technique of a honeycomb porous thin film using waterdrops as a casting mold is used as a fundamental technique and a phase separation and thermal transfer method are combined with this technique to obtain the structure having a cyclicity other than a honeycomb structure, that is, a structure having the microring or microrod pattern by the degree of a heating temperature or the structure having this pattern.例文帳に追加

水滴を鋳型とするハニカム多孔質薄膜の製膜技術を基礎として、これに相分離および熱転写法を組み合わせることによって、ハニカム構造以外の周期性を有する構造、すなわち、加熱温度の高低によって、マイクロリングあるいはマイクロドットパターンないしはこのパターンを有する構造体を得るのに成功した。 - 特許庁

To obtain a high-quality mounting structure of electronic components stable in soldering strength wherein adhesives for temporarily fixing electronic components to a circuit board never flow out to a circuit pattern and if high temperature heat resistance tests, etc., are conducted, no electric connection between the circuit pattern and electric components becomes unstable.例文帳に追加

本発明は、電子部品を回路基板に仮止めするための接着剤が回路パターン側に流れ出すことがなく、また、高温の耐熱試験等を行っても回路パターンと電気部品との電気的な接続が不安定にならない、半田付け強度が安定した高品質の電子部品の取付構造を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In the imaging apparatus that requires a dark fixed pattern noise correction value different in each sensitivity, when dark image data is required by an environmental condition such as ambient temperature at photographing, an image range to be used is changed to capture dark in accordance with set sensitivity, and a projection operation is performed to generate a one-dimensional dark fixed pattern noise correction value.例文帳に追加

感度毎に異なるダーク固定パターンノイズ補正値が必要な撮像装置において、撮影時、周囲温度等の環境条件によりダーク画像データを必要とする場合、設定された感度に応じて、画面の使用する範囲を変更しダーク取り込みを行い、射影演算して一次元のダーク固定パターンノイズ補正値を生成する。 - 特許庁

The photoluminescent film comprises two or more pairs of photoluminescent pattern layers each contacting with a primer layer, a pair of photoluminescent pattern layer consisting of a relief forming layer and a metal thin film layer, wherein preferably each of at least two photoluminescent patterns is visible from the back side and front side, and the glass transition temperature of the primer layer is 130°C or below.例文帳に追加

レリーフ形成層と金属薄膜層とを１組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、２組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有し、好ましくは、少なくとも２つの光輝性図柄が表側及び裏面からそれぞれ視認でき、上記プライマ層のガラス転移温度が１３０℃以下であることも特徴とする。 - 特許庁

An organic polymer resin layer is provided on the surface of a semiconductor device, after pattern processing and hardening treatment are performed, the resin pattern is etched as a mask, the conduction layer of the opening part is exposed, next, oxygen plasma treatment is performed at a temperature of 100°C or higher, and the semiconductor device is manufactured by cleaning the conduction layer of the opening part.例文帳に追加

半導体素子表面に有機ポリマー樹脂層を設け、パターン加工及び硬化処理を施したのち、この樹脂パターンをマスクとしてエッチング処理し、開口部の導通層を露出させ、次いで１００℃以上の温度で酸素プラズマ処理を行い、上記開口部の導通層をクリーニングすることにより、半導体装置を製造する。 - 特許庁

A resin 30 is provided between a wiring substrate 10 with a wiring pattern 12 and a semiconductor chip 20 which has a plurality of electrodes 22 and is mounted on the wiring substrate 10 so that the electrode 22 comes into contact with the wiring pattern 12, and is hardened at a temperature lower than a boiling point of the resin 30 until the hardening reaction rate is 80% or more.例文帳に追加

配線パターン１２を有する配線基板１０と、複数の電極２２を有し電極２２が配線パターン１２と接触するように配線基板１０に搭載された半導体チップ２０との間に設けられた樹脂３０を、樹脂３０の沸点以下の温度で、硬化反応率が８０％以上になるまで硬化させる。 - 特許庁

To meet the requirement for a fine pattern by making a resin surface smooth readily, by ensuring enough wire bonding resistance by using a highly heat-resistant material of high Tg and small storing elasticity modulus variation at a temperature lower than Tg and by forming a fine conductor circuit pattern by a semi additive method or a full additive method.例文帳に追加

樹脂表面を容易に平滑にするとともに、高ＴｇでかつＴｇ以下の温度において貯蔵弾性率変化の小さい高耐熱材料を用いることにより充分なワイヤーボンディング耐性を確保し、さらにセミアディティブ法あるいはフルアディティブ法による微細な導体回路パターンを形成する事でファインパターンへの対応を可能とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

In a flow sensor wherein a flow rate detector 30 and a heater 40 are provided on the diaphragm 10 having a membrane structure formed on the cavity part 1a of a semiconductive substrate 1 and a fluid temperature detector 20 is provided on the semiconductive substrate 1, grooves 21 are formed on both sides of the wiring pattern of the fluid temperature detector 20.例文帳に追加

半導体基板１の空洞部１ａ上に薄膜構造のダイアフラム１０を形成し、そのダイアフラム１０に流量検出体３０、ヒータ４０を設けるとともに、半導体基板１上に流体温度検出体２０を設けてなるフローセンサにおいて、流体温度検出体２０の配線パターンの両側に溝２１を形成した。 - 特許庁