「two dimensional pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

In the fuel cell having an electrolyte layer between a pair of electrodes, at least one of two interfaces among electrolyte layers and electrodes has a three-dimensional microscopic configuration with a predetermined pattern formed.例文帳に追加

一対の電極間に挟持された電解質層を有する燃料電池において、電解質層と電極との間の２つの境界面の少なくとも一方が、所定のパターンをなす微視的な３次元構造を有する。 - 特許庁

An organic pigment element is used as the nonlinear optical element to acquire a two-dimensional pattern of autocorrelation waveform information to waveform information and determines the pulse width through the use of a reticule as a scale reference on the basis of the autocorrelation waveform information.例文帳に追加

非線形光学素子として、有機色素素子を用い、自己相関波形情報対波長情報の２次元パターンを得、自己相関波形情報からスケール基準としてのレチクルを用いてパルス幅を決定する。 - 特許庁

Moreover, the information of the separating section 2, the built-in clock 3, and the device unique information providing section 4 are collected up by an additional information synthesis section 5, and this additional information is encoded by a two-dimensional code section 6 or a pattern code section 7.例文帳に追加

また、付加情報合成部５により分離部２、内臓時計３、装置固有情報提供部４の情報がまとめられ、この付加情報を二次元コード部６又は地紋コード部７がコード化する。 - 特許庁

A method is described comprising the steps of a) providing a substrate 1, b) providing a first epitaxial semiconducting layer 3 on top of the substrate 1, and c) forming a one- or two-dimensional repetitive pattern, each part of the pattern having an aspect ratio in the range from 0.1 to 50.例文帳に追加

ａ）基板１を用意するステップと、ｂ）第１エピタキシャル半導体層３を基板１の上に設けるステップと、ｃ）１次元または２次元の繰り返しパターンを形成するステップと、を含み、パターンの各部分が、０．１〜５０の範囲のアスペクト比を有するようにした方法を開示する。 - 特許庁

To decrease uneven resolution and density caused by errors in relative positions of drawing heads and installation angles thereof and by influences of pattern distortion or the like in an image drawing apparatus and an image drawing method for forming a desired two-dimensional pattern on a drawing surface by using a plurality of drawing heads.例文帳に追加

複数の描画ヘッドを用いて所望の２次元パターンを描画面上に形成する描画装置および描画方法において、描画ヘッド間の相対位置および相対取付角度の誤差や、パターン歪み等の影響による、解像性や濃度のむらを軽減する。 - 特許庁

In the two-dimensional code, a first specific pattern 2 is arranged at a prescribed corner part 5a of a rectangular area, and second specific patterns 3, 4 are arranged adjacent to first boundary parts 6a, 6b in contact with the first specific pattern 2 in the boundary part 6 of the rectangular area.例文帳に追加

二次元コード１は、第１の特定パターン２が矩形領域の規定の角部５ａに配置されると共に、矩形領域の境界部６のうち、第１の特定パターン２が接する第１境界部６ａ、６ｂに隣接して第２の特定パターン３、４が配置されている。 - 特許庁

The superconductive tunable filter has a resonator pattern 2 formed of a two-dimensional figure on a dielectric base substrate 1 by using a superconductive material, a dielectric 3 disposed opposite above the resonator pattern 2, and a mechanism which moves up and down a support rod 4 holding the dielectric 3 atop by displacing the piezoelectric element 7.例文帳に追加

誘電体ベース基板１上に超伝導材料で形成された２次元図形からなる共振器パターン２と、共振器パターン２の上方に対向して位置する誘電体３と、先端に誘電体３を保持した支持棒４をピエゾ素子７の変位で上下させる機構とを備える。 - 特許庁

Multipliers 32R, 32G, 32B multiply gain factors R_GAIN, G_GAIN, B_GAIN in response to a two-dimensional gradation pattern generated from a pattern generating section 31 with image signals Rin, Gin, Bin obtained by imaging an object respectively to reduce a contrast difference of an image indicated by the image signals.例文帳に追加

被写体を撮像して得られた画像信号Ｒin，Ｇin，Ｂinにパターン発生部３１により発生される２次元のグラデーションパターンに応じたゲイン係数R_GAIN，G_GAIN，B_GAINを乗算器３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂで乗じることにより、上記画像信号により示される画像の明暗差を低減させる。 - 特許庁

Subsequently, by using an Ar ion etching technology, in addition to normal lithographic technology, the Ni thin film 3 is formed into an Ni thin-film pattern 4 of a diffraction grating pattern by a two-dimensional photonic crystal, having a basic unit of a triangle of one piece of 230 nm with a column diameter of 100 nm (Fig.1(b)).例文帳に追加

続いて、通常のリソグラフィ技術にＡｒイオンエッチング技術を用いて、Ｎｉ薄膜３を、直径１００ｎｍの柱径で、一片が２３０ｎｍの三角形を基本単位とする２次元フォトニック結晶による回折格子パターン状のＮｉ薄膜パターン４に形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁

To adequately form an image corresponding to a pattern on the surface of an object OB to be machined when forming the pattern on the surface of a cylindrical tubular object OB to be machined having a very small diameter by the laser beam machining by using a two-dimensional spatial light modulator.例文帳に追加

直径が非常に小さい円筒パイプ状の加工対象物ＯＢの表面に２次元空間光変調器を用いてレーザ加工による模様を形成する際、前記模様に対応した像が加工対象物ＯＢの表面に適正に形成されるようにする。 - 特許庁

In the pattern for evaluation, namely the periodic pattern, where unit patterns in a prescribed shape are disposed in a two-dimensional array shape, the unit patterns in a plurality of prescribed columns cause size deviation and/or position deviation, and the amount of the size deviation and/or position deviation is identical.例文帳に追加

所定形状の単位パターンが２次元配列状に配置された周期性パターンであって、所定の複数の列の前記単位パターンが、サイズずれまたは／および位置ずれを起こしており、かつ、そのサイズずれまたは／および位置ずれの量は同一であることを特徴とする評価用パターン。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing an omnidirectional antenna of which axes orthogonally cross, by providing two substrates on which a planar loop coil and one part of two three-dimensional loop coils are formed by a laminated pattern, and a connection means for connecting the laminated patterns formed on respective substrates.例文帳に追加

平面ループコイル及び２つの立体ループコイルの一部を積層パターンにより形成した２枚の基板と、各基板に夫々形成された積層パターン間を接続する接続手段と、を備えることにより、軸が直交した無指向性アンテナを容易に製造する方法を提供する。 - 特許庁

Further, a part of the long flexible recording medium stretched into a plane, by keeping the tension constant in the part of medium put across the adjacent two rollers 30, 32 with a tension setting means 68 is subjected to a drawing process with a two-dimensional pattern by a drawing unit 48.例文帳に追加

さらに、張力設定手段６８で、隣接する２個のローラ３０、３２間に掛け渡されている部分の張力を一定に保つことにより平面的に張架させた長尺の可撓性記録媒体の部分に、描画ユニット４８で、二次元のパターンで描画処理を行う。 - 特許庁

The method of forming the two-dimensional mask pattern on the substrate (1) comprises (a) printing a non-electrically conductive material (2) on the substrate in a coarse version of the required mask patterns (3A to 3D) and (b) selectively ablating a portion (3B) of the material using a laser to refine the coarse pattern to form the desired mask pattern.例文帳に追加

基板（１）上に二次元マスクパターンを形成する方法は、（ａ）非導電性材料（２）を所要のマスクパターン（３Ａ〜３Ｄ）の粗いバージョンで基板上に印刷することと、（ｂ）所望のマスクパターンを形成するために、粗いパターンの精度を高めるために、レーザを用いて、材料の一部（３Ｂ）を選択的に融解除去することと、を備える。 - 特許庁

The method is characterized by including: a step in which a porous body having three-dimensionally continuous cavities is exposed to a three-dimensional wiring pattern having at least two different two-dimensional patterns in the incident direction of light; and a step in which cavities of the exposed part of the porous body after exposed or unexposed part are selectively filled with a conductive material or its precursor.例文帳に追加

三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

The two-dimensional web material made of the layer material contains a non-woven material and first and second discrete regions, which are arranged relative to one another in such a way that they form a pattern in the form of inverted polygons and that the two-dimensional layer material has a Poisson's ratio of <0.2 during expansion in the machine direction.例文帳に追加

層状材料から作られた二次元のウェブ材料であって、該二次元のウェブ材料は、不織材料と第１の分離領域と第２の分離領域とを含み、それらが、反転した多辺形の形状のパターンを形成し、かつ、該二次元の層状材料が、機械方向への伸張の間に０．２未満のポアソン比を有するように互いに対して配列されている、二次元のウェブ材料。 - 特許庁

This signal processing method for detecting the periodic defects existing in a specimen partitions measured signals including the periodic defects with a plurality of periods, at a fixed interval, arrays the partitioned measured signals along a direction orthogonal to a data sequential direction of the measured signals to prepare a two-dimensional data sequence, and pattern-processes the two-dimensional data sequence to recognize the defects.例文帳に追加

被検体に存在する周期性欠陥を検出するための信号処理方法であって、前記周期性欠陥を複数周期以上含んだ測定信号を、一定間隔で区切り、前記測定信号のデータ列方向に対して直交する方向に、前記区切った測定信号を並べて２次元データ列を作成し、その２次元データ列をパターン処理して欠陥を認識する。 - 特許庁

A mounting board 10 is provided with: an electrode land 11 to which an electrode pad 21 of a mounting component 20 is solder connected; a conductor pattern 14 having a two-dimensional shape arranged on the periphery of the electrode land 11; and a sub land 12.例文帳に追加

実装基板１０は、実装部品２０の電極パッド２１が半田接続される電極ランド１１と、この電極ランド１１の周囲に配置され二次元形状を有する導体パターン１４と、サブランド１２とを備える。 - 特許庁

When a retry function is decided as "available" in case a CPU 21 decides the recognition error on the basis of a result of recognition processing carried out by imaging an image of a two-dimensional bar code BC, necessary illumination pattern change and luminance change are performed.例文帳に追加

２次元バーコードＢＣを撮像して認識処理した結果に基づいてＣＰＵ２１が認識エラーと判断した場合に、リトライ機能が「有り」と判断した場合には、必要な照明パターンの変更及び輝度の変更をする。 - 特許庁

The marker comprises a pattern 12, capable of identifying a specific position on the two-dimensional image in the digital camera; and a reflecting mirror 14 that is positioned at a specified position, having resolution that is lower than that of the laser radar device, and laser reflectance that is higher than those of other objects.例文帳に追加

マーカは、デジタルカメラの二次元画像上で特定位置の識別が可能な模様１２と、特定位置に位置しレーザレーダ装置の分解能より小さくかつ他の物体よりレーザ反射率が高い反射板１４とからなる。 - 特許庁

A magnetic area 13 is formed where 24 magnetic substances M are arranged on the floor surface in a predetermined pattern with a binary maximum length linearly recurring sequence corresponding to the number of magnetic sensors 5-8 of a forklift 1 is arranged on a two-dimensional plane.例文帳に追加

フォークリフト１の磁気センサ５〜８の個数に対応した線形最大周期列の２値の数列を２次元平面に配置した所定のパターンで床面上に２４個の磁性体Ｍが配列された磁性エリア１３が形成されている。 - 特許庁

A gradation pattern based on second data relating to security of predetermined image data and detailed data indicating the details of an image specific for the image data is represented in a two-dimensional code based on first data relating to the security of the image data.例文帳に追加

所定の画像データのセキュリティに係る第２データ及び該画像データの固有画像の詳細を示す詳細データに基づく濃淡パターンを、前記画像データのセキュリティに係る第１データに基づく２次元コードに表す。 - 特許庁

To acquire accurately and precisely image data when observing and measuring an image projected onto a base body with a photosensitive agent applied thereto, by using an image sensor, in a pattern drawing device using a mirror device in which minor mirrors are arranged in two dimensional manner.例文帳に追加

微少ミラーを２次元配列したミラーデバイスを用いたパターン描画装置において、感光剤の塗布された基体上への投影像をイメージセンサで観察・測定する際に、正確かつ精細に画像データを取得する。 - 特許庁

A control unit of the hub grasps the positions of the plurality of nodes as destinations of light transmission, recognizes a communication speed required for communication from each of the nodes, and instructs an SLM unit 13 to output an optical pattern indicating a two-dimensional strength distribution.例文帳に追加

ハブの制御部は、光の送出先である複数のノードの位置を把握するとともに各ノードからの通信により必要な通信速度を認識し、２次元的な強度分布を表す光パターンをＳＬＭユニット１３に指示する。 - 特許庁

Reflectors 3-1 and 3-2 are mounted as detection targets at predetermined positions of an object and reflect the two-dimensional pattern light radiated from the azimuth detector 2 into a direction opposite to the direction in which the light has been radiated.例文帳に追加

反射体３−１および３−２は、物体の所定の箇所に検出対象として取り付けられ、方位検出器２から放射された２次元パターンの光を、入射された方向と同一方向に光を反射する。 - 特許庁

A vehicle control system 30 performs two-dimensional scan of the followed vehicle 5 by a laser radar 2, recognizes a position and relative angle of the followed vehicle 5 by matching the result with a model pattern, and performs following travel to the followed vehicle 5.例文帳に追加

車両制御システム３０は、レーザレーダ２によって被追従車両５を２次元走査し、その結果をモデルパターンとマッチングして被追従車両５の位置と相対角を認識し、被追従車両５に追従走行する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a two-dimensional pattern by simultaneously forming a plurality of quantum dots on a solid surface with laser irradiation and making the structure of quantum dots periodic, and a device structure and a device fabricated by using the method.例文帳に追加

レーザー照射により、固体表面に複数の量子ドットを同時に形成し、かつ、量子ドットを周期構造化させて２次元パターンを製造する方法及びこの方法により作製したデバイス構造並びにデバイスを提供する。 - 特許庁

A value coding section 105 applies two-dimensional image coding to the combined image, an image layout designation coding section 108 codes a layout pattern of image information, and a frame number coding section 110 codes frame numbers denoting the combined order.例文帳に追加

値符号化部１０５は，結合画像を２次元画像符号化し，画像配置指定符号化部１０８は，画像情報の配置パターンを符号化し，フレーム番号符号化部１１０は，結合した順序を示すフレーム番号を符号化する。 - 特許庁

Convolutions between arbitrary regions in a partially transmitted image and a plurality of the two-dimensional wavelet filters are calculated and it is decided that the region is filled with the dot pattern corresponding to the wavelet filter by which the maximum convolution is given.例文帳に追加

そして，透かし入り画像中の任意の領域と複数の二次元ウェーブレットフィルタとのコンボリューションを計算し，コンボリューションが最大となる二次元ウェーブレットフィルタに対応するドットパターンがその領域に埋め込まれていると判断する。 - 特許庁

To provide a laser marking device and a laser marking method capable of directly marking visible information including two-dimensional codes generated based on various kinds of data including sound or the like as a multi-colored precise marking pattern on a surface of a food.例文帳に追加

音声等を含む様々なデータに基づき生成された２次元コードを含む可視情報を、多色で精密なマーキングパターンとして、食品の表面に直接マーキング可能なレーザマーキング装置及びレーザマーキング方法を提供する。 - 特許庁

Then, size of a minute gap existing at the contact part is calculated based on the integrated X-ray intensity, an intensity pattern to be calculated from the two-dimensional X-ray intensity distribution image is simultaneously analyzed to estimate the surface shape.例文帳に追加

そして、この積算Ｘ線強度に基づいて接触部位に存在する微小間隙の大きさを求めるとともに、２次元Ｘ線強度分布画像から求まる強度パターンを解析して表面形状を推定する。 - 特許庁

A recognition device 1 is provided with an illumination means 4 which throws illuminating light, an optical sensor 5 which picks up the image of reflected light from a reflecting optical element 2 as a two-dimensional pattern, a signal processing part, an A-D converter, a memory, CPU, etc.例文帳に追加

認識装置１は、照明光を照射する照明手段４、反射光学素子２からの反射光を２次元パターンとして撮影する光学センサー５をはじめ、信号処理部、Ａ−Ｄ変換器、メモリ、ＣＰＵなどを備える。 - 特許庁

The two-dimensional grating pattern is formed of a number of projections such as polyhedrons, semi-spherical ones or circular ones, and has a period shorter than the half-wave length of light, whereby reflection of light is decreased and the light emission efficiency of the display is increased.例文帳に追加

２次元グレーティングパターンは多数個の突起物、例えば多面体、半球形、円形などから形成され、光の半波長より短い周期を有し、光の反射を減少させ、ディスプレイの発光効率を増加させる。 - 特許庁

A light shielding film 1b is partially removed to dispose openings 1c for hole pattern transfer and frame-like openings 1d which surround the respective openings 1c in a two-dimensional way on a mask substrate 1a constituting a phase shift mask 1.例文帳に追加

位相シフトマスク１を構成するマスク基板１ａ上に、遮光膜１ｂの一部を除去することで孔パターン転写用の開口部１ｃと、その周囲を平面的に取り囲むように枠状の開口部１ｄとを設けた。 - 特許庁

To select and determine the best measurement result, this device 1 includes two stripe pattern projection sections 2a, 2b for projecting stripe patterns to a measurement region 10 of an object to be measured, an imaging section 3, and a three-dimensional measurement processing section 4 for finding a three-dimensional shape of the measurement region 10 based on data from the imaging section 3.例文帳に追加

本装置１は、最良の計測結果を選択して決定するため、被計測物体の計測領域１０に縞パターンを投影する２つの縞パターン投影部２ａ，２ｂと、撮像部３と、撮像部３からのデータを基に計測領域１０の３次元形状を求める３次元計測処理部４とを備える。 - 特許庁

The two-dimensional bar code has a rectangular code pattern formed by arranging rectangular unit modules having a different optical characteristic in a plane without interval, and the unit module is divided into black framed macro modules and white framed macro modules arranged each other in the rectangular code pattern storing a data code word of a fixed data length.例文帳に追加

二次元バーコードは、光学特性の異なる矩形の単元モジュールが平面で無間隔的に配列された矩形のコードパターンを有し、単元モジュールは、固定データ長のデータコードワードを記憶した矩形のコードパターンにおいて、交互に配列された黒枠マクロモジュールと白枠マクロモジュールとに分割されている。 - 特許庁

The superconductive filter device includes a dielectric base substrate (11); a resonator pattern (12), in a two-dimensional graphic shape formed from superconducting materials on the dielectric base substrate; a dual-mode generation conductor (27) held above the resonator pattern; and a mechanism (18) for moving a position of the dual-mode generating conductor.例文帳に追加

超伝導フィルタデバイスは、誘電体ベース基板（１１）と、前記誘電体ベース基板上に超伝導材料で形成された２次元図形型の共振器パターン（１２）と、前記共振器パターンの上方で保持されるデュアルモード発生用導体（２７）と、前記デュアルモード発生用導体の位置を移動させる機構（１８）とを有する。 - 特許庁

The mask making apparatus is characterised in that a partial mask pattern 110 formed by a two-dimensional micromirror 106 is moved by an XY stage to produce an enlarged mask pattern 111, which is reduced and projected by a reduction projecting optical system 102 onto a mask substrate 112 disposed in pure water 114 at 4°C.例文帳に追加

本発明では、二次元微小ミラー１０６によって形成された部分マスクパターン１１０をＸＹステージ１０９によって移動することで、拡大マスクパターン１１１が形成でき、これが縮小投影光学系１０２によって、水温４℃の純水１１４中に配置されているマスク基板１１２上に縮小投影される。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、２層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Pattern light is irradiated to a curved surface bent by press working of sheet metal (102), and a reflected image of the pattern light is converted into a power spectrum, through the use of a two-dimensional FFT (102-103) to extract coordinates of each peak value in the row direction and in the column direction of its low-frequency area by row units and by column units (105).例文帳に追加

プレス加工により曲げ加工された曲面にパターン光を照射し（１０２）、そのパターン光の反射像を２次元ＦＦＴを用いてパワースペクトルに変換し（１０２〜１０３）、その低周波数域の行方向と列方向の各ピーク値の座標を行単位、列単位で抽出する（１０５）。 - 特許庁

Scanning transmission type electronography is digitalized to be taken in a computer and subjected to digital two-dimensional Fourier transform to form a diffraction pattern and one or a plurality of diffraction spot positions in the diffraction pattern are calculated to be compared with the position of a diffraction point in the case of an ideal crystal structure to detect the strain of a crystal lattice.例文帳に追加

走査透過型電子顕微鏡像をデジタル化しコンピュータに取り込み、デジタル２次元フーリエ変換をすることによって回折パターンを形成し、回折パターン中の一又は複数の回折スポット位置を求め、理想的な結晶構造の場合の回折点の位置と比較することで、結晶格子の歪みを検出する。 - 特許庁

Either or both algorithms are used, in a method for determining incident polarization by fitting mathematically a pattern shape or matching with a database or in a method for determining incident polarization from a frequency component acquired by performing Fourier transform of the pattern shape, as an analysis procedure of a two-dimensional intensity distribution pattern observed by a light-receiving element array.例文帳に追加

受光素子アレイによって観測される２次元強度分布パターンの解析手法として、パターン形状を数学的にフィッティングするか、またはデータベースとのマッチングを行うことにより入射偏波を求める方法、もしくはパターン形状をフーリエ変換し、その周波数成分から入射偏波を求める方法の、どちら一方または両方のアルゴリズムを用いる。 - 特許庁

To solve the problem that a conventional apparatus cannot cope with distortion and rotation of two dimensional digital pattern (page data), a position of a bit unit can not be specified, aberration caused by thickness, unevenness, wobbling, eccentricity, or the like become rotation, curve, distortion of data.例文帳に追加

従来装置では、２次元デジタルパターン（ページデータ）の歪みや回転には対応できず、ビット単位の位置を特定することができず、光ディスクの厚みムラや、面ブレ、偏心などにより生じた収差がデータの回転や湾曲、歪みとなって生じる。 - 特許庁

To provide a laminated body for laser printing which can correspond to various required specifications required as a packaging material, and also, on which a precise pattern of a two-dimensional bar code such as GS 1 Data Bar can be laser-printed with a high contrast, and of which the manufacturing cost is low.例文帳に追加

包装材料に求められる様々な要求仕様に対応でき，かつ，ＧＳ１ＤａｔａＢａｒ等の2次元バーコードなどの細密な図柄をコントラスト高くレーザー印刷できる製造コストの安価なレーザー印刷用積層体を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method, by which an exposure pattern of a large area can be produced in any two-dimensional arrangement by accurately controlling the start point of exposure of adjoining exposure marks on a resist layer covering a roll.例文帳に追加

ロールを被覆するレジスト層上で隣接する露光マークの露光開始点を正確に制御し２次元的に自在な配置に大面積の露光パターンを作製可能な露光装置及び露光方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁