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temperature patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 996件
To provide a liquid crystal lens that keeps a desired temperature of a liquid crystal layer and responses at a sufficient speed even at a low temperature by sufficiently reducing the resistance of a heater so as to obtain sufficient heat energy, and increasing the flexibility of pattern wiring of the heater so as to uniformly heat within the effective circle of a phase modulation electrode group, while reducing the size of the liquid crystal panel.例文帳に追加
液晶パネルの小型化を実現しながらも、十分な熱エネルギーが得られようにヒータの抵抗値を十分下げ、同時に、ヒータのパターン配線の自由度を増して位相変調電極群の有効円内を均一に加熱できるようにして、液晶層を所望の温度以上に維持し、低温下でも十分な速さで応答する液晶レンズを提供する。 - 特許庁
To provide a method which enables to simply manufacture a conductive film by using a solution composed of only metal fine particles and solvent with few treatment process at low cost, and enables to manufacture a necessary conductive pattern film with low heat treatment temperature.例文帳に追加
処理工程数が少なく、簡便で安価、さらに金属微粒子と溶媒のみの溶液を用いることにより導電膜の形成が可能であり、且つ、低い熱処理温度で、必要な導電パターン膜を製造可能とした方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a vessel capable of providing content information, from a pattern appearing responding to temperature change with an element of surprise and effect varied in charms of transformation, by reading machine readable content information coded in accordance with color or shading.例文帳に追加
意外性、変化の妙味に富んだ効果と共に、温度変化に応じて現れる絵柄から、コンテンツ情報を色彩又は濃淡に対応してコード化した機械で判読可能なコードを読み取ることにより、コンテンツ情報を提供可能とする容器を提供する。 - 特許庁
To provide a decorative sheet of a polyester resin which shows good moldability during performing a complicated heat-molding processing and is free from the deterioration of an appearance due to the transfer of a press pattern in a moldable temperature region, with regard to the decorative sheet to be stuck to the surface of furniture, electrical appliances.例文帳に追加
家具や電製品などの表面に貼着する化粧シートに関し、複雑な熱成形加工を行う際の成形性が良好で、かつ成形可能温度域でプレス型の転写による外観低下のないポリエステル樹脂製化粧シートを提供せんとする。 - 特許庁
The invention relates to a resistance welding control method in which a predetermined initial current Ie is supplied during a predetermined initial period of time ts from the commencement of the welding, and then a welding current Iw is supplied under the temperature pattern follow-up current control.例文帳に追加
本発明は、溶接開始時点から予め定めた初期時間ts中は予め定めた初期電流Ieを通電し、その後は前記温度パターン追従電流制御によって溶接電流Iwを通電する抵抗溶接制御方法である。 - 特許庁
Therefore, since heat generated caused by resonation of each SAW resonator 90S1 is radiated and dissipated through the thick-film connection pattern 94 and the bonding pad, heat dissipation effect is improved and temperature rise in each SAW resonator 90S1 can be suppressed.例文帳に追加
そのため、各SAW共振子90S1の振動により基板に発生した熱は、厚い膜の接続パターン94及びボンディングパッドを伝わって逃げるので、放熱効果が向上し、各SAW共振子90S1での温度上昇を抑えることができる。 - 特許庁
To provide a molding method for inexpensively molding a foamed sheet free from not only a spider mark but also the uneven pattern due to the density variation of a molten resin even if the foamed sheet is molded from a high pressure molten resin under a low temperature condition and having an excellent surface shape.例文帳に追加
高圧の溶融樹脂を低温条件で発泡シートを成形しても、スパイダーマークは勿論のこと溶融樹脂の密度の濃淡による凹凸模様もない、表面形状に優れた面状発泡シートを安価に成形する成形方法を提供する。 - 特許庁
To enable sure formation of a lead pattern with a narrow pitch of 60 μm or less and enhancement of a long-term reliability such as temperature cycle of a semiconductor device by restricting the roughened face of a TAB tape which constitutes a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置を構成するTABテープの銅箔の粗化面を最大粗さにより規制して、60μm以下といった狭ピッチのリードパターンを確実に形成することを可能とし、半導体装置の温度サイクル等の長期信頼性を高めることを可能とする。 - 特許庁
To provide an air conditioner without requiring a complex mechanism for optimizing a lubricating oil or the amount of refrigerant for achieving optimum air conditioning adapted to an air conditioning load pattern to be changed as well as obtaining dehumidification operation without causing decrease in a room temperature.例文帳に追加
圧縮機の潤滑油の適正化や、冷媒量の最適化のための複雑な機構を要せず、変化する空調負荷に応じた最適な空調を実現すると共に、室温の低下を招かない除湿運転が可能な空気調和機を提供すること。 - 特許庁
To provide a power circuit wiring structure which includes a plurality of heat dissipation parts which can decrease a temperature rise of a pattern on a printed board packaging a power circuit component, and have a fine heat-dissipating characteristic, and includes a heat dissipation member which can secure a safe insulating distance.例文帳に追加
パワー回路部品を実装したプリント基板上のパターンの温度上昇を軽減できる放熱特性が良好な複数の放熱部を備え、かつ安全な絶縁距離を確保できる放熱部材を備えたパワー回路配線構造を提供する。 - 特許庁
To provide safely a composition for firing which is used for a pattern in a display member and a circuit member, can be coated and can thermally decompose the organic component at a low temperature and can obtain a high strength material after firing, and a fired material using this.例文帳に追加
ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。 - 特許庁
This manufacturing method comprises a heating process (S12) of heating the spring up to the preset setting temperature and a painting process (S14 and S16) of baking by spraying paint on the surface of the spring while cooling the heated spring by a preset cooling pattern.例文帳に追加
本願の製造方法は、予め設定された設定温度までばねを加熱する加熱工程(S12)と、加熱されたばねを予め設定された冷却パターンで冷却しながら、ばねの表面に塗料を吹付けて焼付ける塗装工程(S14,S16)を有している。 - 特許庁
To provide an apparatus for controlling a finishing rolling mill, which prevents strip running from having troubles caused by the decreased rolling speed and controls the temperature of a material to be rolled to accord to the decreased rolling speed, to provide a method of controlling the mill, and to provide a method of creating a control pattern of the mill.例文帳に追加
圧延速度の減速に起因する通板トラブルの発生を抑制し、且つ圧延速度の減速に応じて被圧延材の温度を制御できる仕上連続圧延機の制御装置、制御方法及び制御パターン作成方法を提供する。 - 特許庁
In this composite porous membrane having membrane thickness of 5-100 μm, a porous membrane consisting a polyimide resin having glass transition temperature over 70°C and logarithmic viscosity over 0.5 dl/g is laminated on a porous base material of polyolefin etc. in a geometrical pattern.例文帳に追加
ガラス転移温度が70℃以上、対数粘度が0.5dl/g以上であるポリイミド系樹脂からなる多孔質膜をポリオレフィン系などの多孔質基材上に幾何学模様状に積層した膜厚が5〜100μmの複合多孔質膜に関する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition suitable for use in an ultramicro-lithographic process for manufacturing VLSI or a high capacity microchip and in another photofabrication process, and having improved PEB temperature dependency, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
超LSIや高容量マイクロチップ製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、PEB温度依存性が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a toner density adjusting device which can perform detection of liquid toner layer density little in change over time and is adaptive to a variation in liquid viscosity and in temperature of materials to be used by eliminating problems of clogging and abrasion which are caused by a pattern roller when the liquid toner layer density is detected.例文帳に追加
液体トナー層濃度を検出するに際して、パターンローラでは生じたような目詰まりとか削れの問題を無くして、経年変化の少ない検出を可能にするだけでなく、液粘度の変化とか使用材質の温度変化にも対応可能にする。 - 特許庁
A large number of model control points pa, pb, pc, pd, pe, pf are set to a two-dimensional diagram pattern formed by a temperature difference between a front seat and a rear seat detected by an inside air sensor and a blow-out opening mode, so as to specify an actual control coordinate point px at a current input value.例文帳に追加
前席と後席の内気センサが検出した温度差と吹出口モードとで形成された二次元線図パターンに多数のモデル制御点pa、pb、pc、pd、pe、pfを設定し、現入力値における実制御座標点pxを特定する。 - 特許庁
To provide a stable photosensitive resin composition capable of retaining the tack-freeness of a photosensitive resin dry film in warming by the effects of remaining heat after drying, a temperature rise due to exposure, etc., capable of undergoing contact exposure through a mask pattern and having high sensitivity, high adhesion and high resolution.例文帳に追加
乾燥後の余熱、露光による温度上昇等の影響による加温時の感光性樹脂乾燥膜のタックフリー性を維持でき、マスクパターンの密着露光が可能で、高感度、高密着性、高解像性で安定な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A β type crystal and a γ type crystal of 4-amino-5-chloro-2-ethoxy-N-[[4-(4-fluorobenzyl)-2-morpholinyl]methyl]benzamide-citrate which are characterized by a powder x-ray diffraction pattern and/or a differential scanning calorimetric analysis thermogram, and are stable at the room temperature are disclosed.例文帳に追加
粉末X線回折パターン及び/又は示差走査熱量分析サーモグラムで特徴付けられ、室温で安定な、4−アミノ−5−クロロ−2−エトキシ−N−[[4−(4−フルオロベンジル)−2−モルホリニル]メチル]ベンズアミド・クエン酸のβ型結晶及びγ型結晶。 - 特許庁
To provide an aligner in which the positions of a reticle and a wafer can be measured accurately even when there is a temperature change, a circuit pattern can be exposed and transferred precisely and the fraction defective of a chip is reduced and a device having high performance can be prepared.例文帳に追加
温度変化があってもレチクルやウエハの位置測定を正確に行うことができ、精度よく回路パターンを露光転写することができてチップの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a gas detector capable of securing airtightness without using any seal member, capable of performing optimal gas detection according to the amount of a detected gas, and having an electric signal with a reduced drift by reducing deformation of a gas container due to the temperature difference between the container and the detected gas and thereby suppressing a change in a speckle pattern.例文帳に追加
シール部材を用いずに気密が取れ、被検出ガスのサンプル量に応じた最適なガス検出が行え、被検出ガスとの温度差に伴うガス容器の変形を減少させてスペックルパターンの変化を抑えて電気信号のドリフトを低減する。 - 特許庁
Then, an electrode forming region is exposed within the upper side surface of a heterostructure layer by wet etching using a room-temperature ammonia water as an etchant with a resist pattern as a mask to remove a part of the amorphous AlN thin film corresponding to the electrode forming region.例文帳に追加
次に、レジストパターンをマスクとし、室温アンモニア水をエッチャントとして用いたウェットエッチングを行うことにより、電極形成領域に対応するアモルファスAlN薄膜の部分を除去して、ヘテロ構造層の上側表面内の電極形成領域を露出させる。 - 特許庁
The pattern forming material has on a support at least the photosensitive layer containing the binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder has an I/O value of 0.300-0.650 and a glass transition temperature (Tg) of ≥80°C.例文帳に追加
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのI/O値が、0.300〜0.650であり、かつ、ガラス転移温度(Tg)が80℃以上であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a conductive circuit in which a conductive pattern of high definition can be formed using a low temperature treatment conductive ink by screen printing, and which exhibits excellent stability of resistance without requiring a special manufacturing process.例文帳に追加
低温処理型の導電性インキを使用し、かつ、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性回路の製造方法を提供する。 - 特許庁
Air bubble can be prevented from piling within the thrust bearing even under environment in which oil viscosity increases under low temperature environment in such a way that minimum groove width is made to be more than 0.1 mm and less than 0.15 mm in a groove pattern of dynamic pressure generation groove 3A of the thrust bearing.例文帳に追加
スラスト軸受の動圧発生溝3Aの溝パターンにおいて最小の溝幅を0.1mmを越え0.15mm未満にすることで、低温環境下でオイル粘度が増大した環境下でもスラスト軸受内部に気泡が滞留することを防止できる。 - 特許庁
To provide a method for forming a protective film of dense film quality at a low temperature of ≤200°C on an upper part of a pixel controlling element and a wiring pattern for preventing mixing of impurities into a liquid crystal cell layer when the pixel controlling element is selectively transferred to a liquid crystal display substrate.例文帳に追加
液晶ディスプレイ基板に画素制御素子を選択的に転写するにあたり、液晶セル層への不純物混入を防止するため、画素制御素子及び配線パターンの上部に、緻密な膜質の保護膜を200℃以下の低温で形成する。 - 特許庁
An ambient temperature is set at 230°C, and each of the metal junction terminals 4a of the rear surface side of the sensor device 4 and each terminal portion (land portion) of the center portion side of a wiring pattern 2a are each joined as a solder junction portion 6 by each of the paste-like solder materials 6a.例文帳に追加
周囲温度を摂氏230度にして、センサデバイス4の裏面側の各金属接合端子4aと、配線パターン2aの中央部側の各端部(ランド部)とをそれぞれ、各ペイスト状半田材料6aにより半田接合部6として接合する。 - 特許庁
Then the conductive layer 12 is shaped into a prescribed circuit pattern, and is pressurized while being subjected to heat that is higher than the melting temperature of the thermoplastic adhesive 11, then is embedded in the thermoplastic adhesive 11.例文帳に追加
次に、導体層12を所定の配線回路パターンに形成し、更にこの導体層12を、熱可塑性接着剤11の溶融温度以上の温度を加えながら加圧し、熱可塑性接着剤11の中に埋め込むことによってプリント配線基板を製造する。 - 特許庁
The connection layer 30 includes a solder layer 32 mechanically bonding the IGBT 11 and the circuit pattern 21, and a diode 31 that is provided so as to face a part of the IGBT 11 of which the temperature becomes maximum during operation, and has a higher electrical resistance than that of the solder layer 32.例文帳に追加
接続層30は、IGBT11と回路パターン21とを機械的に接合するはんだ層32と、駆動時に温度が最大になるIGBT11の一部に臨んで設けられはんだ層32と比較して電気抵抗が高いダイオード31と、を有する。 - 特許庁
To provide a card which is rich in designing property and has high forgery preventing effect by creating such the facts that the color of the card is changed or is made transparent or opaque, or the pattern printing layer and magnetic stripe of the card are made visible or not visible in accordance with temperature.例文帳に追加
温度によって、カードの色が変化したり、または、透明になったり、不透明になったりする、あるいは、カードの絵柄印刷層や磁気ストライプが、見えたり、見えなかったりすることによって、意匠性に富んだ、また、偽造防止効果の高いカードを提供する。 - 特許庁
To provide an inkjet recording apparatus capable of recording a test pattern while a recording head is held at a constant temperature without using an additional means such as a cooling mechanism and capable of precisely and appropriately performing a correcting processing of image data, and to provided an inkjet recording method.例文帳に追加
冷却機構などの付加的な手段を用いることなく、記録ヘッドを一定の温度に保ちながらテストパターンを記録でき、画像データの補正処理を高精度かつ適正に行うことが可能なインクジェット記録装置およびインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a copper particulate sintered body type micro profile conductive body showing excellent conductivity by applying a reduction treatment to the copper particulates or oxidized copper particulates provided with a surface oxidized film layer in a pattern under comparatively low temperature after a detailed pattern is drawn by using dispersion liquid of copper particulates provided with surface oxidized film layers and then sintering the formed copper particulates.例文帳に追加
表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、パターン中の表面酸化膜層を有する銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、LERにも優れ、更にPEB温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
At least one layer of conductive film is formed on an insulating surface, a resist pattern is formed thereon, and then the conductive film having the resist pattern is etched to form a metallized wiring having a tapering angle αcontrolled depending on the bias power density, ICP power density, temperature of a lower electrode, pressure, total flow rate of etching gas, and the ratio of oxygen or chlorine in the etching gas.例文帳に追加
本発明は、絶縁表面上に少なくとも一層の導電膜を形成し、前記導電膜上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを有する導電膜にエッチングを行い、バイアス電力密度、ICP電力密度、下部電極の温度、圧力、エッチングガスの総流量、エッチングガスにおける酸素または塩素の割合に応じてテーパー角αが制御された金属配線を形成することを特徴としている。 - 特許庁
The electrode pattern composed of the ink is formed on the substrate by offset printing using the ink for forming the plasma display panel electrode, containing conductive powders, a resin composition removable by baking and a thixotropy-imparting agent having 200-450°C pyrolysis temperature, wherein the ratio of the thixotropy-imparting agent is 0.1-5 wt.% of the whole, followed by baking the printed electrode pattern.例文帳に追加
導電性粉体と、焼成により除去可能な樹脂分と、熱分解温度が200〜450℃であるチキソトロピー性付与剤と、を含み、かつ当該チキソトロピー性付与剤の含有割合が全体の0.1〜5重量%である、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの電極形成用インキを用いて、当該インキからなる電極パターンをオフセット印刷によって基板上に形成し、次いでこの電極パターンを焼成する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition, which can sufficiently suppress turbidity in a resin film after applied or developed, which is curable at a low temperature and which is developable with an alkali aqueous solution, and to provide a method for producing a resist pattern using the positive photosensitive resin composition, a semiconductor device having a resist pattern formed by the above method, and an electronic device including the semiconductor device.例文帳に追加
塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。 - 特許庁
To provide a printed circuit board manufacturing method capable of reducing a cost required for a transfer process and minimizing influence upon a metal pattern to improve the reliability of a product by using a substance that varies adhesion with temperature as an adhesion layer in transferring a circuit.例文帳に追加
回路を転写することにおいて、温度に応じて粘着力が変化する物質を粘着層として用いることにより、転写工程に必要とする費用を節減でき、金属パターンへの影響を最小化して製品の信頼度を向上できる、印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
A different wafer temperature within the surface of the wafer mounted on the plasma etching device is induced according to a shape value (a width or the like) distrubution within the wafer surface, during etching by plasma the film of the wafer to be etched by measuring the shape value of the resist pattern to be the mask within the wafer surface.例文帳に追加
マスクとなるレジストパターンの形状値(幅など)のウエハ面内分布を測定し、そのウエハをプラズマで被エッチング膜をエッチングする際に、そのウエハ面内の形状値分布に応じて、プラズマエッチング装置に載置されたウエハの面内に異なるウエハ温度を生じるようにする。 - 特許庁
Prior to the irradiation of laser beams 60 for baking a film pattern 40A, a portion near an irradiation region S1 of laser beams 60 for baking is irradiated with first laser beams 61A for heating at temperature that is lower than that of the laser beams 60 for baking.例文帳に追加
膜パターン40Aを焼成する焼成用レーザ光60が照射されるのに先行して、その焼成用レーザ光60の照射領域S1の近傍に、焼成用レーザ光60に比べて低い温度で加熱する第1の加熱用レーザ光61Aを照射するようにした。 - 特許庁
To provide a land pattern shape of a user substrate whose counterpart adjacent mounting electrodes are not short-circuited even a piezo-electric component is miniaturized and are not influenced by thermal stress due to sudden temperature change caused by reflow etc. and to provide the piezo-electric component mounted thereon.例文帳に追加
本発明の目的は、圧電部品が小型化しても、隣接する実装電極同士が短絡することなく、また、リフロー等による急激な温度変化による熱応力の影響を受けることのないユーザ基板のランドパターン形状とそこに実装する圧電部品を提供することにある。 - 特許庁
A photosensitive resin solution is applied on a transparent substrate 201 to form a photosensitive resin coating film by drying at a prescribed temperature, it is exposed using a photomask formed with a randomly arranged dot pattern, and is heated to be cured to form a resin film 202 having dotlike gentle unevenness.例文帳に追加
透明基板201上に感光性樹脂溶液を塗布し、所定の温度で乾燥し感光性樹脂膜を形成し、ランダムに配置されたドットパターンが形成されたフォトマスクを使って露光し、加熱硬化してドット状のなだらかな凹凸を有する樹脂膜202を形成する。 - 特許庁
To provide a release sheet used for manufacturing various synthetic leather products or wallpapers and capable of being adapted to the production of various synthetic leather products or the like having the same embossed pattern or gloss even if used repeatedly at a high temperature (about 200°C), and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
各種合成皮革製品や壁紙等の製造に使用される離型シートであって、高温(200℃付近)で繰り返して使用しても、同一のエンボス柄やツヤ等を有する合成皮革製品等を製造できる離型シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The printed circuit board, on which a predetermined electronic circuit is formed by mounting the element that is a constituent with a specific function on a formed circuit pattern, is configured in such a manner that the element is mounted so that the thermally-expandable member that expands when a predetermined temperature is reached is located between the printed circuit board and the element.例文帳に追加
形成された回路パターンに、固有の機能を有する部品である素子が実装されることで所定の電子回路を構成するプリント基板を、所定の温度に達すると膨張する熱膨張部材がプリント基板との間に配置されるように素子が実装されるよう、構成する。 - 特許庁
To provide an alignment method for precisely aligning each one of shots S1 to S32 a substrate P with a pattern image of a mask M by obtaining an array of the shots S1 to S32 based on the condition of a temperature distribution on upper surface of a first holding section 26 of a substrate table PT.例文帳に追加
基板テーブルPTの第1保持部26上面の温度分布に基づいた条件で、ショットS1〜S32の配列を求めることで、基板PのショットS1〜S32の各ショットと、マスクMのパターン像とを高精度に位置合わせする位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁
The mask cleaning method includes a step of cleaning a surface of a mask film 32 by irradiating a mask film 32 having a mask pattern formed on a main surface 30a of a substrate 30 with energy beam from the mask film 32 and making the temperature of the mask 32 higher than that of the substrate 30.例文帳に追加
マスク洗浄方法は、基板30の主面30a上に形成されたマスクパターンを有するマスク膜32に、マスク膜32側からエネルギー線を照射して基板30よりもマスク膜32の温度を高温とすることによりマスク膜32の表面を洗浄する工程を含む。 - 特許庁
A screen print is sequentially made on the print pallet 1 to form a stacked body having a conductive pattern between insulating layers, and a degree of luster is measured by the luster measurer 6 in the step of forming the film layer to control a temperature of the dryer 5 and a conveying speed of the belt conveyor 2.例文帳に追加
印刷パレット1の上に順次にスクリーン印刷を行い、絶縁膜層の間に導体パターンを有する積層体を形成するが、膜層の形成工程では光沢測定器6で光沢度を測定し、乾燥機5の温度,ベルトコンベア2の搬送速度などを制御する。 - 特許庁
To provide a resist laminated body adaptable to exposure in the far ultraviolet region, excellent in adhesion between the 1st and 2nd layers, having high resolving power, capable of forming a resist pattern having superior dry etching resistance, processable at a high temperature in a short time and excellent also in suitability to production.例文帳に追加
遠紫外領域の露光に対応し得、第1層と第2層との密着性が優れ、高い解像力を有し、優れたドライエッチング耐性を有するレジストパターンを形成することができ、さらに、短時間での高温処理が可能であり、製造適性にも優れるレジスト積層物を提供すること。 - 特許庁
To achieve a more stable printing operation by improving the ability to follow a temperature change, even in a fixing power control system that obtains a desired input power by using a plurality of successive half waves of a commercial power supply as one power input pattern.例文帳に追加
商用電源の連続する複数の半波を一つの電力投入パターンとして所望の投入電力を実現する定着電力制御方式においても、温度の変動に対して追従性を良くし、より安定したプリント動作を実現することを目的とする。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition in which crosslinking efficiency of a condensate of an alkoxysilane can be increased after exposure by heat treatment at such a relatively low temperature as ≤300°C, and from which a thin film pattern excellent in electrical insulation can be obtained.例文帳に追加
露光した後に、例えば300℃以下の比較的低い温度で熱処理することによって、アルコキシシランの縮合物の架橋効率を十分に高めることができ、かつ電気的絶縁性能に優れた薄膜パターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The mixing of the combustion gas 107a and the combustion air 11b is promoted by opposed collision of the combustion gas 107a and the combustion air 11b, and the imbalance of the temperature of the combustion gas 107a in the outlet of the reheat furnace 108 is reduced by changing the flow pattern of the combustion gas.例文帳に追加
燃焼ガス107aと燃焼用空気11bとの対向衝突により、燃焼ガス107aの燃焼用空気11bとの混合を促進し、燃焼ガスの流動パターンを変化させ、再熱炉108の出口での燃焼ガス107aの温度のアンバランスを低減する。 - 特許庁
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