「temperature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus suppressing occurrence of density irregularity of black belt-like pattern even when continuous image formation is performed under a low-temperature and low-humidity environment, thereafter, a photoreceptor is left standstill and again the image formation is performed.例文帳に追加

低温低湿環境の下で連続作像を行った後、静放置して再度作像しても黒帯模様の濃度ムラの発生を抑制することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

The decorative joint material 1 made of silicone rubber comprises silicone rubber, and scale-like granules 2 and a pigment neither melted nor discolored at the vulcanizing temperature of silicone rubber, and exhibits the grained pattern.例文帳に追加

シリコーンゴム、シリコーンゴムの加硫温度では溶融又は変色しない鱗片状粒体２と顔料とからなり、石目調模様を現出させてなることを特徴とするシリコーンゴム製化粧目地材１とする。 - 特許庁

By forming the pattern of the power-collecting line 3 by the photoresist agent layer P1 formed by using a photoresist agent, the power-collecting line can be formed without needing heating at high temperature.例文帳に追加

またフォトレジスト剤を用いて形成したフォトレジスト剤層Ｐ１により集電線３のパターンを作成できることで、高い温度での加熱の必要なく集電線を形成することが可能となり得る。 - 特許庁

The personal computer 1 varies a ratio of color signals RGB to generate various test pattern signals under a plurality of color temperature conditions and allows the color image display panel to display various test patterns.例文帳に追加

パーソナルコンピュータ１は、色信号ＲＧＢの比率を変えることにより複数の色温度条件のもとで各種テストパターン信号を発生しカラー画像表示パネルに各種テストパターンを表示させる。 - 特許庁

To provide a pattern forming device which can shorten a time from the beginning of an exchanging operation of a sub-carriage to the arrangement of each carriage at a drawing position, and efficiently control temperature in a chamber.例文帳に追加

サブキャリッジの交換作業開始から各キャリッジを描画位置に配置するまでに要する時間を短縮するとともに、チャンバ内を効率よく温度調節できるパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

In such a structure, a contact area of the lead 15 and the conductive pattern is made smaller than in the prior art, so that release of heat at high-temperature function test can be made smaller.例文帳に追加

このような構造にすることにより、リード１５と導電パターンを接触させた際の接触面積が従来よりも小さくなり、高温ファンクションテストにおける熱の逃げを小さくすることができる。 - 特許庁

Finally, the liquid crystal layer 12 which is hardened is heated and baked at a fixed temperature using a hot plate 25 (Fig.(c)), by which a final original pattern for optical elements 10 is manufactured (Fig.(d)).例文帳に追加

最後に、ホットプレート２５により硬化状態の液晶層１２を所定の温度で加熱して焼成し（図１（ｃ））、これにより、最終的な光学素子用原版１０を製造する（図１（ｄ））。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet manufacturing method to perform alloy processing by heating a steel sheet galvanized in a galvanizing bath, the temperature pattern to perform alloy processing is determined based on the temperature integration value obtained by multiplying the heating or cooling temperature (T) in the alloy processing by the time (t), and adding the products.例文帳に追加

亜鉛メッキ浴にてメッキを施した鋼板を加熱して合金化処理を行う合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法において、前記合金化処理における加熱・冷却中の温度（Ｔ）と時間（ｔ）とを掛け合わせて積算した温度積分値に基づいて、前記合金化処理を行う温度パターンを決定することを特徴とする合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法。 - 特許庁

A control part calculates measurement temperature of a reciprocating path in a temperature measuring operation of an infrared sensor (S9), determines whether the lens surface of the infrared sensor is murky (S10, S11), and when the lens is murky, even when the food is falsely determined as the frozen food, the overheating of the food is prevented by selecting heating pattern for a normal-temperature food (S14).例文帳に追加

制御部は、赤外線センサの温度測定動作における往路、復路の測定温度を演算する（Ｓ９）ことで、赤外線センサのレンズ面が曇っているかどかを判定し（Ｓ１０、Ｓ１１）、曇っている場合に誤って冷凍食品と判定した場合でも、加熱パターンを常温食品用のものに選択し直す（Ｓ１４）ことで、食品の過加熱を防止する。 - 特許庁

To control, for example, a droplet shape by integrating a cooling means for forming a droplet by use of an MEMs (Micro Electro Mechanical System) that controls the temperature of a minute area, or a cooling pattern layer in a predetermined minute area, thereby controlling the cooling means or cooling pattern layer minutely.例文帳に追加

本発明は、微小な領域を温度制御するＭＥＭｓ（Micro Electro Mechanical System）を用いて液滴を形成する冷却手段又は冷却パターン層を所定の微小な箇所に集積化することにより、冷却手段又は冷却パターン層を微小に制御して液滴の形状などを制御することができる。 - 特許庁

The optical recording medium is provided with the volume holographic recording area and the pit pattern recording area, and the information recorded in the pit pattern recording area is at least the recording position in the optical recording medium of the information recorded in the volume holographic recording area and the temperature when the information is recorded.例文帳に追加

体積ホログラフィック記録領域と、ピットパターン記録領域とを有し、前記ピットパターン記録領域に記録される情報が、少なくとも体積ホログラフィック記録領域に記録された情報の前記光記録媒体における記録位置及び情報の記録時の温度である光記録媒体である。 - 特許庁

A resin composition for the decorative plate containing a curable crystalline oligomer simple substance solid at an ordinary temperature, or crystalline oligomer and unsaturated polyester, is applied to pattern paper or core paper for the decorative plate, and a curing agent solution is applied to the back face to obtain resin coated pattern paper and resin coated core paper which are thermocompression-integrated.例文帳に追加

硬化性を有する常温で固形の結晶性オリゴマー単体、または結晶性オリゴマーと不飽和ポリエステルとを含む化粧板用樹脂組成物を化粧板用パターン紙またはコア紙に塗布し、裏面に硬化剤溶液が塗布して樹脂塗工パターン紙及び樹脂塗工コア紙を得、熱圧一体化する。 - 特許庁

To provide a thin film formation method for forming an even and thin film by drying a chemical solution applied to a substrate by exposing the substrate to a prescribed temperature atmosphere before the particulates of thin film materials are agglomerated and to provide a pattern formation method and a pattern formation apparatus.例文帳に追加

基板に塗布された薬液中に分散している薄膜材料の微粒子が凝集する前に、該基板を所定の温度雰囲気中に曝して薬液を乾燥し、均一な薄膜を形成しようとする薄膜形成方法及びパターン形成方法並びにパターン形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an object to be transferred which is made by laminating an optical diffraction pattern layer and an acceptance layer capable of accepting a dye image orderly on a base material, and which can avoid an influence of a decrease of adhesion between the base material and the optical diffraction pattern layer when the object to be transferred is exposed to a high temperature when transferring the dye image using a sublimation transfer sheet.例文帳に追加

基材上に、光回折パターン層、および染料画像を受容し得る受容層が順に積層されたものが、昇華転写シートを用いて転写する際に、高温にさらされて、基材と光回折パターン層との間の接着性低下による影響を回避することを課題とする。 - 特許庁

In the thermal transfer printer, before a thermal head 10 transfers the ink composition in a yellow area 31 to a recording sheet, the thermal head 10 is pre-heated up to the transfer temperature, and the ink composition of black which constitutes a mark pattern 35 is sublimated at the time of the pre-heating the thermal head to record given used information 41 on the mark pattern 35.例文帳に追加

サーマルヘッド１０がイエロー領域３１のインク成分を記録紙に転写する前に、その転写温度までサーマルヘッド１０を予熱し、その予熱の際にマークパターン３５を構成するブラックのインク成分を昇華させることにより、マークパターン３５に所定の使用済み情報４１を記録させる。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink, being a low temperature processing type electroconductive ink, capable of forming an extremely fine electroconductive pattern by screen printing, moreover requiring no specialized production process, and excellent in resistance value stability; to provide a laminate with the electroconductive pattern using the electroconductive ink; and to provide a method for producing the laminate.例文帳に追加

低温処理型の導電性インキであって、かつ、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性インキ、及びそれを用いた導電パターン付き積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant that can etch a fine pattern without generating bubbles during etching at room temperature, can be easily removed by washing with water when it becomes no more necessary after etching, and can achieve an extremely precise pattern of a transparent conductive film without residual etching portions and overetched portions while having excellent electric properties, and also to provide a method of etching.例文帳に追加

常温にて、エッチングの際に、泡立ちがなくて微細パターンのエッチング入り、およびエッチング後、不要になったエッチング液の水洗浄除性が優れており、エッチング残り、およびオーバーエッチングのない高微細精度の電気特性が優れた透明導電膜のパターンが得られるエッチング液およびエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition sufficiently excellent in all of adhesion property, high-temperature adhesiveness, pattern forming property, thermo-compression bonding property, heat resistance, and moisture resistance; and to provide a film adhesive, an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with an adhesive layer, and a semiconductor device using the photosensitive adhesive composition.例文帳に追加

貼付性、高温接着性、パターン形成性、熱圧着性、耐熱性及び耐湿性の全ての点で十分に優れた感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置を提供すること。 - 特許庁

Parameters, such as temperature, pressure, humidity, a transfer time and the like in the substrate-processing device to have effect on the formation of a resist pattern are selected as environmental conditions around a substrate, and only normal data which enable a required resist pattern to be formed are collected from the above selected parameters (step 11).例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす基板周囲の環境条件として例えば、装置内の温度や気圧、湿度あるいは装置内の搬送時間等のパラメータを抽出し、これら抽出された複数のパラメータのうち、所望のレジストパターンを形成するときの正常データ値のみを収集する（ステップ１１）。 - 特許庁

In this manufacturing method using a molding device wherein an upper die having a desired uneven design pattern and having a built-in heater is arranged oppositely to a lower die having a satin design pattern and having a built-in heater, a plastic board is fed between the upper and lower dies heated to a predetermined temperature and thereafter pressed for a predetermined period under a predetermined pressure.例文帳に追加

所望の凹凸模様パターンを有しヒータを内蔵した上型と、梨地状模様パターンを有しヒータを内蔵した下型とを対向配置した成形装置であって、所定の温度に加熱した上型と下型の間にプラ基板を供給した後、所定圧力のもとで所定時間プレスする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

A molding face 5 provided on an outer circumferential face 4 of a rotating embossing roller 3 is made to contact with the surface of the lumber 1 softened by heated steam 2, and the temperature of the embossing roller is set to 200-400°C, when compression-molding the irregular pattern 7, corresponding to a pattern formed on the molding surface, on the lumber surface.例文帳に追加

加熱水蒸気２により軟化させた木材１の表面に、回転するエンボスロール３の外周面４に有する成形面５を接触させ、成形面に形成された模様パターンに対応する凹凸模様７を木材表面に圧縮成形する際に、エンボスロールの温度を２００〜４００℃とする。 - 特許庁

Since heat treatment at a temperature of glass transition point or above of a substrate is performed after forming resist in a process following a process for forming a circuit pattern, solder resist can be formed under a state of good dimensional stability of the substrate and thereby the circuit pattern and solder resist can be formed with extremely excellent alignment accuracy.例文帳に追加

回路パターン形成工程の以降の工程に行う基材のガラス転移温度以上の温度による加熱処理を、ソルダレジスト形成の後に行うことにより、基材の寸法安定性の良い状態でソルダレジスト形成を行うので、回路パターンとソルダレジストを極めて優れた合致精度により形成することが可能となる。 - 特許庁

An ink-jet method using a liquefied substance containing conductive particles as an ink at a normal temperature is used for the formation of the conductive pattern 411 (including 412, 414), the conductive particles are made to contact with one another by drying and solidifying this ink, and thus the conductive pattern 411 (including 412, 414) is formed.例文帳に追加

この導通パターン４１１（４１２，４１４も）の形成には、常温では導電性粒子を含有した液状物をインクとするインクジェット法が用いられ、当該インクを乾燥固化させることにより導電性粒子を相互接触させて、導通パターン４１１（４１２，４１４含）が形成されている。 - 特許庁

The resist pattern is formed by using at least a pattern for forming a resist layer 4 on a base material 2 by applying the non-chemical amplification type resist, a process for exposing the resist layer 4, a process for baking the exposed base material 2 at 90-130°C temperature, and a process for developing the baked base material 2.例文帳に追加

非化学増幅型レジストを塗布することによって基材２にレジスト層４を形成する工程と、レジスト層４を露光する工程と、露光を行った基材２を９０℃以上１３０℃以下の温度でベークする工程と、ベークを行った基材２を現像する工程とを少なくとも含んでレジストパターンを形成する。 - 特許庁

In the ashing method, while irradiating a heating gas to a resist pattern 101 that is formed at the upper part of a silicon substrate 100 and having an alteration layer 101b formed at the surface layer in an oxygen-containing atmosphere, the silicon substrate 100 is cooled down to the temperature lower than the heating gas to remove the resist pattern 101.例文帳に追加

シリコン基板１００の上方に形成されて表層に変質層１０１ｂが形成されたレジストパターン１０１に対し、酸素含有雰囲気中において加熱ガスを照射しながら、加熱ガスよりも低い温度にシリコン基板１００を冷却してレジストパターン１０１を除去するアッシング方法による。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in pattern shapes, PEB temperature dependency and exposure latitude, and to provide a pattern forming method using the positive photosensitive composition, in the positive photosensitive composition and a pattern forming method using the positive photosensitive composition to be used for production processes of semiconductors such as ICs, production of circuit boards for liquid crystals, thermal heads or the like, and other photofabrication processes.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、ＰＥＢ温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste for forming an organic-inorganic composite conductive pattern, which has the effects that an organic-inorganic composite conductive pattern with a low specific resistivity is obtained even under low-temperature curing conditions and fine patterning is possible owing to high photosensitive characteristics, and which enables to easily form fine bumps, wiring and the like on various substrates, and to provide a method for producing an organic-inorganic composite conductive pattern.例文帳に追加

低温のキュア条件においても比抵抗率の低い有機−無機複合導電性パターンが得られ、且つ高い感光特性により微細パターニングが可能という効果を有し、各種基板上に微細なバンプ、配線などを容易に形成することができる、有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法を得る。 - 特許庁

The sheet-like circuit device has a filmy base 11, a circuit pattern including circuit elements 12, 13 formed on the base 11, first outside connecting electrode terminals 14, 15 and second electrode terminals 16 connected to the circuit pattern, and an adhesive layer 17 adhesive at room temperature formed on at least either the circuit pattern forming surface or the filmy base 11 surface.例文帳に追加

フィルム状基材１１と、フィルム状基材１１に形成された回路素子１２、１３を含む回路パターンと、回路パターンに接続された外部接続用の一方の電極端子１４、１５、他方の電極端子１６と、回路パターン形成面およびフィルム状基材１１表面の少なくとも一方の面上に形成された常温で粘着性を有する粘着層１７とを有する構成からなる。 - 特許庁

Then one pattern composed of an intermittent operation for alternately switching on and off the heating elements 5a, 5b by every prescribed time and a continuous operation for switching on the heating elements for a prescribed time, is repeated to keep the prescribed temperature zone.例文帳に追加

つぎに発熱体５ａ，５ｂを所定時間毎に交互にＯＮ／ＯＦＦする断続運転と、所定時間ＯＮする連続運転とを１パターンとし、このパターンを繰り返すことにより、所定の温度域を維持する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good property balance of warpage, folding resistance and moisture-resistant insulation reliability and can be adapted even to low-temperature curing at 120°C, a method for producing a resist pattern, a flexible substrate and electronic components.例文帳に追加

そり、耐折性、耐湿絶縁信頼性の特性バランスが良く、１２０℃の低温硬化にも対応可能な感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、フレキシブル基板及び電子部品を提供する。 - 特許庁

Temperature fluctuation near nostrils or mouth of the occupant due to breath is detected as a change of a heat image pattern on the basis of the heat image picked up by an infrared rays camera, and breath cycle of the occupant is computed.例文帳に追加

そこで、赤外線カメラ３１で撮像した熱画像に基づいて、呼吸による乗員の鼻孔や口元付近の温度変化を熱画像のパターンの変化として検出して、乗員の呼吸周期を算出する。 - 特許庁

A PDP filter 1 has an improvement in the adhesiveness of a conductive layer 3 to a glass substrate 2 by performing heat treatment at a temperature of 150°C or higher after the pattern-printing the ink including conductive particulates to the surface of the glass substrate 2.例文帳に追加

導電性微粒子を含むインキをガラス基板２表面にパターン印刷した後、１５０℃以上の温度で加熱処理することにより、導電層３のガラス基板２への密着性を高めたＰＤＰフィルタ１。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a step that is required for a mask alignment is secured in one pattern process, and the step serves as an alignment mark even after the step is substituted to a high temperature diffusion process.例文帳に追加

１回のパターン工程で、マスクアライメントに必要な段差を確保し、該段差が高温の熱拡散工程を経た後にもアライメントマークとして機能する半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The structure in which the glass substrates are sealed with the B-stage adhesive 11 can reduce the influence of temperature on an EL, prevent breakage of a pattern such as stress distortion or warpage of the glass, and provide an inexpensive EL excellent in moisture resistance and reliability.例文帳に追加

Ｂステージ型接着剤で封止する構造はＥＬへの温度影響を少なくでき、応力歪みやガラスの反り等パターンの破損を防止し、耐湿性、信頼性が優れたＥＬを安価に提供できる。 - 特許庁

To provide a lamination apparatus which can form a sharp temperature gradient in the thickness direction of a laminate and a method for laminating thermoplastic printed boards which does not cause the dimensional change of the boards and the deformation of a wiring pattern when the boards are laminated.例文帳に追加

積層体の厚さ方向に急激な温度勾配を与え得る積層装置、および熱可塑性プリント基板の積層に際して寸法変化や配線パターンの変形を招かない積層方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent resolution and etching resistance, capable of giving a resist pattern that undergoes a small dimensional change per unit temperature by a thermal flow process and having good aging stability.例文帳に追加

解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a hardenable composition for lining at the time of production of a shadow mask, capable of providing a hardened membrane excellent in each of etching resistance, alkali-dissolvable and peelable properties, and pattern-forming properties even in the case of carrying out secondary etching at high temperature.例文帳に追加

高温で２次エッチングする場合においても、その硬化膜が、耐エッチング性、アルカリ溶解・剥離性及びパターン形成性のいずれにも優れたシャドウマスク製造時の裏止め材用硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

A barrier wall 3 of a specified pattern is formed on a substrate 2, color ink having 3 to 10 mPa.s viscosity during the injection is injected to the color forming part 5 surrounded by the barrier wall 3 and dried at specified temperature.例文帳に追加

基板２上に所定パターンの隔壁３を形成し、前記隔壁３で囲まれた着色形成部５に、吐出時の粘度が、３〜１０ｍＰａ・ｓの着色インクを吐出した後に所定の温度で乾燥させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high wet heat resistance, a high elastic modulus of a cured product at high temperature and excellent hollow structure retention property, and to provide a method for forming a rib pattern using the composition, and electronic components.例文帳に追加

耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたリブパターンの形成方法、及び電子部品の提供。 - 特許庁

On the basis of the data from the discriminating device 20, the control device 30 creates a spray control signal which is instructions for controlling a spraying device 40 to maintain the uniformity of the temperature pattern by places, and sends the signal to the spraying device 40.例文帳に追加

制御装置３０は、判別装置２０からのデータに基づいて、場所による温度パターンの均一性を保つよう散布装置４０を制御する指示である散布制御信号を作成し散布装置４０へ送る。 - 特許庁

To provide a light shielding transfer film which enables low-temperature film formation and easily and inexpensively obtaining light shielding property by simple film transfer, a method for producing the same, and a method for forming a light shielding pattern using the same.例文帳に追加

低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルム及びその製造方法、それを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion close to that of a substrate, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁