「thin layer method」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of an optical recording medium by which the variation of the film thickness of a formed thin film can be reduced by controlling accurately a film thickness distribution in the radial direction when the thin film of a light transmission layer that requires the high accuracy of a film thickness is formed on the substrate by a spin coat method.例文帳に追加

高い膜厚精度が要求される光透過層などの薄膜を基板上にスピンコート法で形成する場合に、半径方向での膜厚分布を精度良くコントロールして、形成される薄膜の膜厚のばらつきを低減することができる光学記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film patterning apparatus which is capable of performing a patterning process without using a photolithography process and permits simplification of fabricating processes and to provide a method of fabricating color filter array substrate using the thin film patterning apparatus, with respect to the method of fabricating a color filter array substrate provided with an overcoat layer particularly having a flat surface.例文帳に追加

本発明は、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film device which can separate, not depending on a mechanical method, a device forming layer formed by laminatedly over a supporting substrate and can reduce remarkably a failure rate resulting from the generation of cracks at the time of separation.例文帳に追加

支持基板上に積層形成したデバイス構成層を機械的な方法によらずに分離し、分離時の亀裂発生による不良率を大幅に低減することができる薄膜デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing method capable of applying ink without generating color omission, in a color filter manufacturing method executed through a process for forming a thin film layer in a pixel part and a process for correcting a portion getting defective by a foreign matter.例文帳に追加

画素部に薄膜層を形成する工程および異物により不良となった箇所を修正する工程を通して行なうカラーフィルタの製造方法において、色抜けのないインク塗布が可能となる、プラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which a resist film can be made thin by using a lower layer film formed by a coating method, the required mask thickness is maintained, and the difference caused by conversion in processes is suppressed to process the objective film with high dimensional accuracy.例文帳に追加

塗布法により成膜できる下層膜を用いてレジスト膜の薄膜化を図るとともに必要なマスク厚を確保し、加工変換差を抑制して寸法精度よく被加工膜を加工し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element having uniformity and a good jointing surface, in which an organic thin film layer can be simply formed on a substrate, and provide the element manufactured by the method.例文帳に追加

有機薄膜層を簡便に基板上に形成できるとともに、均一性及び良好な接合界面を有する有機電界発光素子を製造する方法及びその製造方法により得られる有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL device forming an organic EL layer by discharging and applying an organic EL material by an ink-jet method on a substrate, with uniform thickness of an organic EL thin film between pixels within effective optical area and in respective pixels.例文帳に追加

インクジェット方式で基板上に有機ＥＬ材料を吐出、塗布し有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ装置の製造において、有効光学領域画素間および各画素内で有機ＥＬ薄膜の膜厚を均一にする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the soft magnetic compact, a heat treatment is carried out, after composite soft magnetic particles have been compacted by forming a thin film of an electric insulating nonmagnetic material, on the surface of a soft magnetic particle by atomic layer deposition method.例文帳に追加

軟磁性粒子の表面にアトミック・レイヤ・デポジション法で電気絶縁性非磁性材料からなる薄膜を形成してなる複合軟磁性粒子を圧粉成形後、熱処理することを特徴とする軟磁性成形体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing deterioration of the surface morphology of an Ni-containing film caused by dependence on an under layer and of forming a continuous film in a thin film region, and to provide a method and an apparatus of processing a substrate.例文帳に追加

Ｎｉを含む膜の下地依存性による表面モフォロジ劣化を解決し、薄膜領域で連続膜を形成することができる半導体装置の製造方法、基板処理方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To control the amount of a photoresist remaining in a channel region to be uniform and to reduce projections at an end of a semiconductor layer, in relation to a method for forming a pattern using a photoresist composition and to a method for manufacturing a thin film transistor display panel.例文帳に追加

フォトレジスト組成物を用いたパターンの形成方法、薄膜トランジスタ表示板の製造方法に関し、チャンネル領域に残っているフォトレジストの量を均一にして、半導体層の末端の突出を減少させる。 - 特許庁

Disclosed is the method for manufacturing the alignment layer made of an inorganic substance, the method including a step of depositing a thin film of the inorganic substance on a substrate in an oblique deposition method, the inorganic substance being vapor-deposited in different film deposition regions on the substrate at different film deposition rates.例文帳に追加

無機物から成る配向膜の製造方法であって、斜方蒸着法により基板上に無機物の薄膜を形成する工程を有し、前記基板上の異なる成膜領域に、異なる成膜速度で無機物を蒸着する配向膜の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the thin-film organic transistor 1, since a photosensitive resin layer 8 is formed by a photolithographic method, and the source electrode 3 and the drain electrode 4 are formed by a non-electrolytic plating method; the source electrode 3 and the drain electrode 4 are easily formed with high positional accuracy.例文帳に追加

薄膜有機トランジスタ１の製造方法では、フォトリソグラフィ法で感光性樹脂層８を形成し、無電解メッキ法でソース電極３及びドレイン電極４を形成するので、ソース電極３及びドレイン電極４を簡便かつ位置精度良く形成できる。 - 特許庁

To provide a method of forming a thin film which uses an ALD (Atomic Layer Deposition) method of forming a metal silicate film whose residual impurity concentration is reduced by carrying out a process of removing impurities in the film using a chamber which is the same used for forming the film, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

成膜と同一の処理チャンバーを用いて膜中の不純物除去処理を行い、残留不純物の濃度が低減された金属シリケート膜を形成するALD法を用いた薄膜の形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for improving the adhesion between the metal thin film of a conducting layer and the electroplated film, comprises immersing the substrate provided with the metal thin film of the conducting layer, into a liquid of pH 2 or lower, which includes a predetermined concentration of a coupling agent having metal scavenging ability, before electroplating metal.例文帳に追加

導電層となる金属薄膜の付いた基板に対し、下記濃度の金属補足能を有するカップリング剤を含むｐＨ２．０以下の液へ浸漬処理を行い、その後に電気金属めっきを行うことを特徴とする導電層となる金属薄膜と電気めっき膜との密着性を向上させる金属膜間密着性向上方法。 - 特許庁

To determine a thin-film multi-layer structure by setting a combined model of film thickness and complex index of refraction, calculating the simulation spectrum thereof, and fitting the simulation spectrum to measured spectrum by using Extended Best Local Minimum Calculation (EBLMC) in the analysis method of a thin-film n-layer structure by using a spectral ellipsometer.例文帳に追加

本発明による分光エリプソメータを用いた薄膜ｎ層構造の解析方法では、膜厚や複素屈折率などの組み合わせモデルを設定し、そのシミュレーションスペクトルを算出して、そのシミュレーションスペクトルと測定スペクトルとのフィッティングを広範囲極小値計算法（ＥＢＬＭＣ）を使用して行うことにより、薄膜多層構造を決定する。 - 特許庁

The composite foil and a composite foil laminated sheet are obtained by the method for correcting the curl of the composite foil where extremely thin electrolytic copper foil with carrier copper foil which has a three-layer structure of carrier copper foil/organic release layer/extremely thin electrolytic copper foil is subjected to heat treatment.例文帳に追加

上記課題の解決を目的として、当該複合箔がキャリア銅箔／有機剥離層／極薄電解銅箔の３層構造を有するキャリア銅箔付極薄電解銅箔であり、当該複合箔を加熱処理することを特徴とする複合箔のカール矯正方法と、この方法により得られた複合箔及び複合箔積層板を採用した。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming the gate insulating film 101 on the semiconductor substrate 100, forming a thin silicon layer 102 on the gate insulating film, and forming the metal film 103, having the value of the work function at an interface of the gate insulating film that becomes within a predetermined range on the thin silicon layer.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板１００上にゲート絶縁膜１０１を形成する工程と、ゲート絶縁膜上に薄いシリコン層１０２を形成する工程と、この薄いシリコン層上にゲート絶縁膜界面での仕事関数が所定範囲内の値となる金属膜１０３を形成する工程と、を備えたものである。 - 特許庁

The manufacturing method of the ceramic electronic part comprises a process for forming a conductor layer 13 containing a resin constituent on a thin transfer material 11, a process for radiating beams which decompose the resin constituent, and a process for transferring the conductor layer 13 to a ceramic substrate 12 from the thin transfer material 11.例文帳に追加

本発明のセラミック電子部品の製造方法は、転写用薄材１１上に樹脂成分を含む導体層１３を形成する工程と、転写用薄材１１上の導体層１３に、樹脂成分を分解する光線を照射する工程と、導体層１３を転写用薄材１１からセラミック基材１２に転写する工程とを含んでいる。 - 特許庁

To provide an inexpensive manufacturing method for a thin-film EL element and the thin-film EL element provided with an alkaline-earth metal sulfide EL luminescent layer preventing adsorption of carbon dioxide and vapor, etc., into the surface of a substrate, and having an excellent luminance and a long life without heat treatment after the formation of the luminescent layer.例文帳に追加

基板表面への炭酸ガスや水蒸気などの吸着を防ぎ、発光層成膜以後の熱処理を行うことなく、発光輝度、寿命特性に優れるアルカリ士類金属硫化物ＥＬ発光層を備えた薄膜ＥＬ素子を安価に得る製造方法や、そのようなすぐれた特性を持つ薄膜ＥＬ素子を提供すること。 - 特許庁

In this etching method, since fluorine-based gas plasma is generated on a processing workpiece 10 to form, in advance, a fluorine compound thin film on a copper thin film (e.g., a source electrode 21 and a drain electrode 22) exposed in an electrode groove 18, the copper thin film can be prevented from corrosion in etching a silicon layer 17 with halogen gas plasma.例文帳に追加

本発明では処理対象物１０上でフッ素系ガスのプラズマを発生させ、電極溝１８内に露出する銅薄膜（例えばソース電極２１、ドレイン電極２２）にフッ素化合物薄膜を予め形成しておくので、ハロゲンガスのプラズマでシリコン層１７をエッチングする際に、銅薄膜がハロゲンガスのプラズマで腐食されない。 - 特許庁

To provide an orientational single layer ferroelectric oxide thin film which has a smooth surface and is useful for making a high quality switching element, to provide a method for profitably produce the same, and to provide a high quality switching element obtained by laminating a conductive thin film to the ferroelectric oxide thin film having the smooth surface.例文帳に追加

平滑な表面を有し、高品質なスイッチング素子の作製ために有用な配向性単層強誘電体酸化物薄膜及びその工業的に有利な製造方法並びに該平滑な表面を有する強誘電体酸化物薄膜上に導電体薄膜を積層してなる高品質なスイッチング素子を提供すること。 - 特許庁

To provide an oxide thin film or a nitride thin film deposition element which can maintain the interface property of the oxide thin film by ALD and can highly maintain the substrate certainly, and without a possibility that an ALD high film quality layer which makes an interface with the substrate may be damaged and deteriorated, by utilizing a CVD method without lowering the throughput of depositing.例文帳に追加

ＡＬＤによる酸化物薄膜又は窒化物薄膜と基板との界面特性を確実に高く維持することができると共に、成膜のスループットを低下せず、更にＣＶＤ法を利用することによって基板との界面をなすＡＬＤ高膜質層が損傷劣化する虞のない酸化物薄膜又は窒化物薄膜堆積体を提供すること。 - 特許庁

To provide a solution for forming an insulating thin film that can be applied at low temperature, has high insulation and dielectric constant properties, and allows surface processing, the insulating thin film formed using the same, a field effect transistor having superior performance using the insulating thin film as a gate insulating layer and a method of manufacturing the same, and an image display device.例文帳に追加

低温で塗布形成可能で高い絶縁性と誘電率を有し、かつ表面処理可能な絶縁性薄膜の形成用溶液、それを用いて形成した絶縁性薄膜、絶縁性薄膜をゲート絶縁層として用いることで優れた性能を有する電界効果型トランジスタ及びその製造方法並びに画像表示装置を提供する。 - 特許庁

On the manufacturing method of the aluminum foil for a battery or an electric double-layer capacitor having a conductive thin film closely adhered on the surface of the aluminum foil, carbon particles with a diameter of 0.01 to 2 μm are further adhered on the conductive thin film after the conductive thin film closely adhered on the surface of the aluminum foil is formed.例文帳に追加

アルミニウム箔表面に密着する導電性薄膜を有する電池または電気二重層キャパシタ用アルミニウム箔、および、アルミニウム箔表面に密着する導電性薄膜を形成せしめた後、これに更に粒子径が０．０１ないし２マイクロメートルの炭素粒子を付着せしめる電池または電気二重層キャパシタ用アルミニウム箔の製造法。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor composite device includes processes of: sticking the semiconductor thin film 120 of a thin film to the substrate 301 by intermolecular force between a sticking surface of the semiconductor thin film 120 and a surface of a conducting layer 302 formed on the substrate 301; and dividing the semiconductor thin film 120 into individual semiconductor elements (light emitting elements) 501 collectively on the substrate 301.例文帳に追加

半導体複合装置の製造方法は、薄膜の半導体薄膜１２０を、該半導体薄膜１２０の貼り付け面と基板３０１上に設けた導通層３０２の表面との間の分子間力により、該基板３０１に貼り付ける工程と、上記半導体薄膜１２０を上記基板３０１上で一括して個別の半導体素子（発光素子）５０１に素子分離する工程とを含む。 - 特許庁

The ceramic porous plate has fine pore parts having 5 nm to 200 μm average pore diameter and ≥0.5 mm thickness and a thin film having film thickness controlled in a molecular layer or atomic layer level is formed on at least a part of the inside wall of the fine pore parts by an atomic layer deposition (ALD) method.例文帳に追加

平均細孔径が５ｎｍ〜２００μｍの細孔部を有し厚さが０．５ｍｍ以上のセラミック多孔質板であって、該細孔部内壁の少なくとも一部にＡＬＤ法によって分子層または原子層レベルで膜厚制御された薄膜が形成されていることを特徴とするセラミック多孔質板を提供する。 - 特許庁

To actualize the compound thin-film magnetic head, which can accurately detect the output signal of a magneto-resistance element without being affected by noise and has excellent insulation characteristics between the conductive layer and a shield layer, and the method for manufacturing the magnetic head in high yield by making the conductive layer thick and lowering its resistance.例文帳に追加

磁気抵抗素子に接続された導電層を厚くして抵抗を下げ、その出力信号をノイズに影響されずに正確に検出でき、導電層とシールド層との間の絶縁特性も良好とした複合型薄膜磁気ヘッドおよびそれを高い歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁

The method includes: forming a translucent first layer on an optical substrate 1 directly or through the other layer; and forming, on a surface of the first layer, a translucent thin film 33 including at least any one of transition metal carbide, transition metal silicide and transition metal germanide by means of physical vapor deposition.例文帳に追加

光学基材１の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜３３を物理的蒸着により形成することとを有する。 - 特許庁

A formation method of an intermediate layer for a tape-like oxide superconducting thin film wire includes: bending a tape-like orientation metal substrate which is unwound from an unwinding reel; forming the intermediate layer on an inner bent surface side; and then winding, around a winding reel, the orientation metal substrate with the intermediate layer formed while unbending the orientation metal substrate.例文帳に追加

巻出しリールから巻出されたテープ状の配向金属基板を湾曲させ、内曲げ面側に中間層を形成し、その後、湾曲を解消させながら、中間層が形成された配向金属基板を巻取りリールに巻取るテープ状の酸化物超電導薄膜線材の中間層形成方法。 - 特許庁

The method for fabricating a thin device 1 comprises a process for forming a flat film 3 on a substrate 2, a process for forming a lower conductor layer 10 on the flat film 3, a process for forming a dielectric film 20 on the lower conductor layer 10, and a process for forming an upper conductor layer 30 on the dielectric film 20.例文帳に追加

薄膜デバイス１の製造方法は、基板２の上に平坦化膜３を形成する工程と、平坦化膜３の上に下部導体層１０を形成する工程と、下部導体層１０の上に誘電体膜２０を成膜する工程と、誘電体膜２０の上に上部導体層３０を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

In this method for manufacturing the laminated sheet, a mirror surface-like metallic gloss ink layer containing a fine fragment of a metallic thin film in a binding resin, is laminated on a transparent or translucent film layer and an organic solvent with not less than 30% solubility to the binding resin is applied to the ink layer.例文帳に追加

透明又は半透明のフィルム層に、金属薄膜細片を結着樹脂中に含有した鏡面状金属光沢インキ層を積層した後、前記インキ層上に前記結着樹脂に対する溶解率が３０％以上である有機溶剤を塗工する積層シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of a silicon wafer capable of effectively exercising a gettering effect also in a thin film device while having BMD (Bulk Micro Defect) in a shallow region of, for example, ≤10 μm from a surface layer with high density, but having no defect in an extreme surface layer functioning as a device active layer.例文帳に追加

表層から例えば１０μｍ以内までの浅い領域にＢＭＤ（Ｂｕｌｋ Ｍｉｃｒｏ Ｄｅｆｅｃｔ）が高密度で存在するが、デバイス活性層として機能する極表層には欠陥が存在せず、薄膜デバイスに対してもゲッタリング効果を有効に発揮しうるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium wherein a carbon protective film is formed on a metal thin film magnetic layer of the magnetic recording medium and the lubricating layer is formed on the carbon protective film, a lubricant solution for forming the lubricating layer is heated at a piping part between a storage tank and a nozzle part or at the nozzle part.例文帳に追加

磁気記録媒体の金属薄膜磁性層上に炭素保護膜を形成し、さらに該炭素保護膜上に潤滑層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上記潤滑層形成用の潤滑剤溶液を保管タンクとノズル部との間の配管または該ノズル部にて加熱する。 - 特許庁

To obtain an inexpensive thin wiring board carrying wiring layers using no copper-plated substrate formed by sticking copper foil, etc., to a substrate with an adhesive on both surfaces of an insulating layer and a conductive layer on the internal surface of the through hole of the insulating layer, a multilayered wiring board, and a method for manufacturing the wiring boards.例文帳に追加

絶縁層の表裏両面に配線層を有し、絶縁層の貫通孔内面に導電層を有する配線基板において、前記配線層を、銅箔等を接着剤で接着した銅張り基板を用いない安価で薄型の配線基板，多層配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The thin-film-forming method includes a plasma (etching) treatment step S3 of exposing an organic layer formed on an object to be film-formed thereon to a plasma atmosphere in a vacuum, and an SiO_2-film-forming step S4 of forming a layer of an SiO_2 film on the organic layer of the object to be film-formed thereon in the vacuum.例文帳に追加

本発明方法は、成膜対象物上に設けられた有機層に対して真空中でプラズマ雰囲気に曝すプラズマ（エッチング）処理工程Ｓ３と、この成膜対象物の有機層上に真空中でＳiＯ_2膜層を形成するＳiＯ_2膜形成工程Ｓ４を有する薄膜形成方法である。 - 特許庁

To provide an electro-optical device for improving productivity by preventing a shading layer from electrifying, preventing defect of a semiconductor layer of a thin film transistor, and facilitating removal of particles of the surface of the shading layer, and to provide its manufacturing method, and electronic equipment using the electro-optical device.例文帳に追加

遮光層が帯電することを防止して薄膜トランジスタの半導体層の欠陥を防止すると共に、遮光層表面のパーティクルの除去を容易にして生産性を向上させることができる電気光学装置とその製造方法、およびその電気光学装置を用いた電子機器を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps to cast a polyimide precursor solution onto the outer surface of a core or molding the polyimide tubular product and deposit a metallic powder to the outer surface of the cast polyimide precursor moldings prior to conversion to an imide to obtain the metallic anchor layer 2 and form the metallic thin film layer 3 for electromagnetic induction heat generation on the surface of the metallic anchor layer 2 after conversion to the imide.例文帳に追加

製法は、ポリイミド管状物の成形用芯体の外面にポリイミド前駆体液をキャスト成形し、イミド転化させる前に金属粉体をポリイミド前駆体成形外面に付着させて金属アンカー層とし、その後イミド転化させたのち、表面に電磁誘導発熱用金属薄膜層3を形成する。 - 特許庁

To provide a small, thin wiring board which can secure the reliability of a buried component and the reliability of connection with a conductive layer including the component, a component connection and a wiring line and which also can secure an adhesion between the conductive layer and an insulating layer and can attain high-density wiring, and also a method of manufacturing the wiring board.例文帳に追加

埋設された部品の信頼性および部品と部品接続部及び配線を含む導電層との接続の信頼性も確保でき、かつ導電層と絶縁層の密着性を確保できるとともに、高密度配線が可能な小型で薄型の配線基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal blackening treatment method capable of easily forming a blackened layer for preventing the reflection of light emitted from the screen of a display and the incident light from the outside for improving the viewability of the display screen, and forming a thin blackened layer of superior adhesion at the base-metal layer interface.例文帳に追加

ディスプレイの表示面からの出射光や外部からの入射光の反射を防止して、表示画面の視認性を向上させることを目的とする黒化層の形成が容易であり、且つ基材−金属層界面の密着性に優れた薄い黒化層を形成することが可能な金属黒化処理方法を提供する。 - 特許庁

Further, since the porous films are made directly on the distribution board by a film-forming method, film thickness of the diffusion electrode layer can be freely controlled, fuel battery cells can be made thin, and therefore, a whole device can be made compact.例文帳に追加

また、成膜法により多孔質膜を直接配流板上に形成するため拡散電極層の膜厚を自在に制御でき、燃料電池セルを薄肉化でき、装置全体を小型化できる。 - 特許庁

To film-deposit a thin film for a magnetic recording medium, having superior step coverage and corrosion resistance/wear resistance by an FCVA (filtered cathodic vacuum arc) method even on a magnetic recording layer on which comparatively large surface ruggedness is formed.例文帳に追加

比較的大きい表面凹凸が形成される磁気記録層上であっても、ＦＣＶＡ法により、ステップカバレッジ、および、耐食性・耐摩耗性に優れた磁気記録媒体用薄膜を成膜できる。 - 特許庁

To provide an electroless plating method for reinforcing a thin film part in a seed layer, surely filling copper or the like into fine recesses having a high aspect ratio, and further improving flatness of a plated film to improve the throughput.例文帳に追加

シード層の薄肉部を補強したり、高アスペクト比の微細窪みの内部に銅等を確実に埋め込むことができ、更にはめっき膜の平坦度を向上させてスループットを向上できるようにする。 - 特許庁

As a method for forming the auxiliary layer 6, the fiber ribbon 1 is coated with resin having an adhesive property and a curing property for fixing, or a thin plate is adhered to the fiber ribbon 1.例文帳に追加

補助層６を形成する方法としては、接着性及び硬化性を有する樹脂を光ファイバテープ心線１に塗布して固着させたり、薄板を光ファイバテープ心線１に接着する方法がある。 - 特許庁

To provide a perpendicular magnetic recording medium in which a magnetic recording head surfaces stably, and which is high in durability and reliability and further has a thin protective layer excellent in an electromagnetic conversion property, and its manufacturing method.例文帳に追加

磁気記録ヘッドが安定に浮上し、耐久性、信頼性が高く、更に、電磁変換特性に優れた、薄い保護層を有する垂直磁気記録媒体ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a direct bonded wafer capable of inexpensively manufacturing the direct bonding wafer of high quality which has a thin-film layer with high uniformity in film thickness, without generating voids or blisters on bonding interface.例文帳に追加

接合界面にボイドやブリスターが発生せず、膜厚均一性が高い薄膜層を有する良質の直接接合ウエーハを低コストで製造できる直接接合ウエーハの製造方法を提供する。 - 特許庁