| 例文 |
temperature patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 996件
In the method for manufacturing the combination printing plate in which an overlapped part with a printing pattern forming part 4a of the screen 3 is eliminated, the overlapped part 3' with the printing pattern forming part 4a of the screen 3 is cut by fusion and eliminated by pressing a hot wire 9 heated at a specified temperature thereon.例文帳に追加
スクリーン3の印刷パターン形成部4aと重なる部分を除去するようにしたコンビネーション印刷用版の製造方法において、上記スクリーン3の印刷パターン形成部4aと重なる部分3′を、所定の温度に熱せられた熱線9を押し当てることにより溶断除去する。 - 特許庁
In the method for manufacturing temperature sensor elements each made of a thermocouple formed by joining two types of different materials to each other, a hook type pattern layer 1 and a hook type pattern layer 2 are formed by directly overlying a substrate 3 by screen printing in such a way that one may be overlaid on the other and then thermally treated.例文帳に追加
2種の異なる材料が接合されてなる熱電対からなる温度センサ素子の製造方法であって、かぎ型パターン層1およびかぎ型パターン層2を重ね合うようにスクリーン印刷により直接基板3上に積層形成した後、熱処理する。 - 特許庁
The line pattern 8 is detected through the slit 157 having an aperture 157a parallel with a main scanning direction, whereby errors in detection timing of the line pattern 8 associated with the variation (caused by vibration or temperature change or the like) of the attaching position of the photosensor 12 are drastically decreased.例文帳に追加
ラインパターン8の検出を、主走査方向に平行な開口部157aを持つスリット157を通して行うことにより、光センサ12の取り付け位置の変動(振動や温度変化等による)に伴うラインパターン8の検出タイミング誤差を大幅に低減することができる。 - 特許庁
A pattern 3 for reinforcing bonding is arranged adjacent to the terminal for IC connection of a circuit substrate where a pattern 2 is formed on an insulating substrate 1 of a polyimide film or the like, and an the adhesion force between an IC 4 and the circuit substrate is increased, thus improving reliability against change in temperature.例文帳に追加
ポリイミドフイルム等の絶縁基板上にパターンが形成してある回路基板のIC接続用端子と隣接して接着補強を目的としたパターンを配置し、ICと回路基板の接着力が向上することで温度変化による信頼性が向上する。 - 特許庁
The pattern forming device comprises a mask 1 arranged on a first face side of a substrate 2 for forming a pattern, and a plurality of Peltier elements 5 and cooling plates 6 for controlling the temperature of the mask 1 from a second face side of the substrate 2, and controls the cooling power of each Peltier element 5 for every multiple areas of the mask 1.例文帳に追加
パターンを形成する基板2の第1面側に配設されたマスク1と、基板2の第2面側からマスク1の温度を制御する複数のペルチェ素子5および冷却板6とを備え、各ペルチェ素子5の冷却力をマスク1の複数の領域ごとにそれぞれ制御する。 - 特許庁
To provide a silica-based photosensitive resin composition having excellent long-term storage stability at room temperature (20 to 25°C) and high sensitivity and allowing pattern formation with high accuracy, to provide a method for forming a silica-based insulating coating film for obtaining a cured product with high pattern accuracy by using the composition, and to provide electronic components using the composition.例文帳に追加
長期の室温(20〜25℃)保存安定性に優れ、さらに高感度で、精度よくパターン形成できるシリカ系感光性樹脂組成物、これを用いたパターン精度の高い硬化物が得られるシリカ系絶縁被膜の形成方法、電子部品を提供する。 - 特許庁
In this film forming process, the temperature at the striped areas having a pattern related to the striped pattern of the grooves 24 or the striped metal film 31 formed in the back side 21b of the sapphire substrate body 21 is selectively raised, and thereby the dislocation density at the surfaces of these areas is made extremely low.例文帳に追加
この成膜過程中、サファイア基板本体21の裏面21bに形成した溝24または金属膜31のストライプ状パターンに関連したパターンを有するストライプ状領域の温度が選択的に高くなり、この領域の表面での転位密度は非常に小さくなる。 - 特許庁
To provide a resist material which can make the gradient of dissolution of a positive or negative resist smaller than that of a resist for a repetitive pattern so as to ensure wide margins for focusing and exposure for an isolated left pattern with the positive or negative resist and does not cause the lowering of a margin for PEB temperature as a conventional defect.例文帳に追加
孤立残しパターンをポジあるいはネガレジストを用いて、広いフォーカスや露光のマージンを確保するために、レジストの溶解の傾きを繰り返しパターン用レジストより小さくすることができるとともに、従来の欠点であるPEB温度マージンの低下を生じないジスト材料を提供する。 - 特許庁
To improve the electric power resistance of a superconducting filter which uses a conductor film pattern, made of a high-temperature superconductor by greatly relaxing the electric field concentration of a conductor film pattern and to sufficiently comply with a demand for size reduction.例文帳に追加
高温超伝導体からなる導体膜パターンを用いた高周波平面型の超伝導フィルタにおいて、導体膜パターンの電場集中を大幅に緩和して耐電力性の向上を図るとともに、更なる小型化への要請にも十分に応えることを可能とする。 - 特許庁
The temperature controller 30 calculates a magnification error on transferring a mask pattern onto a work by exposure based on the temperature change of the mask, calculates necessary calorie to be added to the work stage to correct the magnification error, and sends a control command value in accordance with the necessary calorie to the heating controlling device.例文帳に追加
温度コントローラ30は、マスクの温度変化に基づいてマスクのパターンをワークに露光転写する際の倍率誤差を算出し、この倍率誤差を補正することが可能なワークステージに加えるべき必要熱量を算出し、この必要熱量に応じた制御指令値を加熱制御装置に送る。 - 特許庁
The cell pattern recovery tool comprises: a surface-treated highly adhesive base material layer; a surface silane-treated temperature-responsive polymer layer which is formed on the base material layer; and a cell adhesion inhibiting material layer which is formed on the temperature-responsive polymer layer.例文帳に追加
本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる。 - 特許庁
To provide an air conditioner capable of creating a comfortable sleeping condition by preventing overcooling during sleep, and saving energy by controlling an operation by adding information relating to user's hotness state on the basis of a hotter temperature control pattern under consideration of temperature rhythm during sleep.例文帳に追加
睡眠中の体温リズムを考慮した暑めとなる温度制御パターンを基に、ユーザの暑熱状態に関する情報を加味して運転制御を行うことによって、睡眠中の冷えすぎを防止して快適な睡眠状態を作出するとともに、省エネにも資する空気調和機を提供する。 - 特許庁
To provide the ceramic substrate for semiconductor manufacture/ detector of excellent electrode pattern embeddment and temperature measurement accuracy by thermo-viewer, excellent volume resistivity and heat conductivity at a high temperature and low lightness suitable as the substrate of a hot plate, an electrostatic chuck, a wafer prober and a susceptor.例文帳に追加
電極パターンの隠蔽性およびサーモビュアによる温度測定精度に優れる他、高温での体積抵抗率および熱伝導率にも優れ、かつ明度が低く、ホットプレート、静電チャック、ウエハプローバ、サセプタなどの基板として好適な半導体製造・検査装置用セラミック基板を提供すること。 - 特許庁
To prevent dew condensation on a substrate and to avoid the occurrence of a failure such as pattern collapse even in the case that heat of the substrate is taken away by evaporation of fluid supplied to the substrate and thus the temperature of the substrate can be turned to be lower than an ambient dew point temperature.例文帳に追加
基体に供給した液体の蒸発によって当該基体の熱が奪われ、これにより基体の温度が雰囲気露点温度より低温状態となり得る場合であっても、当該基体に結露が生じるのを防止して、パターン倒れ等の不具合発生を未然に回避できるようにする。 - 特許庁
Since the estimator 13 estimates the maximum electric power supply on the basis of the temperature detected by the temperature detector 3 when a power supply 11 supplies the electric power to the light emitter 2 by a predetermined output pattern, the electric power supply to obtain the maximum light output is easily determined.例文帳に追加
故に、推定部13が、所定の出力パターンで電源部11から発光部2に電力を供給したときの温度検出部3の検出温度に基づいて最大供給電力を推定するから、最大光出力を得るための供給電力が容易に決定できる。 - 特許庁
To attain effective cooling and the outlet temperature of a target value even in the state of causing a certain degree of icing between a closed type heat exchanger and an outside air intake port of a cooling tower by selecting the quantity of water spray according to a temperature pattern, and controlling the rotating direction of a blower.例文帳に追加
散水量を温度パターンに応じて選定し、かつ、送風機の回転方向を制御することで、効果的な冷却と、冷却塔の外気取入れ口や密閉型熱交換器間にある程度氷結が発生している状態でも目標値の出口温度を得る。 - 特許庁
To provide a fluorescent tube driving device, a backlight device and a liquid crystal display device capable of supplying a stable oscillation wave pattern to a fluorescent tube even in a low temperature environment, and preventing the occurrence of flickering of the fluorescent tube even in a low temperature and in driving PWM light adjustment.例文帳に追加
本発明は、低温環境時でも蛍光管に安定した発振波形を供給し、また低温環境かつPWM調光駆動時においても蛍光管のフリッカを発生させることを防止できる蛍光管駆動装置、バックライト装置および液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
The pile fabric provided with a color pattern on the pile surface is obtained by sewing a pile using a dyed acrylic fiber and by using the color change of a pile part dyed at a low temperature by operations of heating temperature conditions and a heating method of pile processing such as a tenter process and a polishing process of pile sewing.例文帳に追加
アクリル系繊維を、染色した繊維を用いてパイルを縫製し、パイル縫製のテンター工程やポリッシング工程等のパイル加工の加熱温度の条件及び加熱方法の操作にて、低温で染色したパイル部が色変化する事を用いて、パイル表面に色模様を付与したパイル布帛。 - 特許庁
To provide a magnetic one-component toner excellent in image density and resolution, capable of obtaining sufficient image density even in an environment at high temperature and high humidity as well as at low temperature and low humidity, and less liable to cause image density unevenness of a ripple pattern due to uneven transport and charge on a sleeve in a recycled cartridge.例文帳に追加
画像濃度、解像度に優れ、低温低湿下のみならず、高温高湿下においても十分な画像濃度を得ることができると共に、リサイクルカートリッジにおいて、スリーブ上における搬送帯電ムラによるさざ波模様の画像濃度ムラが生じにくい磁性一成分トナーを提供する。 - 特許庁
In the pattern forming method, when the at least one photosensitive resin layer contains a naphthoquinonediazido derivative, in the step of transferring the photosensitive transfer material, a substrate temperature is 120-180°C, a roll temperature is 130-160°C, or a conveyance speed is 1-2 m/min.例文帳に追加
また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が120℃以上180℃以下、又はロール温度が130℃以上160℃以下又は搬送速度が1m/分以上2m/分以下であるパターン形成方法。 - 特許庁
To solve the problem that discriminating accuracy on the kind of recording material gets worse because the ejection temperature of the recording material differs according to a printing pattern even in the case of the same recording material in an image forming apparatus where the ejection temperature of the recording material is measured and the kind of the recording material is discriminated from the result of measurement.例文帳に追加
記録材の排紙温度を測定し、測定結果から記録材の種類を判別することが可能な画像形成装置において、同じ記録材でも印字パターンによって排紙温度が異なるため記録材の種類の判別精度が悪くなるという課題を解決する。 - 特許庁
An AIDC sensor 42 detecting toner adhesive amount to a sample toner pattern formed on a photoreceptor drum, a temperature sensor 43 and a humidity sensor 44 detecting the temperature and the humidity of the inside of the device are connected to a CPU 61 constituting the control circuit 60 of the image forming device.例文帳に追加
画像形成装置の制御回路60を構成するCPU61には、感光体ドラム上に形成されたサンプルトナーパターンのトナー付着量を検出するAIDCセンサ42、装置内部の温湿度を検出する温度センサ43及び湿度センサ44が接続される。 - 特許庁
A display 29 displays the full volume in a control pattern B of a blower level with respect to a required diffusing temperature TAO and displays also the present level C of a blower in response to the present required diffusing temperature TAO1 found by a controller 21 in combination with the full volume display hereinbefore.例文帳に追加
表示器29は、必要吹出温度TAOに対するブロワレベルの制御パターンBの全容を表示すると共に、制御装置21で求めた現時点の必要吹出温度TAO1に応じてブロワの現在レベルCを前記の全容表示と組み合わせて表示する。 - 特許庁
To suppress variations in an obtained film pattern when forming the film pattern of a conductive or semiconductive film on a substrate by heating a resin film to at least a temperature at which the resin is decomposed after allowing the resin film formed on the substrate to absorb a liquid containing a constituent of the conductive or semiconductive film, thereby enabling a highly precise pattern to be obtained.例文帳に追加
基板上に形成された樹脂膜に、導電性膜又は半導電性膜の構成成分を含有する液体を吸収させた後、該樹脂膜を、当該樹脂の分解温度以上に加熱することで、基板上に導電性膜又は半導電性膜の膜パターンを形成するに際し、得られる膜パターンのバラツキの発生を抑制し、高精度のパターンが得られるようにする - 特許庁
The photonic crystal having a column array structure is made by forming a metal thin film pattern (gold pattern) 25 on the surface of the (111) face single crystal silicon layer 23 on a substance layer (silicon dioxide layer)22 different from silicon in refractive index and growing silicon single crystal columns 26 on a metal thin film pattern formation part in a high- temperature silicon tetrachloride gas atmosphere to form the columns.例文帳に追加
屈折率がシリコンと異なる物質層(二酸化シリコン層)22上の(111)面単結晶シリコン層23の表面に金属薄膜パターン(金パターン)25を形成し、高温の四塩化珪素ガス雰囲気中で金属薄膜パターン形成部にシリコン単結晶柱26を成長させることにより柱状体を形成し、柱状体配列構造を有するフォトニック結晶を作製する。 - 特許庁
The printing apparatus 100 produces printing precision information regarding the printing pitch of a printing mark to be printed on a substrate Q1 in a pattern recognition part 300, and outputs the information to a temperature control means 430.例文帳に追加
印刷装置100は、パターン認識部300にて基板Q1に印刷される印刷マークの印刷ピッチに関する印刷精度情報を生成して温度制御手段430へ出力する。 - 特許庁
To provide an antireflection member which has excellent transparency and scratch resistance, good adhesion at a high temperature and high humidity, antistatic properties, and antireflective properties and achieves both the reduction of an iris pattern and image visibility.例文帳に追加
優れた透明性、耐擦傷性、高温高湿下における良好な接着性、帯電防止性、反射防止性、虹彩模様の低減、画像視認性を同時に付与した反射防止部材を提供する。 - 特許庁
To provide a magnesium alloy having improved strength at room temperature and applicable to a sand mold casting process, a plaster mold casting process, a metal die casting process, and a lost pattern mold casting process in addition to a die casting process.例文帳に追加
室温時の強度を向上させて、ダイカスト法以外の砂型鋳造法、石膏鋳造法、金型鋳造法、消失模型鋳造法にも適用することの可能なマグネシウム合金を提供する。 - 特許庁
To keep down the rising of visibility of a specified pattern for tracking forgery and to keep down the deterioration in decoding property even when the surrounding environment (such as temperature, humidity and printed number of pages) around an image forming apparatus is varied.例文帳に追加
画像形成装置を取り巻く周辺環境(温湿度、印字枚数等)が変化しても偽造追跡用の特定パターンの視認性を高まることを抑制し、かつ解読性の低下を抑える。 - 特許庁
To provide a semiconductor inspection method that applies an electric load, such as a voltage and a temperature, to a circuit pattern to carry out evaluation of reliability, as a technique for inspecting a wafer in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
半導体製造工程途中のウエハを検査する技術として、回路パターンに電圧および温度等の電気的負荷をかけて信頼性評価を行う半導体検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive-type photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, can form a coating film having excellent heat resistance and a linear expansion coefficient proximal to that of a substrate, and does not need imidization at a high temperature.例文帳に追加
微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁
When the resist film composed of the active energy ray curable resin composition is exposed according to a predetermined pattern by being irradiated with an active energy ray, the temperature of the resist film is set to be ≥40°C.例文帳に追加
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなるレジスト膜に活性エネルギー線を照射して、レジスト膜を所定パターンに従って露光するのに際して、レジスト膜の温度を40℃以上とする。 - 特許庁
In the case that temperature of etching fluid is from 30° to 70°, the bus electrode 5b is overetched from an end of a photoresist pattern 30 by about a second width d2 which is shorter than a first width d1 and becomes to have an inclination angle β of 40° to 49°.例文帳に追加
蝕刻液の温度が30℃である場合、バス電極4bはフォトレジストパターン30の末端から第1幅d1より短い第2幅d2ほど過蝕刻され、約40〜49°の傾斜角βを有するようになる。 - 特許庁
Such a configuration reduces a contact area of the lead 15 with the conductive pattern than in the conventional art, to reduce the release of heat at high-temperature function test.例文帳に追加
このような構造にすることにより、リード15と導電パターンを接触させた際の接触面積が従来よりも小さくなり、高温ファンクションテストにおける熱の逃げを小さくすることができる。 - 特許庁
To provide a stepper motor drive circuit in which contact/noncontact can be decided surely even if the positional pattern of a rotor is varied when abutted against a stopper due to ambient temperature variation or variation of components.例文帳に追加
周囲温度変化や部品のバラツキにより、ストッパ当接時における回転子の位置関係のパターンが変動しても、当接/未当接の確実な判定を可能にしたステッパモータ駆動回路を提供する。 - 特許庁
The temperature of the biochip is controlled according to a predetermined time pattern by a heat block 31 and the image of the spotted surface of the biochip is picked up at a determined time interval by an image pickup means 55.例文帳に追加
ヒートブロック31によってバイオチップの温度を予め定められた時間パターンに従って制御し、バイオチップのスポット面を決められた時間間隔で撮像手段55によって撮像する。 - 特許庁
On the backside of a circuit pattern part 14, there is formed a ceramic layer 14 that is a normal-temperature impact solidifying film formed through junction by colliding a plurality of ceramic particulates by an aerosol deposition method.例文帳に追加
回路パターン部14の裏面にエアロゾルデポジション法により、複数のセラミクス微粒子を衝突させることにより接合されて形成された常温衝撃固化膜であるセラミクス層14を形成する。 - 特許庁
The film is irradiated with a natural light for printing a pattern, followed to be heated, and is cooled thereafter to an ambient temperature, so as to impart the latent image, when preparing the polarizing latent image using the film.例文帳に追加
このフィルムを用いて偏光性潜像を作製するには、該フィルムに、パターンを焼き付けるための自然光照射を行ない、続いて、加熱後、常温に冷却することにより潜像を付与できる。 - 特許庁
To provide a maskless exposure apparatus capable of highly accurately forming an exposure pattern of an element or the like of a temperature sensor on a curved surface, such as the surface of an inner race or an outer race of a bearing device.例文帳に追加
例えば軸受装置のインナレースやアウタレースの表面ような曲面に温度センサのエレメントなどの露光パターンを高精度に形成することができるマスクレス露光装置を提供する。 - 特許庁
The light emitting apparatus has a substrate, a plurality of picture elements arranged in a predetermined pattern on the substrate each of which includes a light emitting element, and a temperature controller formed on the side of the substrate whereon the light emitting element is formed.例文帳に追加
基板と、該基板上に、所定パターンで配列され、夫々発光素子を含む複数の画素部と、基板上における発光素子が形成された側に設けられた温度制御部とを備える。 - 特許庁
The first layer 3 is remained on an outer peripheral part of the electrolyte film 1 after removal of the second layer 4 for obtaining a predetermined catalyst layer pattern to function to reinforce the electrolyte film and to allow normal temperature adhesion of the gas diffusion layer.例文帳に追加
第1層3は、所定の触媒層パターンを得るための第2層4の除去後も電解質膜1外周部に残り、電解質膜補強とガス拡散層常温止着に機能する。 - 特許庁
The metal nano-ink having the wiring pattern, which is applied on the self-adhesive surface of the base 2, is heated at a predetermined temperature for a predetermined time period to form the circuit wiring 3.例文帳に追加
かかる回路配線3は、基材2の自己粘着性の表面に塗布された配線パターン状の金属ナノインクを所定の温度で所定の時間加熱処理することによって形成される。 - 特許庁
Further, the control pattern is selected out of the plurality of control patterns, so disabled control or unstable control can surely be avoided unlike the case wherein the user optionally selects a target temperature.例文帳に追加
また、複数の制御パターンから選択する構成としたため、ユーザーが任意に目標温度を設定した場合のように制御不能あるいは制御が不安定となることが確実に回避できる。 - 特許庁
For this regulation, prebake temperature and conditions in development processing after pattern exposure are set so that undercut parts having a proper depth and length are formed in a thin film material layer before post-bake.例文帳に追加
この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 - 特許庁
A heating part 72 extending in the carrying direction heats the thermoplastic resin base material 21 to a temperature at which an irregular pattern of the shape forming material 11 is transferred to the thermoplastic resin base material 21.例文帳に追加
搬送方向に延在する加熱部72は、熱可塑性樹脂基材21に賦形型材11の有する凹凸パターンが転写され得る温度まで熱可塑性樹脂基材21を加熱する。 - 特許庁
To provide a paste material developing both excellent conductivity at low-temperature treatment and excellent adhesiveness to a printed body, having thixotropy suited for screen printing having a micro pattern.例文帳に追加
低温処理で良好な導電性を発現するとともに被印刷体への良好な接着性を発現し、かつ、微細パターンを有するスクリーン印刷に適するチキソトロピーを有するペースト材料を提供する。 - 特許庁
To provide an infrared imaging apparatus which can reduce fixed pattern noise to a video caused by a temperature variation and also decrease a frequency of NUC processing, and an output value calculating method for an imaging element.例文帳に追加
温度変化による映像への固定パターンノイズを低減するとともに、NUC処理の頻度を少なくすることができる赤外撮像装置及び撮像素子の出力値算出方法を提供する。 - 特許庁
A dotted pattern of a catalyst metal is disposed at a prescribed position of the surface of a substrate, and silicon nanowires are crosslinked and grown between dots of the catalyst metal by a CVD process using polysilane gas at a temperature of ≤300°C.例文帳に追加
基板表面上の所定位置に触媒金属ドットパターンを配設し、ポリシランガスの300℃以下の温度でのCVDによって所定の触媒金属ドット間にシリコンナノワイヤーを架橋成長させる。 - 特許庁
To provide a process for preparing a polyarylene sulfide, without need for prepolymerization and control by a complicated temperature pattern, and also without adhesion of the polyarylene sulfide to reactor inner wall and stirring blades.例文帳に追加
予備重合や煩雑な温度パターンによる制御を必要とせず、また、ポリアリーレンスルフィドが反応容器内壁や攪拌翼に付着することなく、ポリアリーレンスルフィドを製造する方法を提供すること。 - 特許庁
The superconductivity plane circuit filter uses a filter circuit substrate 10 by which the plurality of the resonators 12 are formed on the front surface of a dielectric substrate 11 using a high temperature superconductor pattern.例文帳に追加
本発明に係る超電導平面回路フィルタは、高温超電導体パターンを用いて誘電体基板11の表面に複数の共振器12が形成されたフィルタ回路基板10を用いる。 - 特許庁
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